ナノテク部会 第64回研究会
テーマ：表面分析技術の最新動向
表面の状態や性質は，材料の機能発現を大きく作用する重要な情報であり，マイクロ～ナノスケールにおける表面構造や特性を詳細に分析することは，機能性のメカニズム解明や設計に必要不可欠なものです。そのような必要性を受け，各種の分析測定手法も常に進化を続けています。本研究会では，表面の微細構造・状態・特性を明らかにする最新の測定技術について，4つのテーマを例にとり，実際の分析事例を交えてその最先端を解説します。
| 主 催 | (一社)表面技術協会 ナノテク部会 | ||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 協 賛 | (公社)日本表面科学会，(公社)日本セラミックス協会， 日本フラックス成長研究会，日本結晶成長学会 新技術・新材料分科会，信州大学AGENDA | ||||||||||||||
| 日 時 | 平成28年6月22日（水）13：30～ | ||||||||||||||
| 会 場 | 東京都市大学 世田谷キャンパス 1号館13N教室
http://www.tcu.ac.jp/access/index2.html | ||||||||||||||
| 参 加 費 （消費税含む） |
| ||||||||||||||
| 申込方法 | 参加希望の方は，｢ナノテク部会 第64回研究会 参加希望｣と明記のうえ，参加者1名につきそれぞれ，（1）氏名，（2）勤務先（所属），（3）会員種別（ナノテク部会・会員，表協・会員，協賛学協会・会員，その他（一般，大学・公的機関，学生）），（4）電子メールアドレス，（5）意見交換会への参加の有無，（6）郵便物（有料の場合，請求書等）送付先，をご記載のうえ，下記あてに電子メールまたはFaxでお申し込みください。 | ||||||||||||||
| 申 込 先 問 合 先 | 「ナノテク部会」事務局・上野 E-mail：ueno912@sfj.or.jp，TEL：03-3252-3286，FAX：03-3252-3288 |
プログラム
| 13：30～ |
電子顕微鏡搭載の軟X線分光法による数nm～数100nmスケールの深さ状態分析
日本電子(株) 高橋 秀之
|
| 14：20～ |
最新表面分析装置とクラスターイオン銃技術
アルバック・ファイ(株) 星 孝弘
|
| 15：10～ |
休憩
|
| 15：25～ |
大気圧SEMおよびSEMの最新技術
(株)日立ハイテクノロジーズ 多持隆一郎
|
| 16：15～ |
高精度表面形状計測とアプリケーション
(株)日立ハイテクサイエンス 柳川 香織
|
| 17：30～ |
意見交換会
|