第73回表面技術アカデミック研究会討論会
テーマ：表面技術に役立つ放射光・中性子線
| 主 催 | (一社)表面技術協会 | |||||||||
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| 協 賛 |
(公社)電気化学会，(公社)日本表面科学会，(一社)日本表面処理機材工業会， 全国鍍金工業組合連合会（予定）ほか |
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| 日 時 | 平成28年11月24日（木）10：00～17：00 | |||||||||
| 会 場 |
早稲田大学 西早稲田キャンパス 55号館N棟1階 大会議室
http://www.sci.waseda.ac.jp/access/ |
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| 交通案内 |
JR山手線，東京メトロ東西線，西武新宿線「高田馬場駅」下車 徒歩15分 東京メトロ副都心線 「西早稲田駅」下車，出口3（早大理工方面）がキャンパス直結 |
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| 講 演 |
10：00～11：30 SPring−8における表面技術分野の放射光産業利用事例について
(公財)高輝度光科学研究センター 産業利用推進室 佐藤 眞直
11：30～12：30 休 憩
12：30～13：10 中性子線を用いた材料中の水素の観測
高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所 大友 季哉
13：10～13：50 リチウムイオン電池の解析技術
(株)日産アーク デバイス解析部 今井 英人
13：50～14：00 休 憩
14：00～14：40 単結晶電極上に形成させた異種金属超薄膜のその場構造追跡
お茶の水女子大学 人間文化創成科学研究科 近藤 敏啓
14：40～15：20 次世代エレクトロニクス材料のための界面構造解析
(国研)物質・材料研究機構 MANAナノマテリアル分野 長田 貴弘
15：20～16：00 電析プロセスにおける核生成および成長
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構 福中 康博
16：00～16：10 休 憩
16：10～17：00 総合討論
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| 定 員 | 100名（申込順に受付，定員になり次第締切） | |||||||||
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参 加 費
（消費税含む） |
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| 申込方法 |
参加申込書（EXCEL）に必要事項をご記入のうえ，下記の申込先に電子メール（添付ファイル）にてご送付ください。
※参加費のお支払いには，郵便振替・銀行振込・現金書留をご利用いただけますが，事務処理上，郵便振替でのお支払いをご検討ください。なお，請求書が必要な方は参加申込書をご送付の際，その旨を記してください。
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| 振 込 先 |
郵便振替口座：00130-2-123987 一般社団法人表面技術協会 銀行振込口座：三菱東京UFJ銀行 室町支店 普通 No.0360637 一般社団法人表面技術協会
※申込後の取り消しや不参加の場合にも参加費の払い戻しはいたしません。
その場合には，代理の方のご出席をお願いいたします。 |
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| 申 込 先 |
(一社)表面技術協会 第73回表面技術アカデミック研究会討論会 〒101-0041 東京都千代田区神田須田町2-7-1 TEL：03-3252-3286，FAX：03-3252-3288，E-mail：info@sfj.or.jp |