めっき部会12月例会

－工業高等専門学校における表面処理技術の研究－
日　　時平成28年12月6日（火）13：00～17：45
会　　場HORIBA東京分析センター（東京都千代田区神田淡路町2-6 神田淡路町二丁目ビル）
講　　演
1．ウェットプロセスによる機能性磁性薄膜の形成
奈良工業高等専門学校　藤田　直幸
2．固－液系反応の速度論－ウェットエッチングを中心として－
八戸工業高等専門学校　松本　克才
3．材料表面のぬめりとバイオフィルム
鈴鹿工業高等専門学校　兼松　秀行
定　　員80名（先着順〈部会会員優先〉）
参 加 費
（消費税含む）
めっき部会・会員1社2名迄　無料
表面技術協会・会員1名　5,000円
一般1名　7,000円
学生1名　3,000円
シニア優遇制度登録者無料（ただしテキストが必要な場合は2,000円）
申込方法参加希望の方は，｢めっき部会12月例会参加希望｣と明記し，
（1）氏名，（2）所属，（3）住所，（4）会員種別（部会会員，表協会員，一般，学生，シニア），をご記入のうえ，めっき部会事務局・上野（E-mail：ueno912@sfj.or.jp）までお申し込みください。折り返し参加券・会場案内図をお送りいたします。