関西支部:令和5年度第1回表面物性研究会

テーマ:高品位酸化物半導体薄膜の形成技術とその応用
WEBサイト 詳細・申込は支部WEBサイト( https://kansai.sfj.or.jp/ )を参照ください。
主  催(一社)表面技術協会 関西支部
協  賛(一社)エレクトロニクス実装学会 関西支部,近畿アルミニウム表面処理研究会,(公社)電気化学会 関西支部,電気鍍金研究会,ドライコーティング研究会(AMPI),(公社)日本材料学会 関西支部,(公社)日本表面真空学会 関西支部
日  時2023年6月16日(金)13:30~16:50
会  場(地独)大阪産業技術研究所 森之宮センター 3F大講堂ならびにZOOMによるオンライン配信
講  演
13:35~15:05 新しい酸化物の話:合成が難しい化合物をパワー半導体に応用する
立命館大学 総合科学技術研究機構  教授 金子 健太郎 氏
[概要]前半は,現在次世代のパワー半導体材料として注目されている,準安定相α型酸化ガリウム(α-Ga2O3)やp型伝導を示す酸化イリジウム(α-Ir2O3)の合成手法とデバイス応用についてお話をします。後半は,最近注目を集め始めているパワー半導体材料である二酸化ゲルマニウム(GeO2)薄膜の結晶成長手法と,そのポテンシャルについて講演する予定です。
15:20~16:50 金属酸化物の“ある”創り方:水の中から酸化物材料・ナノ構造体・素子を創る
豊橋技術科学大学 大学院工学研究科 機械工学専攻  教授 伊﨑 昌伸 氏
[概要]金属酸化物膜は,優れた光学的・電気的・磁気的性質から多種多様な機能性薄膜として活用され,気相や溶相を用いた種々の方法によって作成することができる。演者が検討してきた酸化物膜の水溶液電気化学反応を用いた“ある”直接形成方法について,研究開発の背景や端緒,プロセスの熱力学設計と材料系の展開と限界,さらにナノ構造体や太陽光エネルギー変換素子などの半導体素子への展開について,実例を引きながら概説する。
参 加 費
(消費税含む)
会員・協賛団体会員3,000円
一般5,000円
学生1,000円
申込締切6月12日(月)
定  員会場80名,オンライン100名
申込方法1)支部ホームページよりお申込みください。(推奨)
  https://kansai.sfj.or.jp/gyoji/busei/index.html
2)参加申込書をFAXにて関西支部事務局宛にご送付ください。
  ※参加費は当日受付でお支払い下さい。※現地参加の方も事前のお振込をお願いいたします。
申 込 先
問 合 先
(一社)表面技術協会関西支部 事務局(担当:石川,森)
E-mail:,TEL:075-781-1107,FAX:075-791-7659