(座長 渡辺 徹)
9:45 19A-2 TFB浴からのスズ電析に及ぼす分子量の異なるPG添加効果の電気化学的評価
(鈴鹿高専、三重工研*、名大工**)
○兼松秀行、野呂和孝、井上哲雄、国枝義彦、村上和美*、沖 猛雄**
10:00 19A-3(技) パラジウムめっきリードフレームにおける下地ニッケルめっきの曲げ特性に及ぼす析出条件の影響
(日立電線システムマテリアル研、日立電線電線工場*)
○珍田聡、秋野久則、米川拓哉*
10:15 19A-4 マイクロパターニングを利用した電析Niマイクロポイントの作製における添加剤の影響
(早大理工、早大材研*、早大理工総研**)
○須貝祐子、岡田康行、浅富士夫**、門間聰之*、逢坂哲彌、伊藤糾次
10:30 19A-5 Pd/Sn混合触媒を用いた銅のダイレクトプレーティングにおける導体化過程の検討
(早大理工･理工総研、メルテックス*、奥野製薬**)
○中本剛輔、飯塚 淳*、内藤和久**、本間敬之、逢坂哲彌
10:45 (休憩)
(座長 本間敬之)
11:00 19A-7 銀のデンドライト形成に対する重力効果
(ポリテクセンター秋田、科学技術振興事業団*)
○佐藤 誠、青柿良一*
11:15 19A-8 電析Cd膜の微細構造
(都立大工)
○宮崎真一、近沢正敏、渡辺 徹
11:30 19A-9 AlCl3-BPC融解塩中のAl電析とその腐食のQCM
(東北工大)
○目黒眞作、太田知彦、佐藤 圭、伊勢武一
11:45 19Ａ-10 金電極に吸着したチオ尿素のIR-RASその場観察
(北大院工)
結城憲子、○佐々木健、大塚俊明
12:00 休憩
13:00 会長あいさつ (司会 実行委員長 松永 利昭)
13:05〜14:05 特別講演･第49回武井記念講演会 ｢化学反応制御と固体表面｣
東北大学名誉教授 西山 於:2Ｆ 小ホール
14:05 （休憩）
(座長栗倉泰弘)
14:15 19Ａ-20 パルスめっき法によるCo-Fe-Cu/Cu多層膜の磁気抵抗効果
(東理大基礎工)
○植松利郎、末永倫平、湯本久美
14:30 19A-21 パルスめっき法によるCo-Fe-Ni-P多層膜の磁気特性と耐食性
(東理大基礎工)
○渡邊浩史、須川孝善、湯本久美
14:45 19A-22 FeBアモルファス電析膜の構造と磁気特性
(阪府高専、東北大通研*、阪市工研**、豊橋技科大***)
○藤田直幸、井上光輝*、荒井賢一*、伊崎昌伸**、藤原 裕**、榎本英彦**、藤井壽崇***
15:00 19Ａ-23 ホウ素添加による鉄−炭素合金電析膜の高靭性･高強度化
(阪市工研、関西大学*)
○伊崎昌伸、長谷川 史*、藤原 裕、石川正巳、山内英子*、榎本英彦
15:15 (休憩)
(座長 縄舟秀美)
15:30 19Ａ-25 ガラス基板上への無電解Co系磁性めっきにおける前処理の検討
(兵庫工技セ、姫路工大*、姫路工大院**)
○山岸憲史、曽我倫明**、西羅正芳、八重真治*、松田 均
*
15:45 19A-26 無電解めっき法における触媒活性化プロセスに対する溶存酸素と添加剤の影響
(姫路工大院、姫路工大*、兵庫工技セ**)
○曽我倫明、山岸憲史**、西羅正芳**、八重真治*、松田 均*
16:00 19A-27 無電解Co系磁性薄膜の耐環境性の評価
(姫路工大)
○本田則武、中村 薫、八重真治、松田 均
16:15 19A-28 無電解Ni-W-B合金めっき皮膜の耐酸耐食性の評価
(愛知工技セ、愛知工大(現朝日ソルベント)*、常滑窯技セ**)
○松田喜樹、野口裕臣、太田幸伸、青井良直*、久野 徹**
16:30 (休憩)
(座長 松村宗順)
16:45 19A-30 ポリイミド樹脂の表面改質を利用するDirect Metallizationに関する基礎的研究
(甲南大理、日本リーロナール*)
○西岡太郎、縄舟秀美、水本省三、清田 優*、日下 大*
17:00 19A-31 ポリイミド樹脂の表面改質を利用するCo合金薄膜の作製および磁気特性
(甲南大理、日本リーロナール*)
○田村 康、縄舟秀美、水本省三、清田 優*、日下 大*
17:15 19A-32 エタンチオール類を錯化剤および還元剤とする無電解金めっき
(大和化成、甲南大理*)
武内孝夫、○小橋康人、谷久保康人、縄舟秀美*、水本省三*
17:30 19A-33 エタンチオール類を錯化剤および還元剤とする無電解金めっきの析出機構
(甲南大理、大和化成研究所*)
○谷久保正人、縄舟秀美、水本省三、小橋康人*、武内孝夫*
17:45 19A-34 Co(U)を化合物を還元剤とする無電解銅めっき
(甲南大理、松下テクノリサーチ*、松下電子工業**)
○中尾誠一郎、縄舟秀美、水本省三、村上義樹*、橋本 伸**
18:15〜20:00 懇親会
(座長 杉村博之)
9:45 19B-2 マイクロ波常圧非平衡プラズマの解析と金属表面処理への応用
(埼玉大工)
○富松 学、清川和利、松岡宏之、熊谷 大、杉山和夫
10:00 19B-3 Ti-Ni形状記憶合金薄膜の超弾性効果
(金材技研)
○佐藤守夫、石田 章、武井 厚
10:15 19B-4 イオンプレーティングによる金・銅合金薄膜の特性
(山梨工技セ、山梨大工*)
○上篠幹人、勝又信行、田原政彦、児嶋弘直*
10:30 19B-5 RFマグネトロンスパッタリングによる金・アルミニウム合金薄膜の形成
(山梨工技セ、山梨大工*)
○勝又信行、田原政彦、児嶋弘直*
10:45 19B-6(技) 金属薄膜形成過程のシュミレーションに関する教育実践の試み
(秋田大工学資)
布田 潔、○山谷孝裕、松永利昭
11:00 (休憩)
(座長 馬場 茂)
11:15 19B-8 フッ化アルキルシラン単分子膜の作製と評価
(名大院工)
○牛山和哉、穂積篤、杉山博之、高井 治
11:30 19B-9 PVD薄膜−溶融高分子間の接触角の評価
(岡山県立大院、化繊ノズル製作所*、岡山工技セ**、岡山県立大***)
○原田尚樹、吉岡正登*、岡田 清、今川光教*、木村陸雄*、西田典秀**、本田和男***
11:45 19B-10 イオン注入による細胞接着制御
(理研、東理大理学*)
○鈴木嘉昭、中尾愛子、貝原 真、岩木正哉、黒飛紀美*、塚本桓世*
12:00〜13:00 休憩
13:00 会長あいさつ (司会 実行委員長 松永利昭)
13:05〜14:05 特別講演・第49回武井記念講演会 「化学反応制御と固体表面」
東北大学名誉教授 西山 於:2Ｆ 小ホール
14:05 (休憩)
(座長 高谷松文)
14:15 19B-20 グラッシイ・カーボンヘイオン注入したNaの深さ分布(T)
(理研、千葉工大*)
○岩木正哉、松永正隆*、寺島慶一*
14:30 19B-21 イオン注入によるガラス状炭素のDLC化(U)
(千葉工大、学習院大理学*、理研**)
○松永正隆、寺島慶一、渡辺 博*、岩木正哉**
14:45 19B-22(技) 金属膜上の極薄スパッタカーボン膜の化学構造と機械的耐久性
(秋田高度技研)
○千葉 隆、本多直樹、大内一弘
15:00 19Ｂ-23 Ｎ２−Ｃ２Ｈ２で前処理した超硬合金上へのダイヤモンド堆積(２)
(東理大理工)
○細川幸央、佐藤貴康、伊藤 滋、明石和夫
15:15 19B-24 超硬合金にコーティングしたダイヤモンド膜の応力状態の観察
(日本工大)
○竹内貞雄、村上正夫
15:30〜15:45 （休憩）
(座長 渡辺 修一)
15:45 19B−26 プラズマMOCVD法によるBN-C系ナノコンポジット膜の作製―BN−C組成の制御―
（東理大理工）
○藤塚裕樹、伊藤滋、明石和夫
16:00 19B−27 TiN皮膜における中間層 (Ti) 厚さの影響
(武蔵工大院、武蔵工大*、オーネックス**)
○国分智幸、杉山好弘*、中澤洋二*、白木尚人*、岡本伸一**
16:16 19B−28 AIP法によるTiN、CrNを被覆した金属材料の摩耗特性
(神鋼材研、豊橋技科大院*、豊橋技科大**)
○安永龍哉、佐藤俊樹、久米正志*、新家光雄**
16:30 19B−29 アークイオンブレーティング法により作製した酸素を含んだCrN皮膜の摩耗特性
(帝国ピストンリング、信州大工*)
○田中昭二、山下信行、清水保雄*
16:45〜17:00 （休憩 ）
(座長 上條 幹人)
17:00 19B−31 マイクロスクラッチ試験における付着損傷の高感度検出
(成蹊大工)
馬場 茂、 ○翠川 司、中野武雄
17:15 19B−32 RFスパッタリングにおけるGaSe薄膜の作製と基礎物性
(東京工業高専、東京農工大*)
○大山昌憲、米光広太郎*、大野秀樹
17:30 19B−33 RFスパッタリングにおけるGaSe薄膜の作製と基礎物性
(東京工業高専、東京農工大*)
○大山昌憲、渡辺 整*、大野秀樹
シンポジウム／低コスト化に対応するめっき、塗装技術 （座長 松坂 菊生）
9:45 19C−依頼講演 @ 自己析出型塗装法について
(日本パーカ)
荻野陸雄
10:30 19C−５ 自己析出塗装皮膜の析出機構
(日本パーカ総研)
○柳むつみ、軽部健志、須田 新
10:45 （休憩 ）
（座長 伊崎 昌伸）
11:00 19Ｃ−依頼講演 A 高速回転式めっき装置の機構と用途
(上村工業)
橋本滋雄
11:45 19Ｃ−10 バレルめっき化によるコスト低減
(東電化)
藤村和由、○田口祐樹
12:00 休憩
13:00 会長のあいさつ (司会 実行委員長 松永 利昭)
13:05〜14:05 特別講演・第49回武井記念講演会 「化学反応制御と固体表面」
東北大学名誉教授 西山 於：２Ｆ 小ホール
14:05 （休憩）
（座長 池田 延寿）
14:15 19Ｃ−依頼講演B
電気透析法によるめっき液のリサイクル
(秋田工技セ)
高橋 昇
15:00 （休憩）
（座長 福田 豊）
15:15 19Ｃ−依頼講演C塩酸溶液中の交流エッチングによるコンデンサ用アルミニウム箔の拡面化機構
（ＹＡＳＴ，山形工技セ*）
菅沼栄一、丹野祐司*
16:00 19Ｃ−27 アルミニウムの直流エッチングにおけるエッチピット形状の解析―トンネル形状に影響を及ぼす諸因子
(東理大理工)
小浦延幸、井出本 康、○三浦修平
16:15 19C ?28 疎水／親水性表面でのメゾポーラスシリカ膜の成長
(名大院工、名大理工総研*)
○杉村博之、原 啓介、高井 治、興戸正純*
16:30 （休憩）
(座長 田口 正美)
16:45 19Ｃ−30 リン酸塩皮膜生成とその場観察・評価
(名大院、名大工*、名大理工総研**、伯東四日市研***)
土屋竜司、○市野良一*、興戸正純**、中嶋淳一***
17:00 19 C−31 3価クロムイオンを用いた亜鉛の化成処理
(愛知工技セ)
○野口裕臣、吉野順子
17:15 19Ｃ−32(技) 化成処理により表面形状制御されたはっ水皮膜の特性
(日立機械研)
○室井克美、渡部義人、吉村保廣
17:30 19C−33 液相析出法によるマグネシウムへのシリカ被覆
(千葉工大)
○富田綾子、山下智司、増子 昇
17:45 19C−34 TiNi形状記憶合金薄膜のマイクロマシンニング
(北大院工)
○牧野英司、三ﾂ谷 隆、中辻多恵、柴田隆行
18:15〜20:00 懇親会
(座長 井手本 康)
10:00 19D−依頼講演 D 二液相界面電析法による薄膜の製造とその形態
(秋田大工学資源)
金児紘征
10:45 19D−6 二液相界面で生成するポリピロール薄膜の形態
(秋田大院、秋田大工学資源)
○宇圓田大介、金児紘征
11:00 （休憩 ）
（座長 金児紘征）
11:15 19D−8 アミン系錯化剤を含むアルカリ性浴からのCdTe電析
(京大院工)
山本真樹、本田 崇､○邑瀬邦明、平藤哲司、粟倉泰弘
11:30 19D−９ リチウム二次電池用薄膜材料の過渡応答
(東北大院工)
○高橋大樹、伊藤隆、西澤松彦、山田耕太、内田 勇
11:45 19D−10 アルカリ処理したLaNi5-yXy（X=Al、Co、Cr）系水素吸蔵合金の交流インピーダンス法による水素吸蔵反応の解析
(東理大理工)
小浦延幸、○武田賢一、井出本 康
12:00〜13:00 休憩
13:00 会長あいさつ (司会 実行委員長 松永 利昭)
13:05〜14:05 特別講演・第49武井記念講演会 「化学反応制御と固体表面」
(東北大学名誉教授 西山 ？行 於：２F 小ホール)
14:05〜14:15 休憩
14:15 19D−依頼講演E 原子・分子レベルで制御された電極反応 (東北大院工)
板谷謹悟
15:15 19D−24 有機溶媒中における遷移金属酸化物電極のIn Situ ラマン散乱
(東北大院工)
○伊藤 隆，阿部幸司，西澤松彦，内田 勇
15:30 19D−25 炭素系複合材料の低温プラズマ調整
(埼玉大工)
○宮崎浩一，李 林松， 高橋洋介，杉山和夫
15:45 19D−26 プラズマCVD法によるチタニアの表面改質とその光触媒特性
(埼玉大工)
瀬戸康徳，○下口智宏，阿部淳二，杉山和夫
16:00 19D−27 低温FHCプラズマ処理した固体材料表面の濡れ性評価
(埼玉工大工)
○矢嶋龍彦，田中 敦，岡部芳雄
16:15 19D−28電気接点寿命に対する表面化学的検討
(岩手大工，NEC東北* )
○細川新一，菅原一志，今井 潤，森 誠之，高橋幸治*，高橋克哉*
16:30 19D−29 水素分離膜用無電解Pd-Ag合金めっき浴の検討
(都産技研，成蹊大工* )
○水元和成，土井 正，上宮成之* 畠山紀子，岩渕一仁* 梶原昌高，小島紀徳*
16:45 19D−30 水素分離用多孔質アルミナ担持金属膜の作製
(成蹊大学工，都産技研*)
畠山紀子，加藤 亘，梶原昌高，○上宮成之，小島紀徳，水元和成*，土井 正*
18:15〜20:00 懇 親 会
9:30 20A−1 各種電極上への二重の電解重合膜の合成とその特性
（東理大理工* ，東理大界面研** ）
○前田芳美* ，湯浅 真*，** ，関根 功*，**
9:45 20A−2 二成分系電解重合膜の作製とその特性
（東理大理工* ，東理大界面研** ）
○岩野卓司* ，湯浅 真*，** ，関根 功*，**
10:00 20A−依頼講演 F トリアジンチオールを用いる“有機めっき”と応用技術
(岩手大工)
森 邦夫
10:45〜11:00 休 憩
11:00 20A−7 銅電析膜の微細構造に及ぼすグリシンの影響
(都立大院工)
○福室直樹，近沢正敏，渡辺 徹
11:15 20A−8 銅の電析形態に及ぼす加速度の影響
(都立大院，間瀬技術事*)
○廣田徹也，森崎重喜，間瀬一夫*
11:30 20A−9 LSI銅配線形成を目的としたエチレンジアミン錯体浴からの銅電析
(甲南大理，石原薬品*)
○北村浩司，縄舟秀美，水本省三，内田 衛*，岡田 隆*
11:45 20A−10 硫鉛銅めっき浴から形成したバンプの耐久強度低下メカニズムの解析
(デンソー，豊田中研*)
○真山恵次，井上和之*，阿部吉次，米山孝夫
12：00〜13：00 休憩
13：00 20A−15 電解法により作製したルテニウム電極の電気化学的挙動
（神奈川大工、田中貴金属*、EEJA**）
○蓬田浩一、冨樫慎次、小早川紘一、佐藤祐一、橋本一郎*、牛久栄作*、朝川隆信**、来田勝継**
13：15 20A−16 めっきスラッジの熱処理による六価クロムの生成挙動
（武蔵工大）
○小林大輔、星野重夫
13：30 20A−17 金型材に施した硬質クロムめっきの摩耗特性に及ぼすクラック封孔の影響
（武蔵工大院、武蔵工大*）
○半田和久、中澤洋二*、杉山好弘*、星野重夫*、白木尚人*
13：45 20A−18 双方向パルス電解法による鋼表面のFe-Cr 合金化処理
（京大工）
山本裕基、○平藤哲司、粟倉泰弘
14：00〜14：15 休憩
14：15 20A−20 アルカリ性溶液よりのNi-W合金の電析について
（武蔵工大）
○鬼頭鉄也、松本誠臣
14：30 20A−21 L―酒石酸錯体浴からのSn-Ag合金の電析に及ぼすエタンチオール類の影響
（甲南大理、大和化成*、石原薬品**）
○池田一輝、縄舟秀美、水本省三、武内孝夫*、青木和博**
14：45 20A−22 強酸性浴からのSn-Ag合金めっき
（大和化成、石原薬品*、甲南大理**）
○近藤哲也、小幡恵吾、武内孝夫、吉本雅一、青木和博*、縄舟秀美**
15：00 20A−23 複合めっき法によるSn-Ag合金皮膜の性質
（阪市工研、キザイ*）
○藤原裕、榎本英彦、楢原泰栄子*、船田清孝*
15：00〜15：30 休憩
15：30 20A−25 分子軌道法による無電解析出反応素過程の解析
（早大理工）
○大西正明、小松功、中井浩巳、本間敬之、逢坂哲彌
15：45 20A−26 分子軌道法によるTiCl3還元剤の反応機構の検討
（早大理工）
○小松功、大西正明、中井浩巳、本間敬之、逢坂哲彌
16：00 20A−27 無電解Ni-Pめっきの初期析出における高分散Pbの触媒効果
（山梨工技セ、山梨大工*）
○有泉直子、柴田正実*、古屋長一*
16：15 20A―28（技） 無電解金／ニッケルめっきテープキャリアの金ワイヤボンディング性
（日立電線システムマテリアル研）
○宮本宣明、珍田聡、吉岡修
16：30 20A−29（技） 無電解金／ニッケルめっきテープキャリアのはんだボール接合信頼性
（日立電線システムマテリアル研）
○珍田聡、宮本宣明、吉岡修
9：45 20B−２ ニッケルめっきセリサイト粉体の印刷法による塗布と発熱特性
（三信鉱工、中小企業事業団*、物質研**）
○鈴木伸治、黒崎諒三*、熊谷八百三**、剱持潔**
10：00 20B−3 Ni-セリサイト分散系プラスチック複合体の発熱特性の測定法
（中小企業事業団、三信鉱工*、物質研**）
○黒崎諒三、鈴木伸治*、熊谷八百三**、剱持潔**
10：15 20B−4 エポキシ樹脂／Ni-セリサイト複合皮膜の温度―電気抵抗特性
（物質研、中小企業事業団*、三信鉱工**）
○熊谷八百三、黒崎諒三*、鈴木伸治**
10：00 20B−5 カチオン型アクリル樹脂電着塗料の析出パラメータについて
（上村工業中研）
○福井洋一、土家和代、立川光石、鈴木祥一郎
10：45〜11：00 休憩
11：00 20B−7 超音波顕微鏡観察による塗膜の劣化評価
（東理大理工*、東理大界面研**、都立城東中小企業振興セ***）
○関山之郭*、アラセリモンサダ*、林慎一*、湯浅真*、**、関根功*、**、棚木敏幸***、広瀬徳豊***
11：15 20B−8 カルボキシル基含有高分子薄膜処理によるステンレス鋼の接着耐湿性評価
（東理大理工、東理大界面研、ABB*、工学院大工**）
○三科紀之、湯浅真、関根功、山辺秀敏*、天野晋武**
11：30 20B−9 Ni系無機潤滑皮膜を被覆した合金化溶融亜鉛めっき鋼板の諸特性
（NKK総研、NKK福山製鉄所*）
○櫻井理孝、山崎雄司、橋本哲、浦川隆之、井上茂*、稲垣淳
一
11：45 20B−10 酸露点腐食への溶射皮膜の効果
（日立造船、近畿大理工*、阪大接合科学研**）
○山田勝弘、宗宮賢治、友野裕、高橋虎郎、森本純司*、大森明**
13:00 20B-15 銅の腐食に対する重力効果
(ポリテクセンター秋田、科学技術振興事業団*)
○佐藤 誠 ，青柿良一 *
13:15 20Ｂ-16 銅の初期腐食皮膜の生成速度に対する研磨の影響
(北大院工)
伊藤 純，○佐々木健，大塚俊明
13:30 20Ｂ-17 処分容器候補材としての銅の溶解挙動に及ぼすアニオンの影響
(芝浦工大、芝浦工大院*)
今井八郎，○瀬野直也*
13:45 20Ｂ-18 塩化物水溶液中における純アルミニウム単結晶の分極挙動
(芝浦工大，芝浦工大院*)
今井八郎， 中田 毅，○福島啓人*
14:15 20Ｂ-20 ステンレス鋼製給湯用配管の継手部におけるすきま腐食について
(芝浦工大院，芝浦工大*)
○太田悟志，今井八郎*
14:30 20Ｂ-21 ガス瞬間湯湯器の排気凝縮水による熱交換器の腐食
(日本ガス機器検査協，芝浦工大*)
○古賀 仁，川崎巳喜男，今井八郎*
14:45 20B-22 カフェ酸アミド類含有二元共重合体の腐食抑制剤としての検討
(東理大理工*，東理大界面研**，オルガノ***)
○小村 亮*，湯浅 真*，**，関根 功*，**，和気敏治***，村田浩陸***，染谷新太郎***，宇田川
淳***
15:00 20B-23 ごみ焼却施設の酸露点腐食対策−鋼種選定
(日立造船)
○宗宮賢治，山田勝広，清水重雄，高橋虎郎
15:15〜15:30 休憩
15:30 20B-25 溶融亜鉛めっき鋼板の伊勢湾岸付近の大気暴露と複合サイクル試験との相関
(三重工研*，鈴鹿工専**，名大工***)
○村上和美*，兼松秀行**，井上哲雄**，国枝義彦**，市野良一***，沖 猛雄***
15:45 20B-26 メガフロート大型浮体モデルの腐食電位モリタリング
(日立造船)
○楠 和憲，清水重雄，平井靖男
16:00 20B-27 蒸着Zn-Mg めっき鋼板の湿潤環境における腐食挙動 (U)
(日新製鋼技研)
○吉崎布貴男，斉藤 実，出口武典
16:15 20B-28 酸性溶液環境におけるPdフリーはんだ合金の腐食挙動
(近畿大理工)
○森本純司，富江道雄、佐々木 洋
9:30 20C-1 GDSによるバリヤー型Alアノード酸化皮膜の分析−深さ分解能の検討
(慶大経，慶大理工*，東北大金研**)
○清水健一，G．M．Brown*，小林賢三*，幅崎浩樹
**
9:45 20C-2 GDSとSMSによるバリヤー型Alアノード酸化皮膜の分析−比較研究
(慶大理工，東北大金研*，慶大経**)
○G．M．Brown，小林賢三，幅崎浩樹*，清水健一**
10:00 20C-3 アルマイトメンブレンの溶解に及ぼす膜厚の影響とバリヤー層の溶解
(黒田表面技研)
黒田孝一
10:15 20C-4 異種接触界面の導入によるアルミニウム陽極酸化皮膜の絶縁破壊
(山形大工)
立花和宏，○高木泰彦，仁科辰夫，松木健三
10:30 20C-5 微小電極を用いた純水中におけるアルミニウムの高速陽極酸化
(山形大工)
○立花和宏，仁科辰夫．松木健三
10:45〜11:00 休憩
11:00 20C-7 アミノ酸添加低級アミン−フッ化物浴中でのアルミニウムの陽極酸化
(近畿大理工)
○野口駿雄，大西朝也
11:15 20C-8 非水溶液中で形成した陽極酸化皮膜の電子特性 (W)
(三菱化学筑波研)
○鷹羽 寛，水谷文一，宇恵 誠
11:30 20C-9 アルミニウム材料の電解着色黒色皮膜の発色モデル
(日軽金)
○塚本由美
子，海老原 健
11:45 20C-10 アルミニウム材料のNi浴電解着色法における淡色系の発色モデル
(日軽金)
○長澤大介，海老原 健
12:00〜13:00 休憩
13:00 20C-15 Al複合酸化物皮膜中への電解質アニオンの取り込みとその皮膜内分布
(KDK、北大院工*)
○金崎 敦、菅野高夫、坂入正敏*、高橋英明*
13:15 20C-16 アニオン錯体を用いたAl酸化皮膜中への金属イオンの導入
(北大院工、北大工*、横山表面工業**)
○金野英隆、竹中 巧*、横山一男**
13:30 20C-17 アノード酸化/レーザー照射/電気めっきによる微細デバイスの作製
(北大院工、道工試*)
○菊池竜也、坂入正敏、高橋英明、阿部芳彦*、片山直樹*
13:45〜14:00 休憩
14:00 20C−依頼講演 G マイクロ電極システムを用いた表面局所反応の探索と応用
(東北大院工)
末永智一
14:45 20C−22 ヨウ素修飾したPt(111)電極上へのCuのUPD
(東北大院工、石巻専修大理工*)
○犬飼潤次、大澤芳仁、脇坂暢、指方研二、板谷謹悟
15:00 20C−23 水晶振動子マイクロバランス法を用いたはんだのイオンマイグレーション過程の検討
(守都宮大院工、千住金属工業*)
○野中重嗣、中村 誠、鶴田加一*、吉原佐知雄、白樫高史
15:15 20Ｃ−24 様々な実在金属表面の光電子放出の温度依存性による評価
(茨城大工)
本間正和、○鴨沢勅郎、百瀬義広
15:30〜15:45 休憩
15:45 20Ｃ−26 (技) ハードディスク下地用無電解ニッケルめっきの表面欠陥の観察
(上村工業中研)
○下村友二、中山郁雄、斉藤昌弘
16:00 20Ｃ−27 3％Niを含む銅合金の酸化挙動
(慶大理工、大日本印刷*)
○元木章博、川喜多 仁、小林賢三、八木 裕*、堀田日出男*
16:15 20C−28 記録メディア用合金薄膜の電気化学測定法を用いた微細偏析構造の解析
(秋田高度技研
○原田紀子、本多直樹、大内一弘
16:30 20C−29 ヨウ素被覆白金単結晶電極上でのポルフィリンの吸着構造決定
(石巻専修大理工*、東北大院工)
○指方研二*、亀山 鉱*、板谷謹悟
シンポジウム/最近のドライブプロセスによる表面技術の進展
9:30 20D−依頼講演 Hドライブプロセス技術による極薄表面の制御
(秋田高度技研)
本多直樹
10:15 20D−４ RF熱プラズマによる天然ガスからのダイヤモンド合成
(千葉工大、日本高周波*)
○坂本幸弘、高谷松文、木山信道*、神田 稔*
10:30 20D−５ CVDダイヤモンドの電界電子放出特性−デューティーサイクルの影響
(千葉工大院、千葉工大*)
○牛久保浩司、坂本幸弘*、高谷松文*
10:45 20D−6 c‐BN/TiN積層膜の形成
(日本工大)
○渡辺修一、 三宅正二郎、村川正夫
11:00〜11:15 休憩
11:15 20D−依頼講演 I 薄膜形成装置の開発動向 (エピタキシャル装置など)
(メックス)
土居 陽
12:00〜13:00 休憩
13:00 20D−依頼講演 J ドライブプロセス技術と地球環境 (横浜市大理学) 和佐清孝
14:00 20D−19 低エネルギーイオンビーム堆積法によるSiC薄膜の形成
（阪大工*、大工研**）
○松本貴士*、美本和彦*、吉川貴文*、木内正人*、**、後藤誠一*
14:15 20D−20 イオンビームにより表面改質した磁性膜の腐食電位
(日本工大)
○千田貴好、渡辺修一、三宅正二郎
14:30 20D−21 ダイナミックミキシング法による金薄膜の形成
(大工研*、阪大工**)
○木内正人*、**、村井健介*
14:45 20D−22 プラズマソースイオン注入法による配管内壁へのイオン注入
(長崎工技セ)
○馬場恒明、畑田留理子
15:00〜15:15 休憩
15:15 20D−24 ラジカル窒化を施したエンドミルの切削特性
(千葉工大・研究生、千葉工大*、住友金属鉱山中研**)
○古美門崇、坂本幸弘*、高谷松文*、石井芳朗**、五十嵐 茂**
15:30 20D−25 金属表面とプラズマ重合膜の密着性のサイクリックボルタンメトリーによる評価
(茨城大工)
木内謙治、陳 亜芍、○茅根環司、百瀬義広、江口美佳
15:45 20Ｄ−26 O2添加SiAlONスパッタ膜のXPSによる組成、結合状態評価
(アルプス電気、岩手大工*)
○対馬 登、高橋志緒、平山元輝、八代 仁*
16:00 20D−27 ESD法による複合酸化物薄膜の作製と評価
(東北大素材研、東北大院工*)
○山田耕太、内田 勇*、佐藤修彰、藤野威男