社団法人
第109回講演大会（東京都立大学）プログラム
－速報版－
会 期：平成16年３月15日（月）～17日（水）
会 場：東京都立大学 南大沢キャンパス（東京都八王子市南大沢1-1）
〈○印は講演者〉
３月１５日（月）
Ａ会場 午前
シンポジウム：エネルギー分野における表面技術
9:30 15A-依頼講演① 水素エネルギー社会への展望
（新エネルギー・産業技術総合開発機構）名久井恒司
10:15 15A-4 グラファイト改質Mg2Ni合金の水素化・脱水素化特性
（都立大院工）○古市紗妃，柴田正義，見崎吉成，釜崎清治
10:30 15A-5 Zr系ラーベス相水素吸蔵合金の設計と表面改質
（都立大院工，都立大工*）○崔 陽，泉 周平，桜井隆幸*，釜崎清治
10:45 15A-6 （休 憩）
11:00 15A-7 超急冷法により合成したZr系ラーベス相合金の電池負極特性
（都立大院工，都立大工*，帝国ピストンリング**）釜崎清治，○桜井隆幸*，崔 陽，原川義夫**，見崎吉成
11:15 15A-8 表面改質によるV基水素吸蔵合金の電気化学活性の改善
（都立大院工）○池田耕平，穴原 賢，釜崎清治
11:30 15A-9 混相体形成によるV基水素吸蔵合金の脱水素化特性の改善
（都立大院工）○穴原 賢，池田耕平，見崎吉成，釜崎清治
11:45 15A-10高分子ヒドロゲル電解質を用いたニッケル－亜鉛二次電池の特性評価
（阪府大院工）○古川直治，真鍋孝聡，村上浩樹，奥田智子，野原愼士，井上博史，岩倉千秋
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13:00～14:00 平成16年度論文賞受賞記念講演会
13:00 ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度，被覆率および還元速度の影響
（早大理工総研，上村工業*，早大理工**）松田五明，横島時彦，淺富士夫*，河南 賢**，小林
洋介**，逢坂哲彌**
13:30 アルコール中でのカーボンナノチューブの液相合成
(東洋大工*1，日本学術振興会／物材機構・物質研*2，科学技術振興事業団*3，マイクロフェー
ズ*4，凸版印刷総研*5，物材機構・物質研*6)蒲生西谷美香*1，中川清晴*2，張 亜非*3，太田慶
新*4，蒲生秀典*5，安藤寿浩*6
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Ａ会場 午後
シンポジウム：エネルギー分野における表面技術
14:15 15A-依頼講演② 環境対応の固体高分子形燃料電池用電解質膜の開発
（日立日立研）小山 徹
15:00 15A-依頼講演③ 無機系固体電解質を用いた全固体リチウム電池について
（甲南大理工）町田信也
15:45
（休 憩）
16:00 15A-27
オゾンガスによるステンレス鋼表面の洗浄性の改善効果
（岡山工技セ）○高橋和宏，福崎智司
16:15 15A-28(技) ３価クロム化成処理皮膜の過熱で発生する６価クロム量
（富士セイラ，富士通分析ラボ*，芝浦工大**）榎本利夫，飯川 勤*，○佐藤敏彦**
16:30 15A-29(技) 耐型かじり性に優れたボンデ代替用潤滑鋼板の特性
（JFEスチ－ルスチ－ル研）○安藤 聡，大塚真司，杉本芳春，加藤千昭
16:45 15A-30(技) 高温高速プレス加工性に優れたCr(Ⅵ)フリー潤滑鋼板の開発
（JFEスチ－ルスチ－ル研）○鈴木幸子，中丸裕樹，加藤千昭
Ｂ会場 午前
シンポジウム：ナノエレクトロニクスの新展開
9:45 15B-2 化学的表面改質を利用したポリイミド樹脂上への部位選択的銅析出
（甲南大理工，三ツ星ベルト*）○赤松謙祐，池田慎吾，縄舟秀美，柳本 博*
10:00 15B-3 レーザ照射によるポリイミド樹脂表面への選択的銅回路の形成
（大和電機，甲南大理工*，東洋大**）○加藤健吾，野口 真，倉科 匡，縄舟秀美*，吉田善一**
10:15 15B-4 樹脂の表面改質を用いたポリイミド樹脂上への透明導電性薄膜の作製
（甲南大理工）○田口秀幸，赤松謙祐，縄舟秀美
10:30 15B-5 TiO2光触媒を利用したビルドアップ材料への表面改質による微細配線形成
（関東学院大表面工学研*，トヨタ自動車**）福士 司，田代雄彦*，渡邊健治*，別所 毅**，本間英夫*
10:45 （休 憩）
11:00 15B-7 ガラス素材への無電解めっきにおける平滑化の検討
（関東学院大表面工学研）○渡辺洋造，横山大輔，渡邊健治，田代雄彦，本間英夫
11:15 15B-8 マイクロパターニングを施した基板上への金ナノ粒子の選択的集積
（甲南大理工）○長谷川潤，赤松謙祐，縄舟秀美
11:30 15B-9 無電解銀めっきにおける還元剤酸化反応機構の理論計算解析
（早大理工）○島田拓哉，本間敬之，中井浩巳，逢坂哲彌
11:45 15B-10 電気化学STMによる末端スルホン酸基をもつ短鎖アルカンチオール単分子層の吸着
構造解析
（産総研 生物機能）○澤口隆博，水谷文雄
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13:00～14:00 平成16年度論文賞受賞記念講演会
13:00 ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度・被覆率および還元速度の影響
（早大理工総研，上村工業*，早大理工**）松田五明，横島時彦，淺富士夫*，河南 賢**，小林
洋介**，逢坂哲彌**
13:30 アルコール中でのカーボンナノチューブの液相合成
(東洋大工*1，日本学術振興会／物材機構・物質研*2，科学技術振興事業団*3，マイクロフェー
ズ*4，凸版印刷総研*5，物材機構・物質研*6)蒲生西谷美香*1，中川清晴*2，張 亜非*3，太田慶
新*4，蒲生秀典*5，安藤寿浩*6
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Ｂ会場 午後
シンポジウム：ナノエレクトロニクスの新展開
14:15 15B-20 電気めっき法によるCoNiReP垂直磁化膜の作製
（早大理工総研*，早大理工**，Singapore Research Laboratory, Sony Electronics(Singapore)
Ltd.***，ソニーMSNCコアテクノロジー開発本部****）○横島時彦*，川治 純**，逢坂哲彌*,**，高田
昭夫***，Ng.Wei Beng.*,***，望月孝史****
14:30 15B-21 高飽和磁束密度を有する電析CoFe磁性薄膜の磁気特性および微細構造に及ぼす熱処
理の影響
（早大理工・材研*，早大理工総研**）○平岩稔久*，今井健太*，横島時彦**，逢坂哲彌*,**
14:45 15B-22 高周波用Zn含有マグネタイト膜の化学的形成
（阪市工研，同志社大*）○伊崎昌伸，瀧野敦志*，品川 勉，石川正巳，田坂明政
15:00 15B-23 Niナノ粒子複合ポリイミド樹脂の微細構造制御に伴う磁気特性の変化
（甲南大理工，科学技術振興機構*）○新開寛之，赤松謙祐，縄舟秀美
15:15 15B-24 電気化学的手法により作製したメソポーラスCe-Co酸化物薄膜のエレクトロクロミ
ックデバイスへの応用
（都立大工）○吉野隆子，益田秀樹
15:30 （休 憩）
15:45 15B-26 有機分子を利用した化学エッチングによるCdTeナノ粒子のサイズ制御
（甲南大理工）○鶴岡孝章，赤松謙祐，縄舟秀美
16:00 15B-27 CdTe半導体薄膜におよぼす電解浴中の塩化物イオンの影響
（京大院工）○荒井健太郎，川口 潤，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
16:15 15B-依頼講演④ 化合物半導体の表面原子制御による窒化ガリウム－ヘテロエピタキシャル成
長
（東京農工大）纐纈明伯
Ｃ会場 午前
ポスターセッション
9:45 PC-1 AlCl3-EMIC常温型溶融塩を用いたAlの電析?高純度化の検討-
（東理大理工）小浦延幸，宇井幸一，○山内健児，井手本 康
9:50 PC-2 テトラヒドロフランのゲル電解質を用いたアルミニウム電析?電解質の調製と電析の電
気化学的挙動-
（東理大理工）○中村 航，板垣昌幸，渡辺邦洋，
9:55 PC-3 超平坦化アルミニウム表面におけるアノード酸化皮膜の孔発生過程
（工学院大工）○朝比奈建史，阿相英孝，小野幸子
10:00 PC-4 PTFE/Alナノ多層構造薄膜における超弾性の発現
（金沢工大AMS R&S C）○山本幸平，中山洋佑，草野英二，金原 粲
（オリンパス(株)から金沢工業大学への派遣共同研究員）出口武司
10:05 PC-5 アルミニウム二次電解皮膜上への固定光触媒膜の評価
（近畿大理工）藤野隆由，○難波孝行
10:10 PC-6 電解法により作製したイリジウム酸化物電極の特性評価
（神奈川大工，田中貴金属*）○鈴木新也，牛久英作*，小早川紘一，佐藤祐一
10:15 PC-7 Mgの定電流／定電位アノーダイズにおける皮膜生成
（名大，名大院工*）○大平哲也，市野良一*，興戸正純*
10:20 PC-8 リチウムイオン二次電池用負極活物質としてのスズ-銅合金薄膜の作製と電池性能評価
（神奈川大工）○横江亮則，小早川紘一，佐藤祐一
10:25 PC-9 スズめっきへの電流パルスによるマイクロカプセルの共析
（東理大理工，トーテック*）○中根優美，板垣昌幸，渡辺邦洋，澤井秀夫*，小谷野英勝*
10:30 PC-10 撥水性を有するNi／ダイヤモンド複合めっきの開発
（熊本大院自，熊本工技セ*）○谷井俊亮，石田俊仁*，坪田敏樹*，永田正典*，
10:35 PC-11 アルミニウム上への複合Ni-Moめっき膜の電析プロセスとモリブデンの分布状態
（近畿大理工）藤野隆由，○長崎雅史，小木曽元洋
10:40 PC-12 パラジウム触媒能制御による無電解ニッケルコート光ファイバープローブの作製
（関東学院大院，関東学院大工*，KAST**，科技振・さきがけ***）○齋藤裕一，横山大輔*，物部
秀二**，***，大津元一**，本間英夫*
10:45 （休 憩）
11:00 PC-13 電解複合Ni/SiCめっきに対する界面活性剤の影響
（神奈川大工，ディスコ*）○浅井良規，岸本圭介*，小早川紘一，佐藤祐一
11:05 PC-14 リンゴ酸を用いたホウ酸フリー電気ニッケルめっき浴
（神奈川大工，ディスコ*）○斎藤史隆，岸本圭介*，小早川紘一，佐藤祐一
11:10 PC-15 電析Au-Cu合金めっき膜の微細構造
（芝浦工大工, 都立大工*, EEJA**）○北沢和哉，渡辺 徹*，葛島俊夫**，戸塚崇志**
11:15 PC-16 CuCl-EMIC常温型溶融塩を用いたCu(Ⅰ)からのCuの電析－高純度化の検討－
（東理大理工）小浦延幸，宇井幸一，○山中康太郎，井手本 康
11:20 PC-17 ガラス基板上に析出した無電解Cuめっき膜の密着性
（都立大工，物材機構*）○岡本尚樹，木村 隆*，渡辺 徹
11:25 PC-18 塩化物系一価銅浴からの銅電析における不純物の共析挙動
（九産大工，九大院工*）○重松由樹浩，小林繁夫，秋山徹也，津留寿昭，中野博昭*，福島久哲*
11:30 PC-19 電流波形制御を用いたビアフィリング
（関東学院大院，関東学院大工*）○小山田仁子，西中山宏，渡邊新吾，本間英夫*
11:35 PC-20 平滑基板への微細配線形成
（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車*）○藤村 翼，井上浩徳，渡邊健治，田代雄彦，別所 毅*，
平岡基紀*，本間英夫
11:40 PC-21 無電解Co-P磁性膜の傾斜構造化
（姫路工大工，姫路工大院工*）○西山 甚，福室直樹*，八重真治*，松田 均*
11:45 PC-22 非水溶媒からのSm-Fe電析
（神奈川大工，早大理工*）○八源寺誠之，小宮山祐規，橋本英樹*，逢坂哲彌*，小早川紘一，佐藤祐一
11:50 PC-23 酸性水溶液中からのBi-Te化合物の電析
（名大院，名大院工*）○許 弼源，水谷彰宏，市野良一*，興戸正純*
11:55 PC-24 電析Biめっき膜の微細構造
（芝浦工大工，都立大工*，EEJA**）○小森経平，渡辺 徹*，葛島俊夫**，戸塚崇志**
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13:00～14:00 平成16年度論文賞受賞記念講演会
13:00 ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度・被覆率および還元速度の影響
（早大理工総研，上村工業*，早大理工**）松田五明，横島時彦，淺富士夫*，河南 賢**，小林
洋介**，逢坂哲彌**
13:30 アルコール中でのカーボンナノチューブの液相合成
(東洋大工*1，日本学術振興会／物材機構・物質研*2，科学技術振興事業団*3，マイクロフェー
ズ*4，凸版印刷総研*5，物材機構・物質研*6)蒲生西谷美香*1，中川清晴*2，張 亜非*3，太田慶
新*4，蒲生秀典*5，安藤寿浩*6
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Ｃ会場 午後
一般講演
14:15 15C-20 Cu/Cu2O周期多層膜の電析とカソード還元挙動に関する研究
（北大院工）○萩生真知子，瀬尾眞浩
14:30 15C-21 添加剤の予備吸着を利用した銅電析膜の物性
（甲南大理工，石原薬品＊）○橋本守人，赤松謙祐，縄舟秀美，内田 衛＊
14:45 15C-22 銅電析に与える添加剤効果の速度論的解析
（関東学院大院工，関東学院大工＊）○山口 仁，
15:00 15C-23 スピン電極の銅の磁気電析への適用
（日本学術振興会科技特，能開大）杉山敦史，青柿良一
15:15 15C-24 シアン及び亜硫酸を含まない新規電解金めっき液
（三菱化学）○河瀬康弘，水谷文一，石川 誠
15:30 （休 憩）
15:45 15C-26 電析金めっきにおける各種ヒダントイン系錯化剤の検討
（東理大理工*，東理大界面科研**，田中貴金属***）○菅原健之*，塩澤麻子*，根本健司*，大谷 豊
*,***，山口有朋*，小柳津研一**，湯浅 真*,**
16:00 15C-27 ヒダントイン系金めっき浴における金錯体の構造と形成平衡
（東理大理工*，東理大界面科研**，田中貴金属***）○塩澤麻子*，菅原健之*，根本健司*，大谷 豊
*,***，山口有朋*，小柳津研一**，湯浅 真*,**
16:15 15C-28 5,5-ジメチルヒダントイン系金めっきにおける浴成分組成の検討
（東理大理工*，東理大界面科研**，田中貴金属***）○大谷 豊*,***，塩澤麻子*，根本健司*，菅原健
之*，山口有朋*，小柳津研一**，湯浅 真*,**
Ｄ会場 午前
ポスターセッション
9:45 PD-1 金属添加したDLC薄膜の諸特性
（工学院大工）○佐々木道子，中村 勲，鷹野一朗，沢田芳夫
9:50 PD-2 RFスパッタリングによるF-DLC薄膜の形成
（日本工大）○嶋田国穂，渡部修一，三宅正二郎
9:55 PD-3 プラズマパラメータとDLC膜硬度の関係
（JST，石川工試*，オンワード技研**，金沢工大***）池永訓昭，安井治之*，川畠丈志，長谷川祐史
**，○粟津 薫*，作道訓之***
10:00 PD-4 126nm真空紫外光照射によるダイヤモンドの表面改質：化学気相法による有機シラン
分子の固定化と無電解銅めっき
（産総研，名大工*，名大工学研究科**，名大理工総研***）
井 治***
10:05 PD-5 超はっ水／超親水パターン：化学反応場としての検討
（名大院工，科学技術交流財団*，名大環境量子**，名大理工総研***）○河野正雄，呉 雲影*，齋藤
永宏，井上泰志**，高井 治***
10:10 PD-6 Al添加超はっ水膜の表面形状および機械特性
（名大院工，科学技術交流財団*，名大環境量子**，名大理工総研***）○別家 誠，呉 雲影*，齋藤
永宏，井上泰志**，高井 治***
10:15 PD-7 フレキシブルポリマー上への金属マイクロパターン転写
（名大理工総研*，科学技術交流財団**，名大院工**，名大環境量子***）○呉 雲影*,**，齋藤永宏*，
井村真一郎*，井上泰志***，高井 治*
10:20 PD-8 金属微粒子の置換析出及び化学エッチによるn-Si湿式太陽電池の高効率化
（姫路工大工，姫路工大院工*，JST-CREST**）○上川和範，田中宏幸*，福室直樹*，八重真治*,**，
松田 均*
10:25 PD-9 特殊ブラスト処理した金属板によるカラーめっき皮膜
（キザイ，芝浦工大工*）丸田正敏，布留川宏，○岸玄一郎*，佐藤敏彦*
10:30 PD-10 ダイナミックプラズマCVDによるアリル系傾斜重合薄膜の合成と撥水性制御
（埼玉工大工）○豊田宝司，矢嶋龍彦，岡部芳雄
10:35 PD-11 フタロシアニン粒子分散膜の電気電導性に及ぼす製膜条件の影響
（茨城大工）○金 海峰，竹内 学
10:40 PD-12 フタロシアニン薄膜の結晶構造の変化に伴う電気伝導性の変化
（茨城大工）○土屋利一，竹内 学
10:45 （休 憩）
11:00 PD-13 コンヒナトリアル静電噴霧析出プロセスの開発およびTi系酸化物の作製
（東理大理工，NIMS物質研*）○高橋秀和，藤木憲次郎，高田和典*，佐々木高義*，渡辺 遵*，伊
藤 滋
11:05 PD-14 窒化インジウムナノロッドの形状制御とEC特性評価
（名大院工，名大環境量子*，名大理工総研**）○山口 敦，藤原卓矢，長谷川和宏，井上泰志*，高
井 治**
11:10 PD-15 MgOスパッタ薄膜の表面形状及び二次電子放出測定
（成蹊大工）○藤本 崇，中野武雄，馬場 茂
11:15 PD-16 In/Si島状薄膜におけるXPS depth
profileの特徴
（成蹊大工）○佐藤彰吾，中野武雄，馬場 茂
11:20 PD-17 RFスパッタリング法を用いた層状化合物半導体テルル化ガリウム薄膜の作製
（東京高専）○大山昌憲，伊藤 浩
11:25 PD-18 炭素・金属系複合材料の新規製造とその表面特性
（埼玉大工，アクロス*）杉山和夫，真壁雄一，○夏坂英樹，小沼直樹，中川隆夫*
11:30 PD-19 海洋模擬環境における炭素鋼の腐食モニタリング
（東理大，NIMS*）○遠藤正憲，板垣昌幸，渡辺邦洋，片山英樹*，野田和彦*，升田博之*
11:35 PD-20 固液界面接触分解法によるカーボンナノチューブの合成Ⅰ.－鉄触媒の物理化学的状態
と生成物との関係－
（東洋大工，凸版印刷総研*，物質研**）○藤田昭彦，北條賢治，蒲生西谷美香，蒲生秀典*，中川清
晴**，安藤寿浩**
11:40 PD-21 固液界面接触分解法によるカーボンナノチューブの合成Ⅱ.－生成物の合成条件依存性
－
（東洋大工，凸版印刷総研*，物質研**）○北條賢治，藤田昭彦，蒲生西谷美香，蒲生秀典*，中川清
晴**，安藤寿浩**
11:45 PD-22 竹炭のナノ孔の解析とその表面特性
（埼玉大工）杉山和夫，真壁雄一，夏坂英樹，○小沼直樹，黒川秀樹，三浦 弘
11:50 PD-23 ハイブリッド型吸着材の調製とその表面特性
（埼玉大工，永井機械鋳造*，ニチモウ**）杉山和夫，○松岡達也，羽田 智，吉野敦郎*，久保田昇
利**
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13:00～14:00 平成16年度論文賞受賞記念講演会
13:00 ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度・被覆率および還元速度の影響
（早大理工総研，上村工業*，早大理工**）松田五明，横島時彦，淺富士夫*，河南 賢**，小林
洋介**，逢坂哲彌**
13:30 アルコール中でのカーボンナノチューブの液相合成
(東洋大工*1，日本学術振興会／物材機構・物質研*2，科学技術振興事業団*3，マイクロフェー
ズ*4，凸版印刷総研*5，物材機構・物質研*6)蒲生西谷美香*1，中川清晴*2，張 亜非*3，太田慶
新*4，蒲生秀典*5，安藤寿浩*6
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Ｄ会場 午後
一般講演：生体機能材料
14:15 15D-20 ハイドロキシアパタイトの親水性におよぼすイオン注入とRFプラズマ処理の効果
（埼玉工大工，工学院大工*）○岡部芳雄，栗原慎弥，中村 勲*，関 陽一*，鷹野一朗*，矢嶋龍彦
14:30 15D-21(技) CVDダイヤモンドを利用したDNA保存用基板の開発
（東洋鋼鈑技研）○山野博文，岡村 浩，丹花通文
14:45 15D-22(技) DLCを用いた高感度マイクロアレイ用基板の開発(1)
（東洋鋼鈑技研）○岡村 浩，山野博文，大場光芳，亀井修一
15:00 15D-23(技) DLCを用いた高感度マイクロアレイ用基板の開発(2)
（東洋鋼鈑技研）○大場光芳，市原輝久，平山幸一
15:15 15D-24 （休 憩）
15:30 15D-25 非晶質炭素系薄膜表面の血漿蛋白質適合能評価
（名大院工，名大環境量子*，名大理工総研**）○太田理一郎，齋藤永宏，井上泰志*，高井 治**
15:45 15D-26 炭素繊維電極への各微生物の吸着に及ぼすゼータ電位の影響
（三洋電機，埼玉県産技総合セ*）○近藤康人，栗原英紀*，山田 淳，高岡大造，滝沢貴久男，安
田昌司
16:00 15D-27 配列固定された酵素のシアフォース電気化学顕微鏡による評価
（東北大院工・環境，阪大院工*）○安川智之，真瀬佳朗，小谷松大祐*，珠玖 仁，末永智一
16:15 15D-28 TiNiCu形状記憶合金薄膜による血管把持アクチュエータの形成
（弘前大理工，弘前大医*，茨城大工**）○広田賢一，山田圭一，牧野英司，菅原 卓*，藤 哲*，
柴田隆行**
16:30 15D-29 誘電泳動による粒子集積化と細胞接着に及ぼす影響の検討
（東北大院工・環境）○鈴木雅登，安川智之，珠玖 仁，末永智一
Ｅ会場
シンポジウム：陽極酸化皮膜のバリヤー皮膜とバリヤー層の微細構造と機能
9:30 15E-1 インバースオパール構造を持つアノード酸化皮膜の形成
（工学院大工）○阿相英孝，上原 彩，小野幸子
9:45 15E-2 限界高電位アノード酸化によるポーラスアルミナ皮膜の形成及び微細構造
（物材機構物質研，東理大*）○? 松竹，和田健二，井上 悟，礒貝雅文*，勝田喜宣*，安盛敦雄
10:00 15E-3 Alの溶融塩陽極酸化α-Al2O3皮膜の生成と発光現象
（石神井中，都立大院工*）○水木一成，西尾和之*，益田秀樹*
10:15 （休 憩）
10:30 15E-5 酒石酸電解液で生成するアノード酸化ポーラスアルミナの自己規則化
（工学院大工）○齋藤真希子，阿相英孝，小野幸子
10:45 15E-6 リン酸電解液におけるアノード酸化ポーラスアルミナの自己規則化挙動
（工学院大工）○小野幸子，加藤信行，阿相英孝
11:00 15E-7 アルミニウムアノード酸化皮膜のガス放出特性とポーラス皮膜複合化の効果
（工学院大工，アルバック筑波研*）○小野幸子，長谷部雅之，稲吉さかえ*，奥秋貴博，阿相英孝
11:15 15E-依頼講演⑤ 超薄切片法によるアノード酸化皮膜の微細構造
（北大院工）坂入正敏
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13:00～14:00 平成16年度論文賞受賞記念講演会
13:00 ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度・被覆率および還元速度の影響
（早大理工総研，上村工業*，早大理工**）松田五明，横島時彦，淺富士夫*，河南 賢**，小林
洋介**，逢坂哲彌**
13:30 アルコール中でのカーボンナノチューブの液相合成
(東洋大工*1，日本学術振興会／物材機構・物質研*2，科学技術振興事業団*3，マイクロフェー
ズ*4，凸版印刷総研*5，物材機構・物質研*6)蒲生西谷美香*1，中川清晴*2，張 亜非*3，太田慶
新*4，蒲生秀典*5，安藤寿浩*6
◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆
Ｅ会場 午後
シンポジウム：陽極酸化皮膜のバリヤー皮膜とバリヤー層の微細構造と機能
14:15 15E-20 半導体レーザクラディング法によるAl合金へのTiO2複合膜の作製
（近畿大理工，近畿大院*，阪大接合科学研**）○森本純司，小野田哲也*，阿部信行**
14:30 15E-21(技) 電解研磨によるクリーンベローズの開発
（イーグル工業）○岡戸次郎，岡田 健，石山朝彦
14:45 15E-22 LI2-(Al,Cr)3Ti粉末によるTiAl合金のアルミナイジング
（松江高専，島根県産技セ*）○新野邊幸市，瀧山直之*
15:00 15E-23(技) 電解研磨によるチタン鏡面研磨
（三和産業，山口産技セ*）○宮脇 晃，福江和行，村中武彦*，山田隆弘*
15:15 （休 憩）
15:30 15E-25 依頼講演⑥ 火花放電現象を活用したチタンの陽極酸化とその応用
（近畿大理工）
16:15 15E-28 PR電解によるチタン材の陽極酸化膜の作製
（千葉工大院，千葉工大*）○上杉 崇，高谷松文*，大谷 親*
16:30 15E-29 チタンアノード酸化皮膜の構造と誘電特性に及ぼすニオブ添加の効果
（北大工，北大院工*，慶応大経**，東北大金研***）○小野寺恭志，幅崎浩樹*，金野英隆*，清水健
一**，永田晋二***
16:45 15E-30 アノード酸化した窒化チタンの干渉色皮膜のトライボロジー
（テクノ工業，黒田表面技研*，都城南振興セ**）○石橋陽子，佐藤仁則，黒田孝一*，藤木 栄**
３月１６日（火）
Ａ会場 午前
シンポジウム：環境規制に対応する表面技術
9:30 16A-依頼講演⑦ 最新WEEE/RoHS（含む中国，アメリカ）の動向と閾値・測定法をめぐる諸
問題
（日本電子）松浦徹也
10:15 16A-4 ニッケルめっき水洗工程からのニッケル成分の回収と再利用の試み
（愛知県産技研，ユケン工業*，中央製作所**）○小谷 勇，野口裕臣，鈴木征夫*，柘植良男**
10:30 16A-5 リン酸系アニオンの酸化還元挙動と沈殿除去
（名大院，名大工*，名大院工**）○佐伯宣紀，高桑敏裕*，市野良一**，黒田健介**，興戸正純**
10:45（休 憩）
11:00 16A-7 シアン・アンモニアの同時廃液処理
（日本パーカー，パーカー熱処理*）小嶋隆司，○中村文英，八代国治*
11:15 16A-8 ダイヤモンド電極を利用した電解処理の評価
（三洋電機）○美濃島春樹，前田丈志，楽間 毅，高岡大造，滝沢貴久男，安田昌司
11:30 16A-9 大気圧非平衡プラズマを用いた表面実装プロセスの開発
（埼玉大工）杉山和夫，○桑島秀介，青木洋介，黒川秀樹，三浦 弘
11:45 16A-10 マグネシウム合金の接着に及ぼす化成処理の影響
（千葉工大）○関口将士，升山隆博，高谷松文，大谷 親
12:00 （休 憩）
◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆
12:50～13:10 「第５回優秀講演賞」および「第10回学術奨励講演賞」授与式
13:10 会長あいさつ
13:15～14:15 特別講演：第60回武井記念講演会
制振材料の開発と振動工学への応用
（都立大）鈴木浩平
14:15～15:15 平成16年度技術賞受賞記念講演会
14:15 電動車両用二次電池の実用化に伴う表面制御技術の確立
（本田技研栃木研，ユアサコーポレイション*）佐藤 登，八木一彦，押谷政彦*，岸本知徳*
14:45 りん酸亜鉛処理用新液体表面調整剤の開発
（日本パーカ総合技研，日本パーカ*）松下 忠，中山隆臣，永嶋康彦，下田健介，坂内洋勝，高
木 清，宮崎 康*
◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆
Ａ会場 午後
シンポジウム：環境規制に対応する表面技術
15:30 16A-25 TiO2およびUVを前処理に適用したクロムフリーABS樹脂めっき方法
（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車*）○田代雄彦，石田卓也，渡邉健治，平岡基記*，別所 毅
*，本間英夫
15:45 16A-依頼講演⑧ 環境技術によるグリーンプロダクトの創出
（シャープ）森本 弘
Ｂ会場 午前
シンポジウム：ナノエレクトロニクスの新展開
9:30 16B-1 ULSI配線用ダマシン銅めっきにおけるJGBの添加効果
（早大理工）○根岸芳典，長谷川円，横島時彦，中西卓也，逢坂哲彌
9:45 16B-2 銅めっきビアフィリングに及ぼす添加剤およびめっき条件の影響
（九工大工）○河野恵志郎，津留 豊
10:00 16B-3(技) はんだボール接合およびワイヤーボンディング接合を考慮した無電解金めっき液
の開発
（小島化学薬品，関東学院大工*）○渡辺秀人，鷲見隆一，本間英夫*
10:15 16B-4 はんだ実装における無触媒プロセスの有効性
（関東学院大院，小島化学薬品*，関東学院大**）○西中山 宏，角田貴徳，渡辺秀人*，本間英夫**
10:30 16B-5 無電解ニッケルめっきによるバンプ形成
（関東学院大院，関東学院大工*）○中里純一，斉藤裕一，小山田仁子，本間英夫*
10:45 （休 憩）
11:00 16B-7 スルファミン酸Niめっき浴を用いたマイクロバンプ作製の検討
（関東学院大院，関東学院大工*）○角田貴徳，深沢博則*，能條邦彦*，本間英夫*
11:15 16Ｂ-依頼講演⑨ ナノ構造・機能デバイス形成のための電気化学ナノファブリケーションプロ
セス
（早大理工）本間敬之
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12:50～13:10 「第５回優秀講演賞」および「第10回学術奨励講演賞」授与式
13:10 会長あいさつ
13:15～14:15 特別講演：第60回武井記念講演会
制振材料の開発と振動工学への応用
（都立大）鈴木浩平
14:15～15:15 平成16年度技術賞受賞記念講演会
14:15 電動車両用二次電池の実用化に伴う表面制御技術の確立
（本田技研栃木研，ユアサコーポレイション*）佐藤 登，八木一彦，押谷政彦*，岸本知徳*
14:45 りん酸亜鉛処理用新液体表面調整剤の開発
（日本パーカ総合技研，日本パーカ*）松下 忠，中山隆臣，永嶋康彦，下田健介，坂内洋勝，高
木 清，宮崎 康*
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Ｂ会場 午後
シンポジウム：ナノエレクトロニクスの新展開
15:30 16B-25 PDMSをマスクとする微細ブラスティング加工
（弘前大理工）○高田健央，佐藤博之，牧野英司
15:45 16B-26 高アスペクト構造体への無電解めっきにおける均一析出性
（関東学院大院，関東学院大工*）○岡部敏之，加藤 瑛*，角田貴徳，本間英夫*
テクノプレゼンテーション：微細加工のための電鋳・金型関連技術
16:00 16B-27(技) 加速器用アルミナ真空ダクトへの銅電鋳配線（第3報）
（三菱重工業，中菱エンジニアリング*，旭金属工業**，日本原子力研究所***，高エネルギー加速器
研究機構****）○梶間一広，壁谷善三郎，田尻桂介*，中村 止**，金正倫計***，斎藤芳男****
16:15 16B-依頼講演⑩ エレクトロフォーミング－その新しい展開
（ヒキフネ）小林道雄
Ｃ会場
シンポジウム：陽極酸化皮膜のアノード酸化皮膜とバリヤー層の微細構造と機能
9:30 16C-1 Alアノード酸化皮膜をテンプレートとしたAu-Ag交互構造の構築とその色彩
（近畿大理工*，近畿大分子研**）安井晃仁*，岩崎光伸*，多田弘明**，〇
9:45 16C-2 シングルドメイン陽極酸化アルミナをマトリクスとしたパターンド磁気記録メディアの
作製
（都立大院工*，KAST**）〇安井賢志*，森川卓哉*，西尾和之*,**，益田秀樹*,**
10:00 16C-3 多孔質アルミニウムアノード酸化皮膜およびエッチング箔をテンプレートとするナ
ノ・マイクロカーボンの合成
（北大院工）佐藤慎也，〇幅崎浩樹，金野英隆
10:15 16C-4(技) 溶融アルミニウムめっき鋼板の陽極酸化処理とそのトライボロジー特性
（千葉工大）高谷松文，〇前嶋正受
10:30 16C-５ 白金および銀によるアルミニウム二次電解皮膜上へのTiO2薄膜の光触媒能評価
（近畿大理工）藤野隆由，○服部貴則
10:45 16C-6 陽極アルミナ皮膜を支持体とするプラズマ発光素子
（都立大院理*，石神井中**，九州三井アルミ***）〇徳永祐太*，森崎重喜*，水木一成**，蓮尾俊治***
11:00 16C-7 陽極酸化ポーラスアルミナによるアルミナナノチューブの形成
（都立大院工*，KAST**）〇柳下 崇*，西尾和之*,**，益田秀樹*,**
11:15 16C-依頼講演⑪ 平面ディスプレイに用いられる陽極酸化技術
（三菱化学半導体材料研）水谷文一
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12:50～13:10 「第５回優秀講演賞」および「第10回学術奨励講演賞」授与式
13:10 会長あいさつ
13:15～14:15 特別講演：第60回武井記念講演会
制振材料の開発と振動工学への応用
（都立大）鈴木浩平
14:15～15:15 平成16年度技術賞受賞記念講演会
14:15 電動車両用二次電池の実用化に伴う表面制御技術の確立
（本田技研栃木研，ユアサコーポレイション*）佐藤 登，八木一彦，押谷政彦*，岸本知徳*
14:45 りん酸亜鉛処理用新液体表面調整剤の開発
（日本パーカ総合技研，日本パーカ*）松下 忠，中山隆臣，永嶋康彦，下田健介，坂内洋勝，高
木 清，宮崎 康*
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Ｃ会場 午後
一般講演
15:30 16C-25 さび層が形成された炭素鋼における結露の違い
（物材機構）〇片山英樹，嵯峨修治，野田和彦，升田博之
15:45 16C-26 低合金鋼上のさび膜のインピーダンス特性評価
（物材機構，東理大理工*）〇野田和彦，片山英樹，升田博之，野末 良*，板垣昌幸*，渡辺邦洋*
16:00 16C-27 表面の電位分布測定による亜鉛めっき鋼板の大気腐食性評価
（物材機構）〇野田和彦，Amar Prasad Yadav，小野孝也，片山英樹，升田博之
16:15 （休 憩）
16:30 16C-29 外装建材用としてのアルミニウム表面処理材の腐食挙動
（芝浦工大院，芝浦工大工*）〇小林 勲，内山貴昭*，今井八郎*
16:45 16C-30 鉛蓄電池の充電状態におけるPd合金負極の腐食挙動の解析（2）
（東理大理工）小浦延幸，〇粕谷健太，宇井幸一，井手本 康
Ｄ会場
シンポジウム：B, C, Nから生まれる新材料コーティング
9:30 16D-依頼講演⑫ 窒化物系新材料開発の歴史と展開
（名大学理工総研）高井 治
10:15 16D-依頼講演⑬ 窒化ホウ素の新世界
（物材機構 物質研）小松正二郎
11:00 （休 憩）
11:15 16D-8 マイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素合成における生成物の結合状態
に及ぼす基
板バイアスの影響
（千葉工大･研，千葉工大*）○羽根田成也，坂本幸弘*，高谷松文*
11:30 16D-9 バイアス支援核形成を用いたマイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素膜の形成
（千葉工大，千葉工大･研*）○坂本幸弘，羽根田成也*，宮内敏幸，高谷松文
11:45 16D-10 マイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素合成における合成圧力の影響
（千葉工大）○大越正勝，坂本幸弘，高谷松文
12:00 16D-11 反応性スパッタリングによるCNx薄膜の作製
（千葉工大）○安田義延，坂本幸弘，平塚健一，高谷松文
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12:50～13:10 「第５回優秀講演賞」および「第10回学術奨励講演賞」授与式
13:10 会長あいさつ
13:15～14:15 特別講演：第60回武井記念講演会
制振材料の開発と振動工学への応用
（都立大）鈴木浩平
14:15～15:15 平成16年度技術賞受賞記念講演会
14:15 電動車両用二次電池の実用化に伴う表面制御技術の確立
（本田技研栃木研，ユアサコーポレイション*）佐藤 登，八木一彦，押谷政彦*，岸本知徳*
14:45 りん酸亜鉛処理用新液体表面調整剤の開発
（日本パーカ総合技研，日本パーカ*）松下 忠，中山隆臣，永嶋康彦，下田健介，坂内洋勝，高
木 清，宮崎 康*
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Ｄ会場 午後
シンポジウム：B, C, Nから生まれる新材料コーティング
15:30 16D-25 窒素プラズマ処理によるPTFE表面改質層の化学安定性
（武蔵工大）○浜村尚樹，湯本雅恵
15:45 16D-26 アンモニアプラズマを用いる白金表面への含窒素官能基の導入とキャラクタリゼー
ション
（埼玉工大工）○矢嶋龍彦，新井悠也
16:00 16D-27 亜鉛合金用高圧鋳造金型への窒化－PVD複合膜の応用
（メタルエンジニアリング，北熱*）政 誠一，矢後俊郎*，○大井美希*
16:15 16D-28 エチレン雰囲気中でイオン照射した窒化チタンの表面改質
（工学院大工）○中村 薫，佐々木道子，鷹野一朗，沢田芳夫
16:30 16D-29 TDMATを原料としたTi系薄膜の内面コーティング
（石川工試，フジタ技研*，金沢工大**）○安井治之，岡崎健一*，粟津 薫，作道訓之**
16:45 16D-30(技) TiAlN系膜によるマグネシウム合金用高圧鋳造金型の耐溶損性改善
（メタルエンジニア，北熱*）政 誠一，矢後俊郎*，○大井美希*
3月17日（水）
Ａ会場
一般講演
9:30 17A?1(技) スズウィスカー発生に及ぼす下地金属表面処理の影響
（九工大工）○佐藤 毅，津留 豊
9:45 17A?2(技) 純Snめっきにおけるウィスカー抑制メカニズムの検討
（荏原ユージライト中研）○安田弘樹，渡辺恭延，時尾香苗，松村芳明，君塚亮一
10:00 17A?3 代替ニッケルめっきとしてのCuSn（スペキュラム）合金の電析およびその耐食性
（京都市産技研工技セ，甲南大理工＊）○中村俊博，水谷 泰，永山富男，篠原長政，縄舟秀美＊
10:15 17A?4 ニッケル代替ナノ結晶銅－スズ合金めっきの開発
（名市工研）○加藤雅章，久米道之
10:30 （休 憩）
10:45 17A?6 ニッケル電析反応における錯化剤の役割
（都産技研，久留米高専*，関東学院大工**）○土井 正，水元和成，棚木敏幸，田中慎一*，山下嗣
人**
11:00 17A?7 ニッケルめっきの界面張力に及ぼす湿潤剤の影響とその評価
（九工大工）○津留 豊，竹本春奈
11:15 17A?8 SUS304材上への複合Ni-Moめっき膜の作製とモリブデンの電析制御
（近畿大理工）藤野隆由，○瀬戸隆史
11:30 17A?9 カーボン繊維摺動電析における皮膜の成長挙動
（武蔵工大院，武蔵工大*）○折原 徹，星野重夫*，眞保良吉*
11:45 17A?10(技) 実用めっき槽の２次電流分布解析－プラスチック上への銅，ニッケル，クロムめ
っき－
（上村工業）○小原勝彦，杉浦 裕
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13:00～13:45 平成16年度協会賞受賞記念講演会
エレクトロニクスデバイス製造に対応する湿式めっき法の開発と応用に関する研究
（甲南大理工）縄舟秀美
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Ａ会場 午後
一般講演
14:00 17A?19 AFMによる亜鉛電析過程の観察
（九大院工，九産大工*）○久野彰士，大上 悟，中野博昭，福島久哲，小林繁夫*
14:15 17A?20 塩化浴からの亜鉛パルスめっき
（名市工研）○三宅猛司，西 保夫，久米道之
14:30 17A?21(技) 亜鉛めっき上へのクロムフリー黒色皮膜の作製
（福島県ハイテクプラザ）○宇津木隆宏，大堀俊一，大河原薫
14:45 17A?22 ３価クロムめっき浴の長時間電析による濃度変化
（武蔵工大院，武蔵工大*）○國峯将信，星野重夫*，眞保良吉*
15:00 17A-23(技) 三価クロム浴を用いた黒色クロムめっき膜の特性
（大日野工業*，早大理工総研**，早大理工***）○武石和之*,**，神林秀昭*,**，横島時彦**，逢坂哲彌**,***
15:15 17A-24 高効率高速クロムめっき
（広島大院）○松村昌信，矢吹彰広，安部了介
15:30 17A-25 めっきプロセスによるフェライト薄膜製造技術の開発
（山口産技セ，下関鍍金*，山口大工**）○村中武彦，山田隆弘，石田浩一，前 英雄，古賀伸貴*，
山本節夫**，原田和彦**
15:45 17A-26 QCMを用いた鉄めっき浴の寿命評価
（宇都宮大工，宇都宮大院工*，日本プレーテック**）○延本要介，久保田賢治*，吉原佐知雄，白
樫高史，及川 渉**，工藤南海夫**
Ｂ会場 午前
一般講演
9:30 17B-1 脂肪族四級アンモニウムイミド型イオン性液体中での金属イオンの酸化還元挙動
（京大院工）○片瀬琢磨，大西利武，篠原伸樹，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
9:45 17B-2 溶液滴下手法を利用した室温におけるSnO2薄膜の作製
（東理大理工）○古川尚稔，佐藤世一，藤本憲次郎，伊藤 滋
10:00 17B-3 ニッケル金属へのセリウム化成処理とその高温耐酸化性
（阪市工研）○小林靖之，藤原 裕
10:15 17B-4 四臭化チタンを溶解したTFS1系室温溶融塩中におけるチタン(Ⅳ)の電気化学的還元
（慶大理工）○小川功一，片山 靖，美浦 隆
10:30 （休 憩）
10:45 17B-6(技) 化学的成膜法におけるZnOの構造制御
（奥野製薬，大阪市工研＊）○片山順一，岩松克茂，大塚邦顕，伊崎昌伸＊
11:00 17B-7 無電解めっきの二液法活性化前処理に用いられるセンシタイジング液の長寿命化（Ⅱ）
（姫路工大工，姫路工大院工*，兵庫工技セ**）○三俣宣明*，松井博司，山岸憲史*,**，福室直樹*，八重真治*，松田 均*
11:15 17B-8 2アミノピリジンを錯化剤とするパラジウム触媒の特性
（関東学院大院，関東学院大工*）○依田健太郎，高橋理威*，加藤岳史*，藤波知之*
11:30 17B-9 グラファイト粒子と銅からなる複合皮膜の電析
（岡山大工）林 秀考
11:45 17B-10 TiO2光触媒反応による銅薄膜の析出機構
（甲南大理工）○松原弘招，赤松謙祐，縄舟秀美
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13:00～13:45 平成16年度協会賞受賞記念講演会
エレクトロニクスデバイス製造に対応する湿式めっき法の開発と応用に関する研究
（甲南大理工）縄舟秀美
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Ｂ会場 午後
一般講演
14:00 17B-19 無電解Ni-B合金の物理化学的特性に及ぼす熱処理の影響
（立命館大理工，石原薬品*）○北野 章，松岡政夫，玉置 純，芳賀正記*
14:15 17B-20 超精密磁気研磨用新規砥粒の無電解めっき法による作製
（宇都宮大院工）○坂井勇磨，吉原佐知雄
14:30 17B-21 ヒドラジンを還元剤とする無電解純Niめっき膜の微細構造
（姫路工大院工，姫路工大工*）○福室直樹，濱田隆弘，横山敦之*，伊藤 潔，八重真治，松田 均
14:45 17B-22 無電解純ニッケルめっき膜のセラミックス基板との密着性
（姫路工大院工，姫路工大工*）○好田友洋，徳永大輔*，伊藤 潔，福室直樹，八重真治，松田 均
15:00 17B-23 無電解Ni-P/TiO2複合めっき膜の光触媒活性
（姫路工大院工*，姫路工大工**，JST-CREST***）○福室直樹*，小松聖季**，八重真治*,***，松田
均*
15:15 （休 憩）
15:30 17B-25 アルミニウム合金上への無電解Ni-Pめっきの密着性に及ぼす合金元素の影響
（岡山工技セ，岡山理大工*）○日野 実，村上浩二，平松 実，宮川陽介*，金谷輝人*，
15:45 17B-26 Alへの無電解Niめっき初期過程における核形成制御の試み
（北大院工）○安住和久，西村健司，瀬尾眞浩
16:00 17B-27 アルミニウム上ニッケルめっきの密着強度に及ぼす表面処理の影響
（九工大工）○岡本孝三，松尾仁志，恵良秀則，津留 豊
Ｃ会場
シンポジウム：陽極酸化皮膜のバリヤー皮膜とバリヤー層の微細構造と機能
9:30 17C-1 アノード酸化によるポーラスニオビアの作製
（工学院大工）〇長坂 匠，阿相英孝，小野幸子
9:45 17C-2 マグネシウム合金への環境調和型陽極酸化処理とその皮膜特性
（岡山工技セ，堀金属*，岡山理大工**）〇日野 実，平松 実，酒井宏司*，金谷輝人**
10:00 17C-3 高抵抗率半導体の陽極化成時における溶液接触境界部での電流集中の効果
（成蹊大工）〇馬場 茂，多久島和弘，中野武雄
10:15 17C-4 Si陽極酸化の成長条件による酸化膜内のシリコンと酸素の比率
（東京高専）〇柚賀正光，高橋三男，大山昌憲
10:30 （休 憩）
10:45 17C-6 電気泳動ゾル・ゲル法によりSiO２を被覆したアルミニウムのアノード酸化
（北大院工，北大*，岡山大**，室蘭工大***）〇砂田昌巳，坂入正敏*，高橋英明*，渡辺恵司**，平井
伸治***
11:00 17C-7 直流エッチングによって高配向アルミニウムに形成されるトンネルの生成機構の解明
(3)
（東理大理工，日本ケミコン*）小浦延幸，〇山崎 崇，宇井幸一，井手本 康，牧野 猛*，古川
雅一*，内 秀則*
11:15 17C-依頼講演⑭ エッチド箔上に形成される超高圧化成皮膜構造
（日本ケミコン基礎研究セ）古川雅一
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13:00～13:45 平成16年度協会賞受賞記念講演会
エレクトロニクスデバイス製造に対応する湿式めっき法の開発と応用に関する研究
（甲南大理工）縄舟秀美
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Ｃ会場 午後
シンポジウム：陽極酸化皮膜のバリヤー皮膜とバリヤー層の微細構造と機能
14:00 17C-19 スタンププロセスによるAl箔ピッティング開始点の制御
（都立大院工*，CREST JST**）〇西尾和之*,**，福島達郎*，益田秀樹*,**
14:15 17C-20 アノード酸化した単結晶Ta(100)表面のナノスクラッチング
（北大院工）〇川真田大輔，瀬尾眞浩
14:30 17C-21 陽極酸化したタンタルペレットの電気特性におよぼす熱処理の影響
（高純度物質研）和田浩明
14:45 （休 憩）
一般講演
15:00 17C-23 Low-voltage,high
resolution FE-SEMによる金属表面皮膜断面の観察および分
析
（Carl Zeiss,Japan，慶大経*，北大院工**）立花繁明，〇清水健一*，幅崎浩樹**
15:15 17C-24 rf-GDOESによるサブ・ナノ薄膜のデプスプロファイル分析
（慶大経，北大院工*）〇清水健一，幅崎浩樹*
15:30 17C-25 Ni-Sn電析物の微細構造TEM観察
（九大院工，九産大工*）○黒岩良之，大上 悟，中野博昭，福島久哲，小林繁夫*
15:45 17C-26 分子軌道法による亜鉛表面拡散機構の評価
（北大院工）○五百旗頭敬，安住和久，瀬尾眞浩
16:00 17C-27 水溶液中におけるCu(Ⅲ)上のフェナントロリンの吸着構造
（東北大NICHe*，東北大院工**，科技振***）○犬飼潤治*,**，杉政昌俊**，板谷謹悟**,***
16:15 17C-28 銅の磁気電析における表面形態と微細構造（２）
（埼玉県産総セ，学振科技特研*，能開大**）○森本良一，走出 真，杉山敦史*，青柿良一**
16:30 17C-29 時間分解スラブ光導波路分光法を用いたガラス表面へのチトクロームCの吸着挙動
のその場測定
（産技総研）○松田直樹，吉田貴充，高津章子，加藤健次
16:45 17C-30 粉体塗料の帯電量測定
（茨城大工）○
Ｄ会場 午前
一般講演
9:45 17D-2 反応性イオンプレーティングによるB-C-N系薄膜の形成
（日本工大）○絵面貴秀，渡部修一，三宅正二郎，村川正夫
10:00 17D-3 Fe-Co系合金のプラズマ浸炭におけるCo濃度の影響
（東理大理工）○本田 崇，藤本憲次郎，伊藤 滋
10:15 17D-4 プラズマCVD法により合成したDLC-Si膜の耐焼付き性
（豊田中研）○森 広行，中西和之，太刀川英男
10:30 17D-5 重畳バイアスPSII法により作製したDLC膜の特性
（長崎工技セ）馬場恒明，○畑田留理子
10:45（休 憩）
11:00 17D-7 Si-Oを添加したDLC膜の作製と機械的特性の評価
（岡山工技セ，松山技研*，岡山大工**）○國次真輔，西田典秀，野村博郎*，中西 真**，高田
潤**
11:15 17D-8 真空紫外光照射によるCVDダイヤモンドの表面改質
（千葉工大院，千葉工大*）○村椙隆雄，大嶋淳之，坂本幸弘*，吉岡俊朗*
11:30 17D-9 ハイブリッドナノダイヤモンド（HND）膜の成膜技術
（石川工試，JST*，オンワード技研**，金沢工大***） ○粟津 薫，池永訓昭*，安井治之，川畠大
志*，長谷川祐史**，作道訓之***
11:45 17D-10 YAGレーザを用いたG-ballの合成と雰囲気ガスの効果
（産総研，三重大工*）石原正統，中山敦子，小塩 明*，小海文夫*，田中章浩，古賀義紀，飯島澄
男
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13:00～13:45 平成16年度協会賞受賞記念講演会
エレクトロニクスデバイス製造に対応する湿式めっき法の開発と応用に関する研究
（甲南大理工）縄舟秀美
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Ｄ会場 午後
一般講演
14:00 17D-19 単一蒸発容器を用いたMOCVD法による鉛系強誘電体薄膜の作製
（東理大理工）○伊藤隆介，藤井 孝，藤本憲次郎，伊藤 滋
14:15 17D-20 CVD法によるSnO2薄膜作製とそのガスセンサ特性
（東理大理工）○大内聡洋，藤本憲次郎，伊藤 滋
14:30 17D-21 マグネトロンスパッタ法によるZnO系透明導電膜の作製
（長崎工技セ）○馬場恒明，畑田留理子
14:45 17D-22(技) 反応性スパッタリングによるαアルミナ成膜と皮膜評価
（神戸製鋼）○小原利光，玉垣 浩，碇 賀充
15:00 17D-23 反応性スパッタリングによるAgI薄膜の作製
（千葉工大）○柴田光寛，坂本幸弘，高谷松文
15:15 17D-24 WS2/MoS2/C
積層膜の摩擦特性に及ぼす積層周期の影響
（日本工大）○野城淳一，渡部修一，三宅正二郎
15:30 （休 憩）
15:45 17D-26 Cr3C2・NiCr溶射皮膜の特性に関する研究
（大阪産業大工）○馬込正勝，中島武彦
16:00 17D-27 AlおよびAl合金溶射皮膜の生体親和性に関する研究
（大阪産業大）○筒井良樹，馬込正勝
16:15 17D-28 改良型HVOF溶射による高ち密性硬質サーメットの作製と耐摩耗性耐食性評価
（物材機構，フジミインコーポレーテッド*，千葉工大**）○石川泰成，川喜多仁，黒田聖治，大澤
悟*，五日市剛*，坂本幸弘**，高谷松文**
16:30 17D-29 HVOF溶射における燃焼ガス組成制御による飛行粒子の酸化抑制
（NIMS）○川喜多仁, 黒田聖治