113回講演大会 プログラム

 

◆◆◆◆◆ 3月15日(水)◆◆◆◆◆

A会場

一般講演:腐食・防食・電池材料

9:45 15A-2 レジストメトリーを用いた地下埋設模擬環境における銅の腐食評価

(北大院工)○中島美穂,安住和久,瀬尾眞浩

10:00 15A-3 表面電位測定による塗膜下での腐食劣化評価

NIMS)○片山英樹,升田博之

10:15 15A-4 Mg及びNi金属粉末を出発物質とするMA法による共晶合金の合成

(首都大院工,都立大工*)○釜崎清治,武井泰憲,○石渡直矢*

10:30 15A-5 bcc構造を有する水素吸蔵合金の水素化脱水素化特性に関わる因子

(都立大院工,首都大院工*)○桜井隆幸,穴原 賢,池田耕平,釜崎清治*

10:45 (休憩)

11:00 15A-7 静電噴霧法を用いたナフィオン膜への電極触媒塗工

(長岡技科大工,東北大院工*)○梅田 実,川口俊輔,山田明文,内田 勇*

11:15 15A-8 固体高分子型燃料電池における触媒材料の電気化学的挙動

(芝浦工大工)○蓮見大樹,八木雄太,野田和彦,今井八郎

11:30 15A-9 固体高分子型燃料電池における供給水素の水分管理による発電特性変化

(芝浦工大工)○岩本力俊,八木雄太,野田和彦,今井八郎

11:45 15A-10 大気腐食模擬環境における表面処理鋼板のpH分布評価

(芝浦工大工)○平野富晴,野田和彦

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-13:45 平成18年度協会賞受賞記念講演会

      ドライプロセスによる機能性薄膜・表面の創製と応用

      (名大エコトピア科学研)高井 治

13:45-14:00 (休憩)

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一般講演:腐食・防食・アノード酸化膜

14:00 15A-19 アルミニウム合金の腐食挙動に及ぼす添加元素の影響

(芝浦工大工)○中嶋 晋,野田和彦

14:15 15A-20 Al合金基傾斜機能材料の耐食性に及ぼす金属間化合物の影響

(芝浦工大工,名工大工*)○宮原恵太,野田和彦,渡辺義見*,今井八郎

14:30 15A-21 電析によるAl基板上へのアルミナ薄膜形成法

(近畿大理工*,近畿大分子研**,青山学院大理工***)○長谷川惇*,石崎博基***,岩崎光伸*,多田弘明*,**,○伊藤征司郎*,**

14:45 15A-22  Alアノード酸化皮膜細孔中へのAu・Ag合金ナノロッドの電析

(近畿大理工*,近畿大分子研**)○加納俊和*,安井晃仁*,岩崎光伸*,多田弘明*,伊藤征司郎*,**

15:00 15A-23 アノード酸化皮膜上への交互浸漬法によるアパタイト成長メカニズム

(工学院大工)○清武篤嗣,阿相英孝,門間英毅,小野幸子

15:15 15A-24 (技) マグネシウム合金への環境調和型陽極酸化処理と機械的特性

(岡山工技セ,岡山理大工*,堀金属表面処理工業**)○日野 実,村上浩二,平松 実,住岡誠司*,金谷輝人*,西条充司**

15:30 (休憩)

15:45 15A-26 アノード酸化皮膜化成Al上への銅めっき層の形成とその剥離挙動

(北大院工,日軽蒲原*,日軽金アクト**)○斉藤貴雄,菊地竜也,高橋英明,久保立身*,佐藤恵一**

16:00 15A-27 ニオブアノード酸化皮膜の構造と誘電的性質に及ぼす前処理の影響

(北大院工,キャボットスーパーメタル*)○長原和宏,坂入正敏,菊地竜也,高橋英明,泉 知夫*

16:15 15A-28 ニオブのアノード酸化皮膜の誘電特性に与える電解質アニオンの影響

(工学院大工)○板谷浩丘,阿相英孝,小野幸子

16:30 15A-29 ニオブのアノード酸化により成長するポーラス皮膜の厚膜化

(工学院大工)○長坂 匠,阿相英孝,小野幸子

16:45 15A-30 ニオブ陽極酸化皮膜のレーザーラマン分光による表面解析

(東邦大理,千葉工大材料解析セ*,千葉工大工**)○長田龍介*,寺島慶一**,西村康寿,森山広思

 

B会場

シンポジウム:環境に対応する表面技術の現状と将来

9:45 15B-2(技) プラズマディスプレイパネル透明誘電体層の無鉛化におけるガラス基板に与える応力の最適化

(奥野製薬)○竹村康孝,木本正臣,村橋浩一郎,産一盛裕

10:00 15B-3(技) 亜鉛めっき鋼板上のクロメート皮膜の構造と耐食性

JFEスチール・スチール研)○岡井和久,妹川 透,松崎 晃,窪田隆広,野呂寿人

10:15 15B-4(技) GD-OESによる六価クロムフリー化成皮膜の分析と皮膜性能(耐食性)について(荏原ユージライト中研)○冨田和仁

10:30 15B-5(技) 黒色3価クロム化成処理皮膜特性に影響する要因

(奥野製薬)岩崎保紀

10:45  (休憩)

テクノプレゼンテーション:6価クロムフリー表面処理の最前線

11:00 15B-依頼講演@ 3価クロム系化成皮膜の評価とその問題点

(オムロン)伊藤貞則

11:45 15B-10(技) 亜鉛めっき上へのセリウム化成皮膜の耐食性向上

(阪市工研)○小林靖之,藤原 裕

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-13:45 平成18年度協会賞受賞記念講演会

      ドライプロセスによる機能性薄膜・表面の創製と応用

      (名大エコトピア科学研)高井 治

13:45-14:00 (休憩)

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シンポジウム:環境に対応する表面技術の現状と将来

14:00 15B-依頼講演A 自動車における6価クロム規制とその対応

(いすゞ自動車)浅利満頼

14:45 15B-22 6価クロム汚染土壌浄化に関する研究

(武蔵工大院,武蔵工大*)○森 浩孝,眞保良吉*,星野重夫*

15:00 15B-23 タングステン酸塩を用いたクロムフリー化成皮膜の皮膜構造

(阪市工研,奥野製薬*)○川舟功朗,吉川修一*

15:15 (休憩)

15:30 15B-依頼講演B コネクタからのウイスカ発生要因とその防止策

(日本航空電子工業)枝並範治

16:15 15B-依頼講演C 家電における環境負荷物質低減の取組みとめっき材料への期待

(松下テクノリサーチ)長沼 仁

 

C会場

ポスターセッション

9:45 PC-1 接触分解反応による繊維状炭素−酸化亜鉛複合体の合成

(東洋大院工*,凸版総研**,東洋大先端光セ***,物材機構物質研****)○岩崎幸治*,****,蒲生秀典**,蒲生西谷美香*,***,中川清晴****,安藤寿浩****

9:50 PC-2 コバルト触媒を用いた固液界面接触分解法による炭素ナノ材料の合成

(東洋大院工*,東洋大先端光セ**,凸版総研***,物材機構物質研****)○柴崎 健*,蒲生西谷美香*,**,蒲生秀典***,中川清晴****,安藤寿浩****

9:55 PC-3 ダウンフロー型マイクロ波プラズマ化学気相合成法による炭素系薄膜の合成

(東洋大院工*,凸版総研**,東洋大先端光セ***,物材機構物質研****)○島田健太郎*,蒲生秀典**,蒲生西谷美香*,***,中川清晴****,安藤寿浩****

10:00 PC-4 気相合成ボロンドープダイヤモンドのモルフォロジーに対する窒素添加効果

(東洋大院工*,東洋大先端光セ**,凸版総研***,物材機構物質研****)岩崎幸治*,****,蒲生西谷美香*,**,蒲生秀典***,中川清晴****,安藤寿浩**** 

10:05 PC-5 熱フィラメントCVDによるダイヤモンド合成におけるガス導入位置の影響

(千葉工大院,千葉工大*,大亜真空**)○渡邊一永,坂本幸弘*,高谷松文*,中田洋一**,井上英明**,冨江 崇**

10:10 PC-6 チャンバーフレーム法により合成したボロンドープダイヤモンドの特性評価

(日本工大)○王 伯倫,竹内貞雄

10:15 PC-7 フッ素含有DLC膜の形成とその摩擦特性

(日本工大)○杉山裕一,渡部修一,三宅正二郎

10:20 PC-8 RFプラズマCVD法により合成したDLC膜の疲労特性評価

(日本工大)○阿部喬晋,竹内貞雄

10:25 PC-9 イオンビームアシストによるDLC薄膜のミキシング層形成

(工学院大工)○足立真宏,鷹野一朗

10:30 PC-10 大面積プラズマによるポリマー基板表面修飾

(名大院工,名大エコトピア*)○横田隆史,齋藤永宏,高井 治*

10:35 PC-11 低エネルギー窒素イオン照射によるPMWA表面改質

(武蔵工大,カンワ工業資材*,千代田第一工業**)○浜村尚樹,初谷恵美子,荒井麻紗子,長泉寛太*,鈴木信夫**,岩尾 徹,湯本雅恵

10:40 (休憩)

10:55 PC-15 ニオブアノード酸化皮膜の結晶化に及ぼす異種イオンの封入効果

(北大院工,慶応大経*,東北大金研**)○小笠原健,幅崎浩樹,金野英隆,清水健一*,永田晋二**

11:00 PC-16 真空紫外光を利用した酸化亜鉛薄膜の作製

(名大院工,名大エコトピア*)○稗田純子,齋藤永宏,井上泰志*,高井 治*

11:05 PC-17 塗布光照射法によるSnO2膜成長に及ぼす基板材料の影響

(千葉工大,産総研*)○加藤文崇,土屋哲男*,渡邊昭雄*K.Daoudi*,五十嵐香,清水紀夫,熊谷俊弥*

11:10 PC-18 塗布光照射法による金属酸化物の低温成長

(産総研)○土屋哲男,真部高明,山口 巌,熊谷俊弥,水田 進

11:15 PC-19 窒素添加酸化チタン薄膜の窒素量が及ぼす光触媒特性への影響

(工学院大工)○中村 元,鷹野一朗

11:20 PC-20 光触媒のアセトアルデヒド分解活性に関する反応速度論的取扱いと評価(3)―分解速度に及ぼす湿度の影響―

(埼玉工大工)○森田剛旭,岡部芳雄,矢嶋龍彦

11:25 PC-21 金属微粒子援用エッチングにより無反射化した多結晶n-Si湿式太陽電池 ―粒子数制御とエッチング時光照射の効果―

(兵庫県立大院工*JST-CREST**)○阿部 真*,宮廻秀彰*,川岸辰則*,奈須紀明*,小林 努*,福室直樹*,八重真治*,**,松田 均*

11:30 PC-22 メロシアニンを用いた色素増感太陽電池

(茨城大工)○張 魯寧,竹内 学

11:35 PC-23 DMFC性能に及ぼす拡散層,膜接合の影響

(茨城大工,エフシー開発*)○鈴木 琢,江口美佳,堤 泰行*

11:40 PC-24 イオン液体中における金属チタン電極の電気化学的挙動

(京大院工)○中川英一,宇田哲也,邑瀬邦明,平藤哲司,粟倉泰弘

11:45 PC-25 鉄酸化進行におよぼすアニオンの影響

(東北大多元研)○篠田弘造,鈴木真也,Kwon Sang-Koo,蟹江澄志,鈴木 茂,早稲田嘉夫   ←

11:50 PC-26 斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のEC特性における律速因子

(名大院工,名大工*,名大エコトピア**)○山崎純一,倉永知英,鷹羽秀隆*,井上泰志**,高井 治**

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-13:45 平成18年度協会賞受賞記念講演会

      ドライプロセスによる機能性薄膜・表面の創製と応用

      (名大エコトピア科学研)高井 治

13:45-14:00 (休憩)

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シンポジウム:先導的バイオインターフェースの創製

14:00 15C-依頼講演D 色素とのコンジュゲーションによるDNAの光機能化

(名大院工)浅沼浩之

14:45 (休憩)

15:00 15C-依頼講演E 生体ナノ構造の力学特性

(東工大院)猪飼 篤

15:45 15C-26 バイオセンサー用Au膜の酵素吸着効率の改善

(東洋大院工,東洋大工*)○長谷川裕之,柏木邦宏,益子貴志*,今川 宏,角 量佑

16:00 15C-27 ITO電極表面に吸着したへプチルビオロゲンカチオンラジカルのSOWG分光法によるその場測定

(産総研,久留米高専*)○松田直樹,綾戸勇輔,板橋貴史*,高津章子,加藤健次

 

D会場

ポスターセッション

9:45 PD-1 リンゴ酸を用いた電気ニッケルめっき浴

(神奈川大工,ディスコ*)○野平 譲,岸本圭介*,小早川紘一,佐藤祐一

9:50 PD-2 スルファミン酸ニッケルめっき浴中のホウ酸の代替物質に関する検討

(関東学院大工*,関東学院大表面工学研**)○和久田陽平*,中丸弥一郎*,**,角田貴徳*,**,小岩一郎*.**,本間英夫*,**     

9:55 PD-3 高アスペクト比スルーホールへの無電解銅めっきの適用

(関東学院大工*,日立プリント基板ソリューション**,関東学院大表面工学研***)○樋口峰進*,王子雅裕***,小山田仁子***,宮崎智行**,依田健太郎**,本間英夫***,小岩一郎***,    

10:00 PD-4 銅電析に与える添加剤効果の電気化学的解析

(関東学院大院,関東学院大工*)○山口 仁,山下嗣人*

10:05 PD-5 アルミニウム板へのジンケート処理による亜鉛の析出挙動と密着性

(岡山理大工,岡山工技セ*)○西山俊一,金谷輝人,村上浩二*,水戸岡豊*,日野 実*,平松 実*

10:10 PD-6 巨視的欠陥をもつ亜鉛めっき鋼板の腐食挙動

(東理大理工,NIMS*)○武川 哲,板垣昌幸,渡辺邦洋,片山英樹*,升田博之*

10:15 PD-7 電析CoFe薄膜の磁気特性に及ぼすめっき下地層の影響

(早大院理工*,早大科健機構**,早大材研***)○林 乗栄*,中西卓也**,杉山敦史***,逢坂哲彌*,**,***     

10:20 PD-8 無電解CoNiFeB薄膜の軟磁気特性に及ぼす析出速度の影響

(早大理工*,早大材研**,早大科健機構***)○菊池雄太*,安達 健*,吉野正洋*,杉山敦史**,朝日 透***,逢坂哲彌*,**,***     

10:25 PD-9 種々の貴金属のp型シリコン上への光照射による析出制御

(京大エネ理工研)○川村洋介,作花哲夫,尾形幸生

10:30 PD-10 新規応力計によるめっき皮膜応力のin-situ測定

(関東学院大工*,関東学院大表面工学研**,山本鍍金試験器***)○本橋甲子明*,小山田仁子**,山本 渡***,小岩一郎*,**,本間英夫*,**

10:35 PD-11 UVによる改質処理を用いたポリイミド上への無電解めっき

(関東学院大工*,関東学院大表面工学研**,荏原ユージライト**)松井貴一*,石川久美子*,**,井上浩徳*,**,三浦修平***,小岩一郎*,**,本間英夫*,**

10:40 PD-12 逆ミセル法によるナノオーダーPt-Ni合金微粒子の作製

(神奈川大工,神奈川大工院*)○曽根伸也,古山博康*,森下正典*,小早川紘一,佐藤祐一

10:45 PD-13 異方性エッチングによる微粒子自己規則化構造のSi基板への転写

(工学院大工)○内堀航太,阿相英孝,小野幸子

10:50 (休憩)

11:05 PD-17 電気化学STMを用いたトリアジンジチオール誘導体の吸着挙動の解明

(神奈川大院工,産総研生物機能工学*)○金子信悟,吉本惣一郎*,澤口隆博*,鹿倉健太,亀山 敦,小早川紘一,佐藤祐一

11:10 PD-18 Fe電極上におけるトリアジンジチオール誘導体の電解重合と腐食抑制評価

(神奈川大院工,神奈川大工*)○渡辺雅紀,鹿倉健太,金子信悟,亀山 敦*,小早川紘一*,佐藤祐一*

11:15 PD-19 シラン系カップリング剤による複合撥水表面の動的撥水性評価

(神奈川科技アカデミー*,東工大理工**,東大工**)○橋本綾子*,宋 政桓*,酒井宗寿*,鈴木俊介*,**,吉田直哉*,**,亀島欣一*,**,阿久津洋介*,中島 章*,**

11:20 PD-20 大気圧プラズマによる超はっ水膜作製の試み

(名大院工,名大エコトピア*)○中西一生,Ilarion MIHAILA,齋藤永宏,井上泰志*,高井 治*

11:25 PD-21 RF-PCCVD法による超はっ水薄膜の作製と評価

(名大工,名大院工*,名大エコトピア**)○島津徳文,尹 龍燮*,折山延樹*,吉田敬典*,井上泰志**,齋藤永宏*,高井 治**

11:30 PD-22 自己組織化単分子膜の形成過程

(名大院工,名大エコトピア*)○李 先炯,齋藤永宏,高井 治*

11:35 PD-23 フェロセン誘導体を用いた自己集積化混合膜の作製とその電気化学応答

(京大院工)藤井章輔,李 庚晃,○邑瀬邦明,杉村博之

11:40 PD-24 自己組織化単分子膜上でのフィブリノーゲンの吸着構造

(名大院工,名大エコトピア*)○藤井聡之,齋藤永宏,井上泰志*,高井 治*

11:45 PD-25 ペルオキシダーゼ固定化ポリイオン複合膜を用いたバイオセンサへの応用

(茨城大工,産総研*)○岩澤健太,江口美佳,矢吹聡一*

11:50 PD-26 銀−塩化銀電極を用いた環境モニター用センサー特性

(芝浦工大工)○斉藤 知,野田和彦

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-13:45 平成18年度協会賞受賞記念講演会

      ドライプロセスによる機能性薄膜・表面の創製と応用

      (名大エコトピア科学研)高井 治

13:45-14:00 (休憩)

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シンポジウム:ナノ界面制御技術が拓く新材料

14:00 15D-依頼講演F表面波マイクロ波プラズマの特性とナノクリスタルダイヤモンド薄膜合成への応用

(東大名誉教授)桂井 誠

14:45 15D-22 ハイブリッドナノダイヤモンド(HND)膜のナノインデンテーション法による評価

(石川工試,金沢大工*,オンワード技研**)○安井治之,粟津 薫,池永訓昭*,作道訓之**,長谷川祐史**

15:00  (休憩)

15:15 15D-依頼講演G 高密度・高配向カーボンナノチューブの開発と応用

(ファインセラミックスセンター)楠美智子

16:00 15D-27 遷移金属担持触媒を用いたエチレンの接触分解反応によるナノ炭素材料合成

(東洋大工*,東洋大先端光センター**,凸版総研***,物材機構物質研****)○菊地真由子*,蒲生西谷美香*,**,蒲生秀典***,中山清晴****,安藤寿浩****

16:15  (休憩)

16:30 15D-29 化学還元析出法によるカーボンナノチューブ上への白金ナノ粒子の形成

(信州大工)新井 進,○小倉雅之,遠藤守信

16:45 15D-30 各種金属の溶融含浸処理による炭素材料の表面改質

(埼玉大工)杉山和夫,○田端勇祐,黒川秀樹,三浦 弘

17:00 15D-31 ポリビニルアルコールを含浸させた活性炭の表面特性

(埼玉大工)杉山和夫,○中嶋祐貴,黒川秀樹,三浦 弘

 

E会場

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-13:45 平成18年度協会賞受賞記念講演会

      ドライプロセスによる機能性薄膜・表面の創製と応用

      (名大エコトピア科学研)高井 治

13:45-14:00 (休憩)

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一般講演:機能薄膜形成

14:00 15E-19 パルス電解によるAl3+存在下におけるNi/Cu多層膜の作製

(岡山大院自然科学)林 秀考,○平石晴宜,岸本 

14:15 15E-20 双方向パルス電解法による金属表面の合金化処理

(京大院工)○八木俊介,邑瀬邦明,平藤哲司,粟倉泰弘

14:30 15E-21 めっき層の縦弾性係数(ヤング率)の新測定法

(名城大理工)○大槻敦巳,林 克典

14:45 15E-22 水溶液からのBi2Te3熱電半導体薄膜の電析

(名大院工,名大院環境*)○萩原健司,許 弼源*,市野良一,興戸正純

15:00 (休憩)

15:15 15E-依頼講演H 熱電変換素子への電気・熱接合

  (埼玉大院理工)長谷川靖洋

16:00 15E-27 p-Cu2O上への化学的オーミック銅電極形成

(奥野製薬,阪市工研*)○片山順一,大友さとみ,小林靖之*,伊崎昌伸*

16:15 15E-28 電気化学的手法によって作成されたメソポーラスニッケル酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性とその向上

(首都大院工)○吉野隆子,見崎吉成,益田秀樹

16:30 15E-29 低温焼成型IrO2・Ta2O5/Ti電極の経時変化と耐久性

(同志社大工,九大工院*)○盛満正嗣,高橋宏幸*,松永守央*

 

◆◆◆◆◆ 3月16日(木)◆◆◆◆◆

A会場

シンポジウム:新しい陽極酸化による表面処理技術

9:45 16A-2 マグネシウム合金とアルミニウム合金の接着強さに及ぼす化成処理の影響

(千葉工大)○高井 学,高谷松文

10:00 16A-3(技) マグネシウム合金の電解研磨

(埼玉県産技セ,千葉工大*)○出口貴久,高谷松文*

10:15 16A-4 マグネシウム合金の陽極酸化皮膜の摩擦・摩耗

(千葉工大)○河野立樹,高谷松文

10:30 (休憩)

10:45 16A-6 高温グリセリン溶液中におけるポア径の小さな多孔質アノード酸化アルミナ皮膜の形成

(北大工,北大院工*,慶大経**)○及川祐樹,幅崎浩樹*,金野英隆*,清水健一**

11:00 16A-7(技) 高周波・パルス電源によるアルミ合金陽極酸化の高品質・高速化

IDX)○小田島博道,児山佑二,林 一生

11:15 16A-依頼講演I アルミ電解コンデンサ用電極のアルマイト触媒への応用

(ニチコン)上田隆之

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12:00-13:00(休憩)

13:00-13:20 「第7回優秀講演賞」および「第12回学術奨励講演賞」授与式

13:20 会長あいさつ

13:25-14:25 特別講演・第64回武井記念講演会

       創造とセレンティピティー −表面処理における偶然の発見−

       (関東学院大工)本間英夫

14:30-15:30 平成18年度論文賞受賞記念講演会

14:30-15:00)熱延鋼板の内部酸化層が冷間圧延後の再結晶焼鈍時におけるSi, Mn表面濃化挙動に及ぼす影響

       (JFEスチール)○鈴木善継,京野一章

15:00-15:30)ゾル・ゲルコーティング/アノード酸化によるAl-Nb複合酸化物皮膜の形成

       (北大)○渡辺恵司,坂入正敏,高橋英明,(東北大金研)永田晋二,(室蘭工大)平井伸治

15:30-15:45(休憩)

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シンポジウム:新しい陽極酸化による表面処理技術

15:45 16A-26 Micro-Structure Patterning on Anodic Oxide Film of Aluminum by Laser Irradiation.

Hokkaido University)○H. Jha,T. Kikuchi,M. Sakairi and H. Takahashi

16:00 16A-27 レーザー照射と電気化学的手法を用いた3Dマイクロマニュピレータの作製とその性能に及ぼす電解質の影響

(北大院工)秋山好之,○菊地竜也,上田幹人,高橋英明

16:15 16A-28 ナノポーラス(Pd,Pt)/Al2O3/Al複合触媒電極の作製及び構造特性

(電中研材料研)○ショ 松竹,河村浩孝,森 昌史       

16:30 16A-29 陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型とするポリマーナノ規則表面の形成

KAST*,首都大院工**)○柳下 崇*,西尾和之*,**,益田秀樹*,**

16:45 16A-30 パープルゴールドのアノード酸化による微細構造の形成

(首都大院工)○西尾和之,小清水和敏,益田秀樹

 

B会場

一般講演:めっき・電析

9:30 16B-1 THFを溶媒として用いた電解質からのニッケルの電析−電気化学インピーダンス法による解析―

(東理大理工)○中村 航,板垣昌幸,渡辺邦洋

9:45 16B-2 疎水性室温イオン液体からのコバルトの電析挙動

(慶大理工)○片山 靖,福井隆太,美浦 隆

10:00 16B-3 イオン液体を用いたCu薄膜の電気化学的Cu-Sn合金化

(京大院工)○邑瀬邦明,黒崎良一,片瀬琢磨,平藤哲司,粟倉泰弘

10:15 16B-4 AlCl3-EMIC常温型溶融塩を用いたアルミニウムの配向電析-交流インピーダンス法による電析機構の解析-

(東理大理工)○八代高士,宇井幸一,井手本康,小浦延幸

10:30(休憩)

10:45 16B-6 Ni-P複合めっき膜の熱処理による組織変化

(信州大工,群馬大工*,仁テック**)○鈴木陽介,新井 進,荘司郁夫*,小林栄仁**

11:00 16B-7 Ni-B複合めっき膜の熱処理による組織変化

(信州大工,群馬大工*)○笠井脩司,新井 進,荘司郁夫*

11:15 16B-8 クエン酸浴を用いたNi-CNT複合めっき

(信州大工)新井 進,○窪田健一郎,遠藤守信

11:30 16B-9 スルファミン酸浴を用いたNi-CNT複合めっき

(信州大工)新井 進,○斉藤 隆,遠藤守信

11:45 16B-10 Ni-P-PTFE複合傾斜組成皮膜特性に及ぼす作製条件の影響

(関東学院大院,関東学院大表面工学研*)○西本洋道,山下嗣人*

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12:00-13:00(休憩)

13:00-13:20 「第7回優秀講演賞」および「第12回学術奨励講演賞」授与式

13:20 会長あいさつ

13:25-14:25 特別講演・第64回武井記念講演会

       創造とセレンティビティー −表面処理における偶然の発見−

       (関東学院大工)本間英夫

14:30-15:30 平成18年度論文賞受賞記念講演会

14:30-15:00)熱延鋼板の内部酸化層が冷間圧延後の再結晶焼鈍時におけるSi, Mn表面濃化挙動に及ぼす影響

       (JFEスチール)○鈴木善継,京野一章

15:00-15:30)ゾル・ゲルコーティング/アノード酸化によるAl-Nb複合酸化物皮膜の形成

       (北大)○渡辺恵司,坂入正敏,高橋英明,(東北大金研)永田晋二,(室蘭工大)平井伸治

15:30-15:45(休憩)

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一般講演:めっき・電析

15:45 16B-26 めっき電位測定による無電解ニッケルめっきにおける亜リン酸濃度評価の試み

(九州工大工,石川金属工業*)○岡本孝三,津留 豊,村上 隆*,大八木八七*

16:00 16B-27 無電解ニッケルめっきにおける下地アルミニウムの表面状態

(関東学院大表面工学研*,関東学院大**)○配島雄樹*,斎藤裕一*,柳沢英夫*,田代雅彦*,小岩一郎*,**,本間英夫*,**

16:15 16B-28 無電解Ni-PめっきのP偏析における各種錯化剤の影響

(関東学院大表面工学研*,関東学院大工**)○有田匡史*,斎藤裕一*,田代雅彦*,山下嗣人*,**,本間英夫*,**

16:30 16B-29 次亜リン酸の金属表面上における吸脱着反応の理論計算による解析

(早大理工)○島田拓哉,小田切秀一,中井浩巳,本間敬之

16:45 16B-30 リン酸系アニオンの沈殿除去特性に及ぼす金属イオンの影響

(名大院工)○山脇光晴,高桑敏裕,市野良一,興戸正純

 

C会場

一般講演:めっき・電析

9:30 16C-1 銅電析での析出形態変化に対する磁場効果

(埼玉県産総セ,早大材研*,能開大**)○森本良一,杉山敦史*,青柿良一**

9:45 16C-2 PR電鋳銅の内部応力および結晶配向に及ぼすPR電解条件の影響

(九工大工,旭金属工業*,中菱エンジニアリング**,三菱重工業***)○菊池仁志,津留 豊,中村 止*,田尻桂介**,壁谷善三郎***,梶間一広***

10:00 16C-3 SAM膜をレジストとして用いた電気銅めっきの異方性成長

(甲南大理工)○尾山祐斗,赤松謙祐,縄舟秀美

10:15 16C-4 電気化学的インピーダンス法を用いた銅電析反応の速度論的解析−反応メカニズムの決定−

(東理大理工)○小野俊昭,林 真,板垣昌幸,渡辺邦洋

10:30 (休憩)

10:45 16C-6 Fe-Pt合金めっき浴の開発

(田中貴金属工業)来田勝継

11:00 16C-7 電流制御法によるPd-Co機能皮膜の作製

(関東学院大院,山王*,関東学院大工)○楠 記暢,岩城泰彦*,山下嗣人**

11:15 16C-8 Co-Fe合金めっき膜の内部応力に及ぼす浴組成および水素発生の影響

(九工大工,三島光産*)○津留 豊,菊池仁志,小山未希子,大溝利行*,松尾正昭*

11:30 16C-9 電析法により作製された鉄族金属ナノワイヤーの磁気特性

(長崎大工,長崎大院*)○大貝 猛,野村茂樹*,水本将之,香川明男

11:45 16C-10 電解析出法によるCoPt磁性薄膜作製条件の検討

(早大理工,早大生医工研*)○蜂巣琢磨,亀尾亮平,丹羽大介*,本間敬之,逢坂哲彌*

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12:00-13:00(休憩)

13:00-13:20 「第7回優秀講演賞」および「第12回学術奨励講演賞」授与式

13:20 会長あいさつ

13:25-14:25 特別講演・第64回武井記念講演会

       創造とセレンティピティー −表面処理における偶然の発見−

       (関東学院大工)本間英夫

14:30-15:30 平成18年度論文賞受賞記念講演会

14:30-15:00)熱延鋼板の内部酸化層が冷間圧延後の再結晶焼鈍時におけるSi, Mn表面濃化挙動に及ぼす影響

       (JFEスチール)○鈴木善継,京野一章

15:00-15:30)ゾル・ゲルコーティング/アノード酸化によるAl-Nb複合酸化物皮膜の形成

       (北大)○渡辺恵司,坂入正敏,高橋英明,(東北大金研)永田晋二,(室蘭工大)平井伸治

15:30-15:45(休憩)

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一般講演:めっき・電析

15:45 16C-26 回転円板電極へのスズ/銀ナノ粒子複合めっき

(関西大院,阪市工研*,キザイ**,関西大工***)○樋口直貴,藤原 裕*,楢原泰栄子**,星山康洋***,三宅秀和***

16:00 16C-27 スズ/銀ナノ粒子複合めっきの析出機構

(阪市工研,関西大院*,関西大工**)○藤原 裕,樋口直貴*,星山康洋**,三宅秀和**

16:15 16C-28 銀ナノ粒子複合ポリアミド酸微粒子の作製および新規接合材料としての応用

(甲南大理工)○寺畑博晃,赤松謙祐,縄舟秀美

16:30 16C-29 樹脂の表面改質を利用する白金/ポリイミドナノコンポジットの作製

(甲南大理工)○足立智史,新開寛之,赤松謙祐,縄舟秀美

16:45 16C-30 溶媒剥離プロセスを利用したナノ粒子のパターン形成

(甲南大理工)○佐見津祥二,鶴岡孝章,赤松謙祐,縄舟秀美

 

D会場

シンポジウム:ナノ界面制御技術が拓く新材料

9:30 16D-依頼講演J 無機薄膜と高分子フィルムの界面制御とその応用

(三井化学マテリアルサイエンス研)福田 伸

10:15 16D-4 イオンビーム照射による生分解性樹脂の機械的特性の改善

(工学院大工)○鷹野一朗,市川拓哉,佐藤翔太,清水隆之,矢ヶ崎隆義

10:30 16D-5 イオン照射に伴う有機材料表面の状態変化の解析

(千葉工大工,横浜市工技支援セ*)○寺島慶一,松坂菊生,井出美江子*

10:45 (休憩)

11:00 16D-依頼講演K 粒子モルフォロジー制御による材料開発

(産総研)高尾泰正

11:45 16D-10 ゾルゲル法によるクラックフリーPZT圧電薄膜の形成とパターニング

(弘前大理工,豊橋技科大*)○三保拓也,石田幸司,峯田 貴,牧野英司,柴田隆行*

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12:00-13:00(休憩)

13:00-13:20 「第7回優秀講演賞」および「第12回学術奨励講演賞」授与式

13:20 会長あいさつ

13:25-14:25 特別講演・第64回武井記念講演会

       創造とセレンティピティー −表面処理における偶然の発見−

       (関東学院大工)本間英夫

14:30-15:30 平成18年度論文賞受賞記念講演会

14:30-15:00)熱延鋼板の内部酸化層が冷間圧延後の再結晶焼鈍時におけるSi, Mn表面濃化挙動に及ぼす影響

       (JFEスチール)○鈴木善継,京野一章

15:00-15:30)ゾル・ゲルコーティング/アノード酸化によるAl-Nb複合酸化物皮膜の形成

       (北大)○渡辺恵司,坂入正敏,高橋英明,(東北大金研)永田晋二,(室蘭工大)平井伸治

15:30-15:45(休憩)

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一般講演:ドライプロセス・炭素系薄膜

15:45 16D-26(技) ナノパルスプラズマ源を用いた大気圧下でのDLC膜合成

(日本ガイシ,東工大*)○斉藤隆雄,近藤好正,寺澤達矢,大竹尚登*

16:00 16D-27(技) ホローカソード放電を用いたDLCの内面コーティング

(神港精機)○寺山暢之,清水信行

16:15 16D-28 高周波プラズマCVD法で作製したDLC膜の磁気特性評価

(千葉工大,ユーテック*)○大関武士,松本健介,早川晴仁*,齋藤哲治,寺島慶一

16:30 16D-29 プラズマパルス堆積法によるSi-DLC薄膜の作製と分光エリプソメトリーによる評価

(栃木県産技セ)山田秀雄,○佐伯和彦,大和弘之

16:45 16D-30 PETへのDLC及びSiOxNyバリア膜の作製と膜構造及びガス透過性評価

(千葉工大,ユーテック*)○田中雅之,梅原孝紀,阿部浩二*,寺島慶一

 

E会場

シンポジウム:先導的バイオインターフェースの創製

10:00 15E-3 酸素修飾ナノ微粒子を固定化したマイクロセンサの作製と評価

(東北大院環境科学)○安川智之,沼井大輔,長峯邦明,珠玖 仁,末永智一

10:15 15E-4 ニトロセルロース膜を抗体固定化担体とした電気化学イムノアッセイ

(東北大院環境科学)○安川智之,フェラントパスカル,珠玖 仁,末永智一

10:30 15E-5 生体分子の組織化・分子認識による細胞培養表面

(名大院工,北陸先端材料科学*,名大エコトピア**)○佐藤 元,三浦佳子*,齋藤永宏,高井治**

10:45 15E-6 マイクロ波プラズマCVD法により作製した超撥水膜の毛細血管形成への応用

(名大エコトピア*,名大院工)○呉 雲影,伊野浩介,齋藤永宏,井藤 彰,高井 治*

11:00  (休憩)

11:15 15C-依頼講演L ガラス表面の微細加工を利用したタンパク質モータの運動機能の制御

(情報通信総合研究)大岩和宏

 

◆◆◆◆◆ 3月17日(金)◆◆◆◆◆

A会場

シンポジウム:新しい陽極酸化による表面処理技術

9:45 17A-2 表面荒れを抑制した高速陽極酸化方法の検討

(三菱化学半導体材料研)水谷文一

10:00 17A-3 アルカリ性化学研磨によるアルミニウム表面皮膜の深さ方向解析(3)

(武蔵工大)○浜村尚樹,新藤恵美,吉田 明

10:15 17A-4 アルカリ性化学研磨によるアルミニウム表面皮膜の深さ方向解析(4)

(武蔵工大)○新藤恵美,吉田 明,浜村尚樹

10:30  (休憩)

10:45 17A-6 アルミニウムの酸性およびアルカリ性化学研磨面における光の反射率

(武蔵工大)○吉田 明,新藤恵美,浜村尚樹

11:00 17A-7 アルミニウム電解コンデンサ用Al箔のトンネルピット配列の制御

(首都大院工*JST-CREST**)○福島達郎*,**,西尾和之*,**,益田秀樹*,**

11:15 17A-依頼講演M 蒸着技術を用いたアルミニウム電極箔

(日本ケミコン)牧野 猛

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-14:30 平成18年度技術賞受賞記念講演会

13:00-13:30)高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化

       (早大理工)逢坂哲彌,(東大院工)高井まどか,(日本電気)大橋啓之,(早大ナノ研)斉藤美紀子,(富士通)溝下義文,越川誉正

13:30-14:00)シリカオルガノゾルを耐圧向上剤として使用したアルミ電解コンデンサの開発

       (日本ケミコン)玉光賢次,辻 達紀,小澤 正,(三菱化学)宇恵 誠,武田政幸,佐藤智洋

14:00-14:30)アルミニウム合金の耐摩耗性の向上,ならびに異種金属,合金間の溶接性改善を目的とした表面処理技術の開発

       (日本プレーテック)及川 渉,竹内榮一,宅見 章,善林智範,石川祥久,(ムロコーポレーション)小室文稔,(日本テクノ)椛沢 均

14:30-14:45(休憩)

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一般講演:表面改質・アノード酸化・研磨

14:45 17A-22  ステンレス鋼の洗浄性に及ぼす加熱処理の影響

(岡山工技セ)○高橋和宏,福崎智司

15:00 17A-23 Alシートを用いた鋼材に対する耐酸化皮膜の作製

(松江高専)新野邊幸市

15:15 17A-24 β-Ti合金の火花放電陽極酸化により形成した硬質酸化膜のキャラクタリゼーション

(北大院工,慶大経*)小野寺恭志,○幅崎浩樹,金野英隆,清水健一*

15:30 17A-25 パルスアノード酸化法によるNiTi形状記憶合金表面上への保護皮膜作製

NIMS*,MPIE**)○川喜多仁,Achim W. Hassel,Martin Stratmann

15:45(休憩)

 

16:00 17A-27 アルコール溶媒系でのチタンの電解研磨と機構論的解析

(埼玉工大工,埼玉県産技セ*)○南 圭一,出口貴久*,岡部芳雄,矢嶋龍彦

16:15 17A-28 電解研磨処理を行ったチタン表面の耐食性

(山口産技セ,山口大工*,三和産業**)○村中武彦,森田昌行*,宮脇 晃**

16:30 17A-29 電解オゾン生成用電極の開発

(三洋電機ヒューマンエコロジー研)金田和博,池松峰男,井関正博,松浦英文,安田昌司

 

B会場

シンポジウム:エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開

9:30 17B-依頼講演N 平滑基板上の無電解めっき密着性と触媒吸着状態

(山梨大院医学工学総合研究部)柴田正実

10:15 17B-4(技) ガラスへのめっきにおける密着性の検討

(大和電機工業,山梨大工*,甲南大理工**)○西中山宏,高木史典,加藤健吾,野口 真,倉科匡,柴田正美*,縄舟秀美**

10:30 17B-5 自己組織化シラン単分子膜による平滑な銅箔とプリント樹脂基板の接着性向上の検討

(関東学院大院,関東学院大工*)○高橋 勝,山下嗣人*

10:45 (休憩)

11:00 17B-7 エッチングを必要としない平滑基板上への無電解めっき

(関東学院大*,関東学院大表面工学研**,太陽インキ製造***)○井上浩徳*,**,石川久美子*,**,林亮***,小岩一郎*,**,本間英夫*,**

11:15 17B-8 無電解めっきによる新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への適用

(宇都宮大院工)○半沢啓子,吉原佐知雄

11:30 17B-9 Naフリー無電解銅めっきにおける添加剤の微細配線溝埋め込みへの効果

(早大理工,Tel-Aviv大*)○川北 泉,長谷川円,沖中 裕,Y. Shacham-Diamand*,逢坂哲彌
11:45 17B-10 無電解めっきの析出開始率に影響を及ぼす因子

(長岡技科大分析計測セ)○小山勇人,西山 洋,斉藤信雄,程内和範,松原 浩,井上泰宣

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-14:30 平成18年度技術賞受賞記念講演会

13:00-13:30)高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化

       (早大理工)逢坂哲彌,(東大院工)高井まどか,(日本電気)大橋啓之,(早大ナノ研)斉藤美紀子,(富士通)溝下義文,越川誉正

13:30-14:00)シリカオルガノゾルを耐圧向上剤として使用したアルミ電解コンデンサの開発

       (日本ケミコン)玉光賢次,辻 達紀,小澤 正,(三菱化学)宇恵 誠,武田政幸,佐藤智洋

14:00-14:30)アルミニウム合金の耐摩耗性の向上,ならびに異種金属,合金間の溶接性改善を目的とした表面処理技術の開発

       (日本プレーテック)及川 渉,竹内榮一,宅見 章,善林智範,石川祥久,(ムロコーポレーション)小室文稔,(日本テクノ)椛沢 均

14:30-14:45(休憩)

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シンポジウム:エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開

14:45 17B-依頼講演O 半導体パッケージ基板用無電解Ni/Pd/Auめっき技術

(日立化成エレクトロニクス)長谷川清

15:30 17B-25 Al-Si合金薄膜めっきのジンケート前処理におけるCu前処理の効果

(北大院工,メルテックス*)○江越真之介,安住和久,瀬尾眞浩,川島 敏*,小山有一*

15:45 17B-26(技) シラン化合物による銅表面と絶縁樹脂の高接着技術の検討

(日立化成)○伊藤豊樹,井上文男,中祖昭士

16:00 (休憩)

16:15 17B-28 新規クロム酸エッチングフリー樹脂上めっき前処理プロセス

(荏原ユージライト中研)高徳 誠

16:30 17B-29 光触媒を用いたABS樹脂の改質効果

(関東学院大表面工学研*,トヨタ自動車**,関東学院大工***)○杉本将治*,田代雄彦*,別所 毅**,小岩一郎*,***,本間英夫*,***

16:45 17B-30 大型UV処理装置を用いたクロムフリーABS樹脂めっき方法

(関東学院大表面工学研*,関東学院大**,トヨタ自動車***)○清田浩之*,杉本将治*,田代雄彦*,別所 毅***,小岩一郎*,**,本間英夫*,**

 

C会場

一般講演:環境対応型めっき・めっき膜の評価・分析

9:30 17C-依頼講演P Pbフリーはんだ膜の接合強度について

(埼玉県産技総合セ)黒河内昭夫

10:15 17C-4(技) 無排水処理亜鉛めっきシステムの開発

(名市工研)○三宅猛司,久米道之

10:30 17C-5 電析Znの外観,結晶形態に及ぼす浴中微量無機不純物の影響

(九大院工,九産大工*)○谷口祥一,大上 悟,中野博昭,福島久哲,小林繁夫*

10:45(休憩)

11:00 17C-7(技) フォームめっき法によるNi皮膜とその耐食性評価

(東京農工大工)○三ツ屋静可,山田喜康,市原祥次,臼井博明

11:15 17C-8 耐食性の向上を目指したNi-Ceめっき

(岡山大院自然科学)林 秀考,○見津正一,岸本 昭

11:30 17C-9 Development of PPy-PMD12 and PPy-NDS double layer coating for corrosion protection of steel

(北大院工)○Kowalski Damian, Mikito Ueda, and Toshiaki Ohtsuka

11:45 17C-10 3価クロムを用いた硬質クロムめっき浴組成の検討

(武蔵工大院,武蔵工大*,)○上坂典弘,眞保良吉*,星野重夫*

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-14:30 平成18年度技術賞受賞記念講演会

13:00-13:30)高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化

       (早大理工)逢坂哲彌,(東大院工)高井まどか,(日本電気)大橋啓之,(早大ナノ研)斉藤美紀子,(富士通)溝下義文,越川誉正

13:30-14:00)シリカオルガノゾルを耐圧向上剤として使用したアルミ電解コンデンサの開発

       (日本ケミコン)玉光賢次,辻 達紀,小澤 正,(三菱化学)宇恵 誠,武田政幸,佐藤智洋

14:00-14:30)アルミニウム合金の耐摩耗性の向上,ならびに異種金属,合金間の溶接性改善を目的とした表面処理技術の開発

       (日本プレーテック)及川 渉,竹内榮一,宅見 章,善林智範,石川祥久,(ムロコーポレーション)小室文稔,(日本テクノ)椛沢 均

14:30-14:45(休憩)

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一般講演:表面改質・分析

14:45 17C-22 電気めっきによる磁気研磨砥粒の開発

(栃木県産技セ,桑名商事*,宇都宮大**)○大和弘之,大森和宏,小池勝美,斎藤哲男,鈴木亜矢*,桑名 朗*,大貫孝典**,山口ひとみ**

15:00 17C-23 ニッケル表面の光刺激電子イールドスペクトル解析

(茨城大工,足利工大*,産総研**)○佐野高浩,百瀬義広,桜井高夫*,中山景次**

15:15 17C-24 光・熱融合刺激電子放出現象を用いたシリコンウェーハの表面解析法

(茨城大工,足利工大*,産総研**)○佐藤 新,百瀬義広,桜井高夫*,中山景次**

15:30 17C-25 陽極化成によるポーラスシリコンのフォトルミネッセンススペクトルと表面処理効果

(成蹊大理工)○大澤修一,飯村靖夫,中野武雄,馬場 茂

15:45(休憩)

16:00 17C-27 静電粉体塗装の高性能化

(茨城大工)鈴木暁大,○竹内 学

16:15 17C-28(技) プレコートアルミニウム板の耐傷つき性に及ぼすPTFE添加の影響

(住友軽金属)○道木隆徳,細見和弘

16:30 17C-29 大気圧プラズマ処理によるPTFEの表面改質

(兵庫県立工技セ,日本ピラー工業*,阪大院工**)○柴原正文,赤松正守*,神崎 仁*,山村和也

 

D会場

一般講演:炭素系薄膜・表面処理

9:30 17D-1 13.56MHz高周波電源を用いた熱プラズマCVDによるダイヤモンド合成

(日本高周波,千葉工大*,東大名誉教授**)○木山信道,神田 稔,篠原己抜,鬼澤光一郎*,坂本幸弘*,高谷松文*,明石和夫**

9:45 17D-2 モード変換型マイクロ波プラズマCVDによるダイヤモンド合成

(千葉工大,千葉工大院*,大亜真空**)○高見義人,坂本幸弘,羽根田成也*,高谷松文,中田洋一**,冨江 崇**,井上英明**

10:00 17D-3 ホモエピタキシャルダイヤモンドの酸化による表面電気伝導性の変化

(東洋大院工*,凸版総研**,東洋大先端光セ***,物材機構物質研****)○岩崎幸治*,****,蒲生秀典**,蒲生西谷美香*,***,中川清晴****,安藤寿浩****

10:15 17D-4 フッ素添加DLC膜の除菌特性

(産総研,学芸大教育*)○石原正統,小坂知己*,中村挙子,津川和夫,長谷川雅考,古賀義紀

10:30(休憩)

10:45 17D-6 UBMスパッタ法により形成したDLC膜摩擦特性のラマンGピーク位置依存性

(大阪府産技研)○三浦健一,出水 敬,中村守正

11:00 17D-7 硫化物/DLCナノコンポジット膜の各種雰囲気における摩擦特性

(日本工大)○野城淳一,櫻井貴彦,渡部修一

11:15 17D-8 金属化合物系コーティングの高温トライボロジー特性

(日本工大,キャステック*)○木元マイケン,渡部修一,稲津宣之*,飯島 茂*

11:30 17D-9 ラジカル窒化および軟窒化による鋼の表面硬化

(千葉工大)○坂本幸弘,伊藤孝洋,高谷松文

11:45 17D-10 塩浴軟窒化処理後,高周波焼入れを施した鋼材の疲労強度特性

(武蔵工大)白木尚人,中澤洋二,○赤松俊之,鈴木元輝

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12:00-13:00 (休憩)

13:00-14:30 平成18年度技術賞受賞記念講演会

13:00-13:30)高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化

       (早大理工)逢坂哲彌,(東大院工)高井まどか,(日本電気)大橋啓之,(早大ナノ研)斉藤美紀子,(富士通)溝下義文,越川誉正

13:30-14:00)シリカオルガノゾルを耐圧向上剤として使用したアルミ電解コンデンサの開発

       (日本ケミコン)玉光賢次,辻 達紀,小澤 正,(三菱化学)宇恵 誠,武田政幸,佐藤智洋

14:00-14:30)アルミニウム合金の耐摩耗性の向上,ならびに異種金属,合金間の溶接性改善を目的とした表面処理技術の開発

       (日本プレーテック)及川 渉,竹内榮一,宅見 章,善林智範,石川祥久,(ムロコーポレーション)小室文稔,(日本テクノ)椛沢 均

14:30-14:45(休憩)

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一般講演:機能薄膜形成・表面処理

14:45 17D-22  反応性イオンプレーティングによる薄膜形成中の発光分光分析

(東洋大工,日本電子*)○阿部一彦,柏木邦宏,佐田洋平,高島 徹*,本間義和*

15:00 17D-23 マイクロ波表面波水素プラズマによる表面処理効果(2)

(ミクロ電子,東洋大工*,コンサルタント事務所PTC**)○中山貴道,滝沢 力,柏木邦宏*,坂本雄一**

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15:15 17D-24 RFスパッタによるMgO薄膜の二次電子放出の機構と絶縁破壊による電子供給

(成蹊大理工)○仲田大輔,藤本 崇,中野武雄,馬場 茂

15:30 17D-25(技) イオンプレーティング法によるMgF2薄膜の作製

(新明和工業開セ)○堀 崇展,近藤隆彦,武内 清

15:45(休憩)

16:00 17D-27 ケイ酸ナトリウム溶液と塩酸からのSiO2系薄膜の作製における成膜の大面積化

(東理大理工)○伊藤 滋,中山英一,古川尚稔,藤本憲次郎

16:15 17D-28 塗布光照射法によるLa1-xSrxMnO2膜の作製とその電気特性

(産総研,NEC基礎・環境研*)○土屋哲男,真部高明,山口 巌,熊谷俊弥,水田 進,吉武 務*,久保佳実*

16:30 17D-29 III-VI族化合物半導体GaTeの作製と膜構造評価

(東京高専)○伊藤 浩,大山昌憲

16:45 17D-30 高密度窒素プラズマ支援スパッタリングによるGaN/AlNヘテロエピタキシー

(産総研)○松本貴士,木内正人