2012年:63巻9号

63巻9号(2012年9月号),Pages 539-604
巻頭言
便利さの危険・観察することの大切さ
Page 539
太田 能生
小特集:最新の低温溶射(コールドスプレー)の現状
企画趣旨
「小特集:最新の低温溶射(コールドスプレー)の現状」の発刊にあたり
Page 540
児島 慶享
解説
新しい溶射法コールドスプレーの現状と課題
Pages 541-547
榊  和彦
解説
コールドスプレー法における固相粒子の付着メカニズム
Pages 548-552
小川 和洋
解説
コールドスプレー法によるセラミックス厚膜の創製
Pages 553-557
福本 昌宏,山田 基宏
解説
コールドスプレー法におけるWCサーメット粉末の開発とその成膜
Pages 558-561
北村 順也,佐藤 和人
小特集:めっきにおける分析技術(Ⅱ)
解説
ポーラログラフィーの原理と分析事例
Pages 562-564
吉田 康平,市場 計輔
解説
ICP発光分光分析装置の原理と分析事例
Pages 565-570
大森 敬久
トピックス
めっき浴管理の新しい方向性:マルチタスク電気化学プローブを使用した電気めっき浴“健全性”の高速自動診断法
Pages 571-575
著:Aleksander Jaworski,Hanna Wikiel,Kazimierz Wikiel,訳:上川 和成
シリーズ/表面技術の歩み-25
アルマイトの歩み(2) 硬質アルマイト技術
Pages 576-580
平山 良夫
研究論文
アルゴンプラズマエッチングがシリコンへの金属微粒子無電解置換析出に及ぼす影響
Pages 581-584
藤原 良太,萩原 泰三,松田 貴士,江籠 卓馬,福室 直樹,八重 真治,松田  均
技術論文
1-オクタデカンチオール自己組織化単分子膜による無電解Au/Ni-Pめっき皮膜の耐食性向上
Pages 585-590
小野 和秀,倉科  匡,名取 勇太,高橋 幸司,野長瀬 裕二,兒玉 直樹
技術論文
添加剤フリーワット浴から得られたニッケルめっきの硬度と組織に及ぼすパルス電解の影響
Pages 591-595
三宅 猛司,加藤 雅章,高松  輝,市野 良一
速報論文
ジニトロスルファト白金(Ⅱ)酸浴から電析したPt膜中の水素
Pages 596-597
久永 尚哉,福室 直樹,八重 真治,松田  均
速報論文
XPSによるCo-Pめっき膜の耐硫黄性の評価
Pages 598-599
有山 雄介,池山 弘一,山口 文雄