| 共催 | (一社)表面技術協会：関東支部，材料機能ドライプロセス部会 |
|---|---|
| 日時 | 平成23年6月3日(金) 13：30〜16：45（受付開始13：00） |
| 会場 |
(独)産業技術総合研究所 つくばセンター 共用講堂1F「多目的室」 http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html |
|
講演
|
13：30-14：30
大面積グラフェンのＣＶＤ合成とトランジスタへの応用
(独)産業技術総合研究所
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター佐藤信太郎
14：30-15：30
グラフェン低温合成と透明導電膜応用
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター長谷川雅考
15：30-15：45
休憩
15：45-16：45
グラフェンの化学的合成とヘテロ原子ドーピング
東京大学大学院新領域創成科学研究科斉木幸一朗
|
| 参加費 |
本部会会員1社2名迄無料 本会会員1名1,000円 一般1名3,000円 （テキスト代，消費税含む） |
| 申込方法 |
住所，氏名，所属，連絡先（電話番号またはメールアドレス）を明記のうえ， (一社)表面技術協会 材料機能ドライプロセス部会宛Faxまたはメールにてお申し込み下さい。 （Fax：03-3252-3288，E-mail：sfj@ce.mbn.or.jp） |