| 日時 | 平成23年11月18日（金）13：30〜16：45 |
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| 集合 |
13:30 東京都立産業技術研究センター新本部5階531会議室
（東京都江東区青海2-4-10，TEL：03-5530-2520＜広報＞）
交通：
新交通ゆりかもめ「テレコムセンター駅」徒歩1分（駅前）
りんかい線「東京テレポート駅」産技研無料送迎バス3分
（東京テレポート駅発：12:17，12:55，13:17）
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| 内容 |
1．東京都立産業技術研究センター新本部紹介
2．講演
(1)クエン酸ニッケルめっきの開発とその後の展開
同センター土井正
(2)VOC排出削減のためのセンサと処理技術の開発
同センター小坂幸夫
3．東京都立産業技術研究センター新本部見学
4．質疑応答
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| 参加費 | 無料 |
| 申込方法 |
参加者名，所属，連絡先住所，電話番号，Fax番号を明記のうえ，Faxにて下記あてお申し込みください。 (一社)表面技術協会 関東支部（Fax．03-3252-3288） |