第93回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)例会

-平成28年度チュートリアル:アノード酸化の基礎-

昨年に引き続き平成28年度チュートリアル講演例会を開催いたします。金属のアノード酸化技術は,様々な分野で広範に用いられ,重要性を増しつつあります。本会では,例会,コンファレンスを通じ,アノード酸化に関する最新の研究成果のディスカッションを行っておりますが,一方、新たにアノード酸化技術を利用される研究者や技術者も少なくありません。そこで,アノード酸化の初心者,あるいはこれから関連研究をはじめようとする研究者,技術者,学生を対象として「アノード酸化のサイエンスの基礎」に主眼を置いたチュートリアル例会を企画いたしました。今回は3名の講師に,バリヤー型,ポーラス型アノード酸化皮膜形成の基礎,A1以外のアノード酸化皮膜分析の基礎について,わかりやすく解説していただきます。これからアノード酸化を利用されようとする方およびアノード酸化を基礎から学びたいという方の多数の参加をお待ちしております。

主  催 (一社)表面技術協会・金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)
地方独立行政法人大阪市立工業研究所
協  賛日本化学会,電気化学会,軽金属学会,日本表面科学会,近畿アルミニウム表面処理研究会,電気鍍金研究会,他
日  時平成28年6月17日(金)13:00~17:30
会  場地方独立行政法人大阪市立工業研究所 大講堂(大阪市城東区森之宮1-6−50)
交通:JR大阪環状線または大阪市営地下鉄中央線・長堀鶴見緑地線「森ノ宮駅」 徒歩5分
http://www.omtri.or.jp/map/
参 加 費ARS会員,学生:無料,一般:3,000円,ミキサー:3,000円(当日会場でお支払いください。)
申込締切6月10日(金)
申込方法1)氏名,2)所属,3)連絡先(住所,電話番号,E-mail),4)会員種別(ARS会員/一般/学生),5)ミキサー参加有無を明記の上,下記申込先へE-mailでお申込みください。
申 込 先ARS部会事務局:ars@sfj.or.jp
プログラム
13:00~13:05
開会挨拶
13:05~14:25
バリヤー型アノード酸化皮膜形成の基礎
日本ケミコン(株),北海道大学名誉教授 高橋 英明
14:25~14:35
休憩
14:35~15:55
ポーラス型アノード酸化皮膜形成の基礎
首都大学東京 益田 秀樹
15:55~16:05
休憩
16:05~17:25
Al以外の金属のアノード酸化の基礎
大阪大学 土谷 博昭
17:25~17:30
閉会挨拶
17:45~19:00
ミキサー