第96回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)例会

-平成29年度チュートリアル:アノード酸化の基礎-

恒例となりましたチュートリアル講演例会を開催いたします。金属のアノード酸化技術は,様々な分野で広範に用いられ,重要性を増しつつあります。本会では,例会,コンファレンスを通じ,アノード酸化に関する最新の研究成果のディスカッションを行っておりますが,一方,新たにアノード酸化技術を利用される研究者や技術者も少なくありません。そこで,アノード酸化の初心者,あるいはこれから関連研究をはじめようとする研究者,技術者,学生を対象として「アノード酸化のサイエンスの基礎」に主眼を置いたチュートリアル例会を企画いたしました。今回は3名の講師に,バリヤー型,ポーラス型アノード酸化皮膜形成の基礎,アノード酸化皮膜を含む表面および断面の観察技術の基礎について,わかりやすく解説していただきます。これからアノード酸化を利用されようとする方およびアノード酸化を基礎から学びたいという方の多数の参加をお待ちしております。

主  催(一社)表面技術協会・金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)
協  賛日本化学会,電気化学会,軽金属学会,日本表面科学会,日本金属学会,腐食防食学会など(予定)
日  時平成29年6月23日(金)13:00~17:30
会  場首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス(千代田区外神田1-18-13 秋葉原ダイビル12F)
交通:JR「秋葉原駅」徒歩1分
http://www.tmu.ac.jp/university/campus_guide/access.html
参 加 費ARS会員,学生:無料,一般:3,000円,ミキサー:3,000円(当日会場でお支払いください。)
定  員60名
申込締切6月9日(金)(定員になり次第締切)
申込方法1)氏名,2)所属,3)連絡先(住所,電話番号,E-mail),4)会員種別(ARS会員/一般/学生),5)ミキサー参加有無を明記の上,下記申込先へE-mailでお申込みください。
申 込 先ARS部会事務局:ars@sfj.or.jp
プログラム
13:00~13:05
開会挨拶
13:00~13:05
開会挨拶
13:05~14:25
バリヤー型アノード酸化皮膜形成の基礎
工学院大学 小野 幸子
14:25~14:35
休憩
14:35~15:55
ポーラス型アノード酸化皮膜形成の基礎
首都大学東京 益田 秀樹
15:55~16:05
休憩
16:05~17:25
表面・断面の観察の基礎
i-SEM Laboratory,慶應義塾大学 清水 健一
17:25~17:30
閉会挨拶
17:45~19:00
ミキサー