「特集/金属・半導体のアノード酸化研究の最前線」論文募集

アノード酸化技術は,理化学研究所の開発した“アルマイト”技術に端を発する日本発祥の技術であり,以来アノード酸化の基礎研究および応用技術で,日本は世界の最先端を進んでいるといっても過言ではありません。アルミニウムで始まったアノード酸化皮膜技術も,近年では,マグネシウム,チタン,鉄,ニオブ,タンタル,タングステン,ステンレス鋼などにその対象は広がり,かつてはアルミニウムの陽極酸化皮膜特有の構造と考えられていた規則的な多孔質構造もいくつかの金属の陽極酸化皮膜で得られることがわかってきました。一方,アノード溶解技術も電解コンデンサ用拡面処理として広く使われてきましたが,近年シリコンのエッチング技術も進展を見せて,ナノテクノロジーの分野などへ応用は広がりつつあります。本協会はアノード酸化技術に関する最も重要な学協会のひとつであり,かつ,アノード酸化技術は本協会の根幹をなす主要技術のひとつです。ところが表面技術誌においてアノード酸化の特集号は,表面技術と改称した29年前の1989年以来ありませんでした。そこで,会誌編集委員会では,本協会のアノード酸化の中心研究者からなる作業部会の協力の下,このアノード酸化技術の久々の特集号を本年12月号に「金属・半導体のアノード酸化研究の最前線」と題して企画いたします。第一線の研究者による総説,解説,多くのトピックス記事を含めてこれまでのアノード酸化研究を概観し,ますます広がりを見せるアノード酸化研究の将来を展望する機会と考えております。つきましては,下記募集要項を参照の上,アノード酸化技術およびその周辺関連技術に係る会員諸氏の研究および技術的成果を,ぜひともご投稿いただきたくお願いいたします。

内  容

1)金属・半導体のアノード酸化皮膜の形成およびその応用に関する学術的な成果と技術に関する研究

2)金属・半導体のアノード溶解を伴うエッチングに関する学術的な成果と技術に関する研究

3)金属・半導体のアノード酸化の利用に関する周辺技術の研究および技術的成果

上記以外でも少しでもアノード酸化に係る内容であれば,ご投稿を歓迎いたします。

投稿締切
研究論文・技術論文 平成30年6月29日(金)
ノート・速報論文 平成30年8月31日(金)
投稿規程 通常の「表面技術」誌の投稿規程と同じです。
発  行 第69巻12号(平成30年12月1日発行)予定
提  出 投稿論文の提出は,投稿専用Webサイトより行ってください。
*投稿専用Webサイト:https://www.editorialmanager.com/sfj/
*投稿の際,一般投稿論文と区別するため,「特集:金属・半導体のアノード酸化研究」と記載してください。 また,内容などについては編集係までお問い合わせ下さい。