受賞候補者の推薦について

公益財団法人岩谷直治記念財団から上記の表彰につきまして本会宛に候補者の推薦依頼がきております。本会からの推薦を希望される方は，同財団所定の推薦書を，7月20日（金）（必着）までに本会事務局宛にご送付ください。審議のうえ，推薦が適当と認めた方は，本会から推薦させていただきます。

公益財団法人岩谷直治記念財団
第45回（平成30年度）岩谷直治記念賞

1．表彰の趣旨

岩谷直治記念賞は，わが国高圧ガス関係諸事業の発展に尽力した岩谷直治氏の業績を記念し，エネルギーおよび環境に関する優れた技術開発で，かつ顕著な産業上の貢献が認められている業績を表彰することにより，斯界の一層の発展を図り，国民生活の向上に寄与することを目的とします。

2．表彰の対象

1）業績の対象

学会・協会およびその他研究機関等が，次の項目に関し優れた技術開発でかつ産業上の貢献を認めた業績とします。

（1）生産プロセスの合理化によるエネルギーの有効利用，効果的な環境保全の達成

（2）エネルギーおよび環境に関する独創的な技術の開発

（3）エネルギーおよび環境に関連した新素材，バイオ新技術およびエレクトロニクス新技術の開発

2）対象者

個人またはグループとし，グループの場合はその代表者を候補者とします。なお，候補者は必ずしも学会・協会の会員その他研究機関等の所属員であることを要しません。

3．表彰の内容

原則として毎年2件以内とし，1件について賞状，賞牌および副賞300万円を贈呈します。

3．推薦要項および推薦書のダウンロード

3．問合せおよび推薦書提出先

一般社団法人表面技術協会
　　〒101-0041 千代田区神田須田町2-7-1，TEL：03-3252-3286，E-mail：info@sfj.or.jp