第78回表面技術アカデミック研究会討論会
テーマ：半導体プロセスにおける原子層スケールの先端表面処理技術
| 主 催 | (一社)表面技術協会 | |||||||||
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| 協 賛 | (公社)電気化学会，(一社)日本表面処理機材工業会，全国鍍金工業組合連合会(予定) ほか | |||||||||
| 日 時 | 2021年 12月9日（木）13：00～17：00 | |||||||||
| 開催方式 | オンライン講演会 | |||||||||
| 注意事項 | オンライン講演会の開催に伴い，参加者の皆様には，参加者限定の情報を第三者に伝えないようにお願いするとともに，発表画面を録画・撮影しないようにお願い申し上げます。 | |||||||||
| 講 演 |
13：00～13：05 開催の挨拶
アカデミー実行委員会 委員長 川喜多 仁
13：05～13：45 原子層成長プロセス(ALD)の基礎ならびに選択成長に対する表面処理効果
東京大学大学院工学系研究科 霜垣 幸浩
13：45～14：00 質疑応答/休憩
14：00～14：40 ALD用原料およびプロセスの開発
(株)高純度化学研究所 水谷 文一
14：40～15：20 原子層堆積法の特徴を利用した電子デバイスの作製
(国研)物質材料研究機構 生田目俊秀
15：20～16：00 原子層エッチング(ALE)における表面反応
大阪大学アトミックデザイン研究センター 唐橋 一浩
16：00～16：40 ALDプロセスを中心としたピュアオゾン半導体表面処理技術
明電ナノプロセス・イノベーション(株) 亀田 直人
16：40～17：00 総合討論
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| 定 員 | 80名（申込順に受付，定員になり次第締切） | |||||||||
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参 加 費
（消費税含む） |
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| 申込方法 |
参加申込書（EXCEL）に必要事項をご記入のうえ，下記の申込先に電子メール（添付ファイル）にてご送付ください。
※参加費のお支払いには，郵便振替・銀行振込・現金書留をご利用いただけますが，事務処理上，郵便振替でのお支払いをご検討ください。なお，請求書が必要な方は参加申込書をご送付の際，その旨を記してください。
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| 振 込 先 |
郵便振替口座：00130-2-123987 一般社団法人表面技術協会 銀行振込口座：三菱UFJ銀行 室町支店 普通 No.0360637 一般社団法人表面技術協会
※申込後の取り消しや不参加の場合にも参加費の払い戻しはいたしません。
その場合には，代理の方のご出席をお願いいたします。 |
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| 申 込 先 |
(一社)表面技術協会 第78回表面技術アカデミック研究会討論会 〒101-0033 東京都千代田区神田岩本町4-9 TEL：03-3252-3286，FAX：03-3252-3288，E-mail：info@sfj.or.jp |