第37回アノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)

三河コンファレンス 開催のお知らせ

「第37回アノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)三河コンファレンス」を下記のように開催いたします。3年ぶりとなりますが,感染防止に配慮した形式での対面開催といたします。アルミニウムを中心に金属・半導体のアノード酸化皮膜の基礎と応用についての最新の話題を,企業および大学で活躍されている講師の方々にご提供いただきます。また,学生・若手による研究発表を募集しております。優れた発表には選考により優秀発表賞を授与いたします。皆様奮ってご応募・ご参加くださいますようお願いいたします。

WEBサイト 詳細は部会WEBサイト( https://ars.sfj.or.jp/ )を参照ください。
主  催(一社)表面技術協会 アノード酸化皮膜の機能化部会(ARS部会)
協  賛(公社)日本金属学会,(一社)軽金属学会,(公社)応用物理学会,(公社)日本表面真空学会
会  期2022年11月8日(火)13:00~ 9日(水)17:00
会  場愛知工科大学 AUTホール(〒443-0047 愛知県蒲郡市西迫町馬乗50-2)
形  式会場での対面による講演・発表・聴講を原則としますが,聴講のみの場合はオンライン参加も可能です。(今後の新型コロナ感染症の状況によっては完全オンライン開催に変更する場合もあります。)詳細は,上記URLをご覧ください。
プログラム
1日目:11月8日(火)
13:00 開会挨拶
学生・若手による研究発表(発表8分間,質疑4分間)
13:05~13:55 座長:菊地竜也
O-1 バリヤー型アルミナ皮膜の特性に及ぼすポリグリセリンの添加効果
(工学院大学)田玉侑里,阿相英孝,和田純一,保田亮二
O-2 アミノ酸添加硫酸中におけるアノード酸化アルミナの生成効率
(工学院大学)楠山翔太,阿相英孝
O-3 調質の異なる7075アルミニウム合金上でのアノード酸化アルミナの生成効率
(工学院大学)佐野拓馬,若林佑輝,阿相英孝
O-4 アノード酸化による高密着性アルミニウム表面の作製
(UACJ)中島大希,斉藤聡平,京 良彦,箕田 正
14:00~15:00 座長:大澤伸夫
O-5 塩基性二リン酸ナトリウム水溶液を用いたアルミニウム陽極酸化皮膜のナノ構造解析
(北海道大学)寺島彩紗,岩井 愛,菊地竜也
O-6 低濃度リン酸液での高電圧陽極酸化中に生ずる焼けについて
(目黒第十中学校)水木一成
O-7 アルミニウムバイポーラ電極上の酸化膜成長:硫酸とシュウ酸の比較
(工学院大学)上村 葵,阿相英孝
O-8 バイポーラアノード酸化時の実効電圧に及ぼす金属種の影響
(工学院大学)國毋優香,阿相英孝
O-9 アルミナスルーホールメンブレンの幾何学形状制御と特性評価
(東京都立大学)傍士陽太,柳下 崇
15:15~16:05 座長:阿相英孝
O-10 100 MHz帯域で動作するインダクター用磁性微粒子内包アルミナテンプレートの作製
(奈良工業高等専門学校1,東北大学2) 平松詢也1,濱田敬文1,藪本健成1
石飛 学1,遠藤 恭2,藤田直幸1
O-11 めっき法により作製したFe-Ni合金上における多孔質アノード酸化皮膜の生成
(京都市産業技術研究所)紺野祥岐,山本貴代,永山富男
O-12 SUS304の陽極酸化によるナノホールアレーの形成と細孔配列制御
(東京都立大学)長田悠雅,柳下 崇
O-13 塩化ナトリウム/エチレングリコール溶液を用いたマグネシウムの電解研磨
(北海道大学)富田駿介,宮本和哉,菊地竜也
16:10~17:00 座長:深見一弘
O-14 可視光応答するアノード酸化ポーラスZnO皮膜の形成
(北海道大学)江口知臣,増田凌也,北野 翔,青木芳尚,幅崎浩樹
O-15 金および銀ナノ粒子を用いたシリコンの金属援用エッチングにおける全面腐食の評価
(兵庫県立大学)橋口達希,東 恭平,西中 凜,松本 歩,八重真治
O-16 白金微粒子を用いた低抵抗シリコンの金属援用エッチング
(兵庫県立大学)東 恭平,西中 凜,橋口達希,松本 歩,八重真治
O-17 白金薄膜パターンを用いたn型およびp型シリコンの金属援用エッチング
(兵庫県立大学)西中 凜,東 恭平,橋口達希,松本 歩,八重真治
2日目:11月9日(水)
セッション1:アルミニウムのアノード酸化(座長:田口善弘)
9:30-10:05
I-1 アルコール含有電解液を用いたアノード酸化アルミナの硬質化と電流効率に関する基礎検討
 (工学院大学)阿相英孝
10:05-10:40
I-2 塩化ナトリウム/エチレングリコール溶液を用いたポーラスアルミナの高速電解剥離
 (北海道大学)菊地竜也,宮本和哉,岩井 愛
10:50-11:25
I-3 大周期高規則性ポーラスアルミナの形成
 (東京都立大学)柳下 崇
特別セッション(座長:坂入正敏)
11:25-12:00
I-4 新しい時代に向けた研究開発活動について
 (東洋アルミニウム 顧問)足高善也
セッション2:アルミニウムとエネルギーデバイス(座長:水木一成)
13:00-13:35
I-5 新次世代高電力密度パワーエレクトロニクス機器に向けた高性能コンデンサの研究開発
 (日本ケミコン)田中淳視
13:35-14:10
I-6 電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔の鉛の表面偏析
 (UACJ)大澤伸夫
14:10-14:45
I-7 イオン液体を用いるアルミニウム電析とその応用
 (岩手大学)宇井幸一
セッション3:金属の局所表面処理と半導体に関わるアノード酸化(座長:土谷博昭)
15:00-15:35
I-8 マルチタイプ微小セルによる局部表面処理
 (北海道大学)坂入正敏
15:35-16:10
I-9 アノード酸化による半導体ナノホールアレイの形成と機能化
 (愛知工科大学)近藤敏彰
16:10-16:45
I-10 格子欠陥に起因する電気化学活性制御によるSiCの陽極酸化
 (京都大学)深見一弘
参加申込1)氏名,2)所属,3)連絡先(e-mail, 電話番号),4)会員種別(ARS部会会員,学生,表協・協賛学協会会員,一般)と「オンサイト参加とオンライン参加の別」を明記の上,事務局にe-mailでお申し込みください。
参 加 費
ARS部会会員(大学所属等)5,000円
ARS部会会員(民間企業所属)7,000円
表面技術協会・協賛学会会員(大学所属等)8,000円
表面技術協会・協賛学会会員(民間企業所属)10,000円
一般12,000円
学生1,000円
※オンライン参加者(学生を除く)には上記に加え,オンライン配信と開催後の予稿集冊子郵送など
 にかかる経費として2,000円負担いただきます。
※コロナ対策のため実施形式が異なることから,例年とは参加費が異なります。
参加申込締切10月14日(金)
定  員70名
申 込 先
問 合 先
ARS部会事務局
E-mail:ars_office(アットマーク)eng.u-hyogo.ac.jp
〒671-2280兵庫県姫路市書写2167 兵庫県立大学姫路工学キャンパス3号館
Tel & Fax 079-267-4911