アノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）
第117回例会「2025年度チュートリアル：アノード酸化の基礎」
毎年恒例のチュートリアル例会を9月22日に開催いたします。「アノード酸化のサイエンスの基礎」に主眼を置き，これからアノード酸化を利用する方やアノード酸化を基礎から学びたいという方を対象とする講演会です。アノード酸化技術は，表面処理，電解コンデンサ，ナノデバイスなどの様々な分野で広範に用いられ，重要性を増しつつあります。今回は，アルミニウムのアノード酸化の基礎から始まり，アノード酸化皮膜の耐食性評価，バリヤー型Alアノード酸化皮膜の応用，チタンのアノード酸化の基礎についてわかりやすく解説します。多数のご参加をお待ちしております。
| WEBサイト | 詳細は部会WEBサイト（ https://ars.sfj.or.jp/ ）を参照ください。 | ||||||
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| 主 催 | (一社)表面技術協会 アノード酸化皮膜の機能化部会（ARS部会） | ||||||
| 協 賛 | (一社)軽金属学会（予定） | ||||||
| 日 時 | 2025年9月22日（月）13：00～17：00 | ||||||
| 会 場 | 工学院大学 新宿キャンパス28階 第1会議室（東京都新宿区西新宿1-24-2） ※ARS会員・学生のみオンライン参加可能 | ||||||
| プログラム |
13：00 開会挨拶
13：05～14：00 Alのアノード酸化の基礎
北海道大学 坂入 正敏
14：05～15：00 アノード酸化皮膜の耐食性評価
北海道大学 坂入 正敏
15：00～15：15 休憩
15：15～16：05 Tiのアノード酸化皮膜
大阪大学 土谷 博昭
16：10～17：00 バリヤー型Alアノード酸化皮膜とその応用
日本ケミコン(株) 田中 淳視，長原 和宏
17：00～ 閉会挨拶
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| 申込方法 | 下記のURLからお申込みください。 https://forms.gle/tgnsSdVQkJZSST949 | ||||||
| 上記申込が 不可の方 | 1）氏名，2）所属，3）連絡先（e-mail，電話番号），4）会員種別（ARS会員，表協／協賛学会会員，一般，学生）を明記の上，件名を「第117回ARS例会参加希望」として事務局にe-mailでお申し込みください。
※申込先：ARS部会事務局 ars（アットマーク）sfj.or.jp ※ARS会員または学生でオンライン参加を希望の方は，「オンライン参加」と書き添えてください。 | ||||||
| 参 加 費 |
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| 定 員 | 60名（ARS会員と学生はオンライン参加可） ＊年会費3,000円のARS部会に入会すれば，参加費が無料となりオンライン参加も可能です。 ＊入会をご希望の方は，メールの件名や質問を「第117回ARS例会参加・入会希望」としてください。 | ||||||
| 申込締切 | 9月8日（月）（申込多数の場合は早期に締め切ることがあります。） |