9月13日(月)

 

Ａ会場：午前

【座長　林　秀考（岡山大学）】

9:30　13A-1　錫めっきウイスカーの成長要因に関する一考察

　　（パナソニックCC開研）○田中久裕，緒形茂樹

9:45　13A-2　Sn及びSn合金めっきにおけるウィスカー発生メカニズムの検討

　　（荏原ユージライト中研）時尾香苗，渡辺恭延，○安田弘樹，村松芳明，君塚亮一

10:00　13A-3　ニッケル電析における金属不純物の挙動

　　（関東学院大院，関東学院大工^＊）○林　　毅，山下嗣人^＊

10:15　13A-4　ニッケルめっき膜の密着強度に及ぼす膜物性とアルミニウム素地表面処理の影響

　　（九州工大工）津留　豊，小柳　仁，岡本孝三

10:30　（休憩）

【座長　津留　豊（九州工業大学）】

10:45　13A-6　定電位パルス電解を用いたNiと導電性ポリマーの複合皮膜の作成

　　（東工大院理工）○羽迫義浩，照山周一郎，N.K.シュレスタ，佐治哲夫

11:00　13A-7　Ater Repellent Composite Coating of Ni Containing Hydrophobic SiO₂ Using

an Azobenzene Surfactant

　　（Department of Chemistry & Materials Science， Tokyo Institute of Technology）Nabeen

　　　K. Shrestha，Ganta Kobayashi，Tetsuo Saji

11:15　13A-8　電解複合Ni/SiCめっきに対する界面活性剤の影響

　　（神奈川大院工，ディスコ^＊）○浅井良規，岸本圭介^＊，小早川紘一，佐藤祐一

11:30　13A-9　カーボンブラック粒子とNi/W合金の複合めっき

　　（岡山大工，旭硝子^＊）○林　秀考，井上東彦，吉武　優^＊，柳澤栄治^＊，大橋俊寛^＊

11:45　13A-10　Cu複合めっき皮膜の作製

　　（信州大工，群馬大工^＊，アタゴ製作所^＊＊）○飯高正裕，新井　進，荘司郁夫^＊，上西正久^＊＊，大友　昇^＊＊，金子紀男，篠原直行

 

【司会　末永智一（東北大学）】

13:00　会長あいさつ

13:05-14:05　特別講演　第61回武井記念講演会

　　　 固液界面反応のアトムプロセスの解明とその応用

　　　　（東北大院工）板谷謹悟

 

Ａ会場：午後

【座長　尾形幸生（京都大学）】

14:15　13A–11　湿式法によるCo／Pd多層膜の作製とその磁気特性評価

　　（神奈川大工）○小宮山祐規，大塚秀幸，小早川紘一，佐藤祐一

14:30　13A–12　塩基性水溶液からのCdTe電析におよぼす塩化物イオンの影響

　　（京大院工）○川口　潤，荒井健太郎，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

14:45　13A–13　ジエチレントリアミン浴からのCdTe電析挙動

　　（京大院工）○藤堂尚二，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

15:00　13A–14　パルス電解法によるCdTeの電析

　　（京大院工）○荒井健太郎，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

15:15　13A–15　ジメチルスルホン浴からのAl合金電析

　　（京大院工）○小路泰仁，浜口達史，平藤哲司，邑瀬邦明，粟倉泰弘

 

【座長　佐藤祐一（神奈川大学）】

15:30　13A–16　パルス亜鉛電解法による各種添加剤の影響

　　（名市工研）○三宅猛司，西　保夫，久米道之

15:45　13A–17　Zn-In合金めっき

　　（信州大工）○宮脇　学，新井　進，坂口将輝，金子紀男，篠原直行

16:00　13A–18　光照射によるP型シリコン上への白金析出形態制御

　　（京大エネルギー理工学研究所）○川村洋介，作花哲夫，尾形幸生

 

Ｂ会場：午前

【座長　松田直樹（産総研）】

9:30　13B-1　抗体アレイチップを用いたペプシノーゲン�Tおよび�Uのデュアル電気化学イムノアッセイ

　　（東北大院環境，第一化学薬品^＊，アイ・ティ・リサーチ^＊＊）○安川智之，小笠原大知，平野悠，珠玖　仁，末永智一，牛澤幸司^＊，川端荘平^＊＊

9:45　13B-2　誘電泳動を利用したマイクロチャンネル中における微粒子および細胞の流れ位置制御

　　（東北大院環境）○鈴木雅登，安川智之，珠玖　仁，末永智一

10:00　13B-3　末端官能基をもつ短鎖アルカンチオール単分子層の界面微細構造

　　（産総研生物機能，ゲノムファクトリー^＊）○澤口隆博，水谷文雄^＊，丹羽　修

10:15　13B-4　Au(111)面上に吸着したフラーレン誘導体の構造解析

　　（東北大院工^＊，東北大NICHe^＊＊，科技振^＊＊＊）○松本匡史^＊，本多洋介^＊，吉本惣一郎^＊，犬飼潤治^＊,＊＊，板谷謹悟^{＊,＊＊＊}

10:30 （休憩）

 

【座長　安川智之（東北大学）】

10:45　13B-6　ナノサイズ結晶子からなるSnO₂ガスセンサの感応機構解析

　　（日立基礎研）○牛尾二郎，北條房郎，山田真治

11:00　13B-7　定量評価の阻害要因をキャンセルするフローセル型2ch-30MHzQCM

　　（明電舎総研）○野口卓孝，北寄崎薫

 

【座長　澤口隆博（産総研）】

11:15　13B-依頼講演�@　ナノテクノロジーとバイオデバイス

　　（北陸先端科学技術大学院大学）民谷栄一

 

 

 

 

 

【司会　末永智一（東北大学）】

13:00　会長あいさつ

13:05-14:05　特別講演　第61回武井記念講演会

　　　 固液界面反応のアトムプロセスの解明とその応用

　　　　（東北大院工）板谷謹悟

 

Ｂ会場：午後

【座長　齋藤永宏（名古屋大学）】

14:15　13B-依頼講演�A　機械接触場での表面化学現象

　　（岩手大工）森　誠之

15:00　13B-14　混合分子状薄膜のトライボロジー特性

　　（岩手大工）○七尾英孝，工藤真実子，久保朋生，南　一郎，森　誠之

15:15　13B-依頼講演�B　分子ナノ工学の構築に向けての私達の取り組み

　　（早大理工）大泊　巌

16:00　（休憩）

 

【座長　珠玖　仁（東北大学）】

16:15　13B-依頼講演�C　量子サイズナノシリコンの機能と表面

　　（東京農工大工）越田信義

17:00　13B-依頼講演�D　少数電子メモリおよびシングル・エレクトロン・メモリ

　　（名大院工）中里和郎

 

Ｃ会場：午前

【座長　指方研二（石巻専修大学）】

9:30　13C-1　理想配列陽極酸化ポーラスアルミナを用いた生体関連分子の規則配列構造の形成と応用

　　（神奈川科学技術アカデミー^＊，都立大院工^＊＊）○松本　太^＊，原田真宏^＊，西尾和之^＊＊，益田秀樹^＊,＊＊

9:45　13C-2　微粒子自己集合体をマスクとしたシリコン基板のアノード酸化

　　（工学院大工）○生出章彦，阿相英孝，小野幸子

10:00　13C-3　アノード酸化によるポーラスニオビアの生成挙動と構造

　　（工学院大工）○長坂　匠，阿相英孝，小野幸子

10:15　13C-4　高電圧領域でのアノード酸化ポーラスアルミナ自己規則化挙動の検討

　　（工学院大工）○田村修一，阿相英孝，小野幸子

10:30　13C-5　低加速FE-SEM/ESBによるAlアノード酸化皮膜の観察

　　（Carl Zeiss，慶大経^＊，北大院工^＊＊）立花繁明，○清水健一^＊，幅崎浩樹^＊＊

10:45 （休憩）

 

【座長　伊藤　隆（東北大学）】

11:00　13C-7　アルミニウム固体電解コンデンサの電圧−電流特性に及ぼす湿度の影響

　　（日本ケミコン）○吉澤篤志，福田裕行，玉光賢次

11:15　13C-8　電気泳動ゾル-ゲル法／アノード酸化複合プロセスによるAl-Si複合酸化物皮膜の形成−皮膜の誘電的特性に及ぼす被覆試料の加熱温度と被覆回数の影響−

　　（北大院工，岡山大^＊，室蘭工大^＊＊）○砂田昌己，坂入正敏，渡辺恵司^＊，平井伸治^＊＊，高橋英明

11:30　13C-9　電解コンデンサ用Al箔のピット開始点制御

　　（都立大院工^＊，CREST JST^＊＊）○福島達郎^＊，西尾和之^＊,＊＊，益田秀樹^＊,＊＊

11:45　13C-10　アルミニウムアノード酸化誘電体皮膜の構造と特性

　　（工学院大工）○和田知恵子，阿相英孝，小野幸子

 

【司会　末永智一（東北大学）】

13:00　会長あいさつ

13:05-14:05　特別講演　第61回武井記念講演会

　　　 固液界面反応のアトムプロセスの解明とその応用

　　　　（東北大院工）板谷謹悟

 

Ｃ会場：午後

【座長　小野幸子（工学院大学）】

14:15　13C-11　レーザー加工によるAl上への三電極式マイクロリアクターの作製とCV挙動

 (北大院工)○山田雅史，坂入正敏，高橋英明

14:30　13C-12　アノード酸化／レーザー照射／電解エッチングを用いた表面マイクロマシニ

　　　　　ング法の開発

（北大院工，フルヤ金属^＊）○菊地竜也，坂入正敏，高橋英明，丸子智弘^＊

14:45　13C-13　金属フルオロ錯体を用いた液相析出法によるAl陽極酸化皮膜への酸化物被

　　　　　覆

（テクノ工業，室蘭工大^＊，物材機構物質研^＊＊）佐藤仁則，太田道広^＊，江本尚弘^＊，○平井伸治^＊，和田健二^＊＊

15:00　13C-14　ゾル−ゲル被覆したAl陽極酸化分離膜を用いたCO₂/N₂混合ガスからのCO₂分

　　　　　離

（室蘭工大，黒田表技研^＊，物財機構物質研^＊＊）○江本尚弘，太田道広，平井伸治，黒田孝一^＊，和田健二^＊＊

15:15　13C-15　タンタル焼結素子の電気特性におよぼす熱処理の影響

　　（高純度物質研究所）和田浩明　

15:30　13C-16　耐熱性タンタル焼結素子の開発

　　（高純度物質研究所）和田浩明　

15:45　13C-17　非水溶媒-水混合溶液中でTa薄膜上に形成した陽極酸化膜中へのC取り込み

　　（三菱化学半導体材研）○水谷文一，石川　誠

16:00　（休憩）

【座長　水谷文一（三菱化学�梶j】

16:15　13C-19　スパッタ法で作製したNb-O膜のアノード酸化

　　（北大院工，慶大経^＊，東北大金研^＊＊，キャボットスーパーメタル^＊＊＊）○幅崎浩樹，清水健一^＊，永田晋二^＊＊，高山幸一^＊＊＊，小田幸男^＊＊＊

16:30　13C-20　ニオブアノード酸化皮膜の誘電特性に対する電解質アニオンの効果

　　（工学院大工）○倉持　健，阿相英孝，小野幸子

16:45　13C-21　中性電解質溶液中におけるアノード酸化皮膜化成ニオブ電極のカソード分極挙動

（北大院工，キャボットスーパーメタル^＊）○長原和宏，坂入正敏，高橋英明，松本和芳^＊，高山幸一^＊，小田幸男^＊

17:00　13C-22　ニオブ陽極の誘電体組成が漏れ電流特性に及ぼす影響

　　（三洋電機）○山田逸成，高谷和宏，西村康一，矢野　睦，木本　衛，西尾晃治

17:15　13C-23　アノード酸化／レーザー照射／電解重合によるポリピロール膜のパターン形成

（北大院工）○秋山好之，菊地竜也，飯田真豪，上田幹人，坂入正敏，高橋英明

 

Ｄ会場：午前

【座長　矢嶋龍彦（埼玉工業大学）】

9:30　13D-1　炭素繊維電極を用いた水中のポリオウイルス除去に関する検討

（三洋電機エコ・エネシステム技術開発センターBU， 群馬県衛生環境研究所^＊）○近藤康人， 山田　淳，高岡大造，滝沢貴久男，安田昌司，木村博一^＊，森田幸雄^＊，小澤邦寿^＊

9:45　13D-2　ナノポアを有する竹炭の調製とその吸着特性

（埼玉大工）杉山和夫，○小沼直樹，夏坂英樹，田端勇祐，黒川秀樹，三浦　弘

10:00　13D-3　ゼオライトの担持により改質した活性炭の表面特性

（埼玉大工， 永井機械鋳造^＊，ニチモウ^＊＊）杉山和夫，○山口賢二，松岡達也，中嶋祐貴，吉野敦郎^＊，久保田昇利^＊＊

10:15　13D-4　水系大気圧プラズマの解析と表面処理プロセスへの応用

（埼玉大工）杉山和夫，○桑島秀介，飯塚真也，黒川秀樹，三浦　弘

10:30　（休憩）

【座長　杉山和夫（埼玉大学）】

10:45　13D-6　大気圧プラズマ法による易接着処理技術の開発

（コニカミノルタテクノロジーセンター）福田和浩

11:00　13D-7　導電性基板表面でのプラズマ有機薄膜の疎水性親水性制御

（埼玉工大工）○矢嶋龍彦，日向克樹，湊　洋輔，岡部芳雄

11:15　13D-8　Arプラズマを施したPPE表面特性と銅めっき密着性に関する研究

（同志社大院，同志社大工^＊，同志社大^＊＊）○川内健人，松岡　敬^＊，坂口一彦^＊，石田修一^＊＊

11:30　13D-9　エッチングレスな手法によるセラミックス薄膜の微細構造化

（産総研，中部大学^＊，物材機構^＊＊）○穂積　篤，土岐紘市^＊，横川善之，白幡直人^＊＊

11:45　13D-10　フォトブラスティングによるガラスの微細パターニング

（弘前大理工）○佐藤博之，高田健央，峯田　貴，牧野英司

 

【司会　末永智一（東北大学）】

13:00　会長あいさつ

13:05-14:05　特別講演　第61回武井記念講演会

　　　 固液界面反応のアトムプロセスの解明とその応用

　　　　（東北大院工）板谷謹悟

 

 

Ｄ会場：午後

【座長　日野　実（岡山工技セ）】

14:15　13D-11　Direct Metallization法を利用したポリイミド樹脂上へのIn₂O₃薄膜の作製

（甲南大理工）○田口秀幸，池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美

14:30　13D-12　溶液滴下手法を用いたSnO₂薄膜の室温作成

（東理大理工）○古川尚稔，藤本憲次郎，伊藤　滋

14:45　13D-13　塗布膜エキシマレーザー光分解法によるPd薄膜の作成

　　（産総研）○今井庸二，渡邊昭雄

15:00　13D-14　超薄シリコーン被覆による黒鉛材料の耐酸化性の向上

　　（北大院工）○金野英隆，紀ノ村琢也，幅崎浩樹

15:15　13D-15　高周波グロー放電発光分析におけるパルススパッタリングの効果

　　（日本パーカライジング）○川邊哲司，鈴木正教

15:30　13D-16　TOF-SIMSによる摩擦面の化学構造解析

　（岩手大工）○七尾英孝，工藤　貢，久保朋生，南　一郎，森　誠之

15:45　（休憩）

【座長　伊藤　滋（東京理科大学）】

16:00　13D-18　無電解めっき法によるV基水素吸蔵合金のマイクロカプセレーション

　　（都立大院工）○池田耕平，桜井隆幸，見崎吉成，釜崎清治

16:15　13D-19　ECRイオン銃によるMg系水素吸蔵合金のスパッタ成膜

　（芝浦工大院，都産技研^＊，都産労局商工部^＊＊，芝浦工大^＊＊＊）○加藤雄嗣，森河和雄^＊，三尾　淳^＊＊，豊田勝三郎^＊＊＊

16:30　13D-20　Mg系水素吸蔵合金のグラファイトによるメカニカルリフォーミング

　（都立大院工，都立大工^＊）○古市紗妃，武井泰憲^＊，柴田正義，見崎吉成，釜崎清治

16:45　13D-21　AZ91Dマグネシウム合金の表面形態に及ぼす振動バレルの影響

　　（岡山工技セ，岡山ミノルタ精密^＊）○日野　実，村上浩二，平松　実，西本克治^＊，前田利啓^＊

【座長　幅崎浩樹（北海道大学）】

17:00　13D-22　マグネシウム合金の接着強度

　（千葉工大院，千葉工大^＊）○関口将士，高谷松文^＊，大谷　親^＊

17:15　13D-23　金属クロム，クロムめっきのヨウ化処理による摩擦特性

　　（千葉工大院，千葉工大^＊）○石井　豪，高谷松文^＊，大谷　親^＊

17:30　13D-24　n-デカンにヨウ素およびヨウ素化合物を添加した潤滑油の境界潤滑特性

　　（千葉工大院，千葉工大^＊）○岡崎徹也，高谷松文^＊，大谷　親^＊

 

9月14日(火)

Ａ会場：午前

【座長　土橋　誠（三井金属鉱業）】

9:15　14A-1　脂肪族四級アンモニウムイミド型イオン性液体の物性におよぼす水分の影響

　　（京大院工）〇片瀬琢磨，今宿　晋，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

9:30　14-A2　パルス電析法を用いたAlCl₃-EMIC溶融塩からのAl合金の電析

　（北大院工）〇江部宏史，上田幹人，大塚俊明

9:45　14A-3　溶融LiCl-KCl-Li₃N中における�U族窒化物形成とその光学特性評価

　（京大院エネルギー科学研究科）〇豊浦和明，辻村浩行，後藤琢也，蜂谷　寛，萩原理加，伊藤靖彦

10:00　14A-4　セラミック上への導電性皮膜の形成法

　　（電力中研エネルギー技研）河瀬　誠

10:15　14A-5　溶融Zn-Al合金めっき鋼の疲労強度

　（武蔵工大，武蔵工大院^＊）千葉和茂*，〇蛭川賢一，萩原芳彦^＊

 

【座長　後藤琢也（京都大学）】

10:30　14A-6　銅の磁気電析における形態変化

　（埼玉県産総セ，早大院理工^＊，能開大^＊＊）〇森本良一，杉山敦史^＊，青柿良一^＊＊

10:45　14A-7　硫酸銅浴からの銅電析における添加剤相互作用の解析

　（関東学院大院，関東学院大工^＊）〇山口　仁，山下嗣人^＊

11:00　14A-8　銅配線とプリント配線板の密着性におよぼすシランカップリング剤の影響

　（関東学院大院，三井金属鉱業^＊，関東学院大工^＊＊）〇高橋　勝，土橋　誠^＊，山下嗣人^＊＊

11:15　14A-9　末端修飾ポリエチレングリコールを添加剤として用いたビアフィリング

　（関東学院大表面工学研，関東学院大工^＊）〇長島弘季，山口和紀，小山田仁子，香西博明^＊，本間英夫^＊

11:30　14A-10　電解Cuめっき膜の内部応力に及ぼす各種めっき条件の影響

　（早大テクノ研）〇佐々木弘幸，斎藤美紀子，和田恭雄

11:45　14A-11　ULSI配線用ダマシン銅めっきにおける添加剤が析出膜特性におよぼす影響

　（早大理工）〇根岸芳典，長谷川円，中西卓也，逢坂哲彌

 

Ａ会場：午後

【座長　縄舟秀美（甲南大学）】

13:00　14A-依頼講演�F　めっきにおける内部応力形成と水素発生

　　（九州工大工）津留　豊

 

【座長　吉原佐知雄（宇都宮大学）】

13:30　14A-14　PR銅電鋳によるCバンド電子加速管モデルの試作

　（三菱重工業，中菱エンジニアリング^＊，九州工大工^＊＊）○梶間一広，藤江　壮，柿崎真二，壁谷善三郎，田尻桂介^＊，岡本孝三^＊＊，津留　豊^＊＊

13:45　14A-15　TiO₂光触媒反応による新規無電解銅めっきの析出機構

　（甲南大理工）○木村明寛，赤松謙祐，縄舟秀美

14:00　14A-16　TiO₂およびUVを前処理に適用した樹脂上無電解めっきの析出挙動

　（トヨタ自動車，関東学院大表面工学研^＊）○別所　毅，吉永文隆，田代雄彦^＊，本間英夫^＊

14:15　14A-17　光触媒によるABS樹脂の表面改質

　（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車^＊）○杉本将治，田代雄彦，別所　毅^＊，香西博明，本間英夫

14:30　14A-18　光触媒を用いた平滑基板上へのメタライジング

　（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車^＊）○井上浩徳，藤村　翼，渡邉健治，田代雄彦，小田倉尚子，別所　毅^＊，本間英夫

 

【座長　八重真治（兵庫県立大学）】

14:45　14A-19　隔膜電解法によるCo(�U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっき液の電解再生

　（甲南大理工，液晶先端科技開セ^＊）○森川裕司，赤松謙祐，縄舟秀美，中村弘喜^＊

15:00　14A-20　無電解Cuめっきの膜形成プロセス

　（長岡技科大）○平原英明，松原　浩，斎藤信雄，西山　洋，井上泰宣

15:15　14A-21　平滑ポリイミドフィルム上への無電解めっき膜形成

　　（早大理工^＊，早大材研^＊＊，早大理工総研^＊＊＊）○増田豊土^＊，吉野正洋^＊，笹野順司^＊＊，松田五明^＊＊＊，逢坂哲彌^{＊,＊＊,＊＊＊}

15:30　14A-22　孔食のないシアンフリー無電解金めっき

　　（日鉱マテリアルズ新素材開発セ，住友金属鉱山青梅研^＊）○相場玲宏，河村一三，長谷見正明^＊

15:45　14A-23　複合無電解めっきにより作製した砥粒の磁気研磨特性

（宇都宮大院工）○坂井勇磨，張　延栄，吉原佐知雄

 

【座長　松原　浩（長岡技術科学大学）】

16:00　14A-24　無電解Co-P薄膜の膜成長にともなう微細構造変化

　（兵庫県立大院工）○西山　甚，福室直樹，八重真治，松田　均

16:15　14A-25　ABSアロイ系樹脂を用いたクロム酸エッチングフリーめっきプロセス

　（奥野製薬）○長尾敏光，佐藤一也，徳田勇治，中岸　豊

16:30　14A-26　接触めっき法による　Cd-Te化合物半導体の成膜

　（京大院工）○萩原壮一，荒井健太郎，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

16:45　14A-27　無電解めっき法による垂直二層膜媒体用CoNiFeB軟磁性裏打ち層の作製

　（早大理工）○安達　健，坂上万里子，吉野正洋，川治　純，杉山敦史，朝日　透，逢坂哲彌

 

Ｂ会場：午前

【座長　藤原　裕（大阪市工研）】

9:15　14B-1　ディップペンリソグラフィによるナノ領域無電解めっき

　　（名大エコトピア，名大院工^＊）○石崎貴裕，齋藤永宏^＊，高井　治

9:30　14B-2　微小流路内液相界面における無電解析出反応を用いた金属微粒子の合成

　（早大理工）○大日向陽，佐藤裕崇，本間敬之，逢坂哲彌

9:45　14B-3　無電解ニッケルめっき技術を用いたNiファインチューブの合成と物性

　（大阪ガス，東工大資源研^＊）○長嶋太一，斉藤道雄，山田光昭，中川　勝^＊，石井大佑^＊，宇田津満^＊，彌田智一^＊

10:00　14B-4　Ti(�V)イオンを還元剤とするNi無電解めっき浴中の化学種の考察

　　（京大院工）○八木俊介，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘

10:15　14B-5　無電解法による多結晶n-Siへの白金微粒子担持とポーラス化−表面構造制御による太陽電池の高効率化−

　（兵庫県立大院工^＊，JST CREST^＊＊）○小林　努^＊，川岸辰則^＊，福室直樹^＊，八重真治^＊,＊＊，松田　均^＊

10:30　（休憩）

 

【座長　平藤哲司（京都大学）】

10:45　14B-7　無電解めっき用Agナノ粒子触媒のガラスエポキシ基板への吸着特性

　（大阪市工研，奥野製薬^＊*）○藤原　裕，野呂美智雄，小林靖之，北　晃治^＊，大塚邦顕^＊，片山順一^＊

11:00　14B-8　SNOMプローブ作製のための無電解Niめっきにおける浴組成の最適化

　（関東学院大院，関東学院大工^＊，KAST^＊＊，科学技術振興機構・さきがけ^＊＊＊，東大工^＊＊＊＊）○加藤育洋，中山香織^＊，斎藤裕一，物部秀二^{＊＊,＊＊＊}，大津元一^{＊＊,＊＊＊＊}，本間英夫^＊

11:15　14B-9　硬質超はっ水膜作製における酸化ホウ素添加の影響

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○別家　誠，呉　雲影^＊，齋藤永宏，古賀麻由子^＊，井上泰志^＊，高井　治^＊

11:30　14B-10　選択的無電解めっきによるメタルパターンの作製とポリマー上への転写

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○稗田純子，斎藤永宏，高井　治^＊

11:45　14B-11　超はっ水／超親水マイクロパターンを利用した位置選択的物質固定化法

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○河野正雄，呉　雲影^＊，斎藤永宏，古賀麻由子^＊，井上泰志^＊，高井　治^＊

 

Ｂ会場：午後

【座長　阿相英孝（工学院大学）】

13:00　14B-12　電析法による酸化スズのナノ構造の作製と評価

　　（名大院工，名大エコトピア^＊）○上原拓也，石崎貴裕^＊，斎藤永宏，高井　治^＊

13:15　14B-13　アクリル樹脂への172nmエキシマ光照射によるネガ・ポジ型マイクロパターンの作製：電析用テンプレートへの応用

　　（早大院理工，産総研^＊）○浅倉秀一，山口隆彦，穂積　篤^＊，不破章雄

13:30　14B-14　SH基及びOH基終端Si/SiO₂基板上への金コロイド吸着挙動の評価

　（早大院理工）○高橋幸央，浅倉秀一，不破章雄

13:45　14B-15　スラブ光導波路分光法を用いた，ITO電極上に吸着したテトクロームとの電子移動反応のその場測定

　（産総研）松田直樹，綾戸勇輔，高津章子，加藤健次

 

【座長　梅原博行（産総研）】

14:00　14B-16　シールド型アークイオンプレーティング法によるMo-Ni-B系薄膜の作製及び機械的特性評価

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○尹　龍燮，齋藤永宏，井上泰志^＊，高井　治^＊

14:15　14B-依頼講演�E　形状記憶合金薄膜マイクロアクチュエータ

　（弘前大理工）牧野英司

15:00　（休憩）

 

【座長　清水健一（慶應義塾大学）】

15:15　14B-21　樹脂の表面改質を利用するDirect Metallization法における銅/ポリイミド樹脂の密着性

　（甲南大学理工，三ツ星ベルト^＊）○池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美，柳本　博^＊

15:30　14B-22　有機単分子終端化シリコンの作製と微細構造化

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○李　先炯，齋藤永宏，高井　治^＊

15:45　14B-23　二次元/三次元複合構造を持つアノード酸化ポーラスアルミナの作製

　（工学院大工）○阿相英孝，小野幸子

16:00　14B-24　CH_３OH浴中での通電加熱によるTi材へのCNT作製

　（千葉工大院，千葉工大^＊，産総研^＊＊）○熊谷隆仁，高谷松文^＊，坂本幸弘^＊，梅原博行^＊＊

 

【座長　赤松謙祐（甲南大学）】

16:15　14B-25　酸化亜鉛をバインダーとした酸化チタンナノ粒子含有光触媒の電気化学的コート法の開発

　（宇都宮大院工）○鈴木大祐，吉原佐知雄，白樫高史

16:30　14B-26　rf-GDOESによるナノ薄膜の高分解能デプスプロファイル分析

　（慶大経，北大院工^＊，アントワープ大^＊＊，IMEC^＊＊＊）○清水健一，幅崎浩樹^＊，R.Gijbels^＊＊， R.Bender^＊＊＊

16:45　14B-27　F2レーザを用いたシラン系自己組織化単分子膜のナノ加工

　　（名大エコトピア，名大院工^＊）○Nae Florin Andrei，齋藤永宏^＊，高井　治

 

C会場：午前

【座長　鷹野一朗（工学院大学）】

9:15　14C-1　半導体レーザによる炭素鋼の表面硬化処理

　（近畿大理工，阪大接合研^＊）○森本純司，伊藤　亨，福原慎士，阿部信行^＊，塚本雅裕^＊

9:30　14C-2　鉄鋼材料の疲労強度特性に及ぼす塩浴軟窒化処理の影響

（武蔵工大院，武蔵工大^＊）○笹田剛宏，白木尚人^＊，中澤洋二^＊

9:45　14C-3　窒化処理後TiN皮膜を施した複合表面改質層の密着性

（武蔵工大院，武蔵工大^＊）○伊達昂史，中澤洋二^＊，白木尚人^＊

10:00　14C-4　スパッタリング法による鋼板へのZn-Nb成膜

（九大院工，九産大工^＊）○久保山宏，大上　悟，中野博昭，小林繁夫^＊，福島久哲

10:15　14C-5　反応性スパッタリング法で作製したAl-Cr-N系皮膜の高温特性

　（山口産技セ，九工大工^＊）○井出幸夫，岸武勝彦^＊

10:30　（休憩）

【座長　坂本幸弘（千葉工業大学）】

10:45　14C-7　アンバランスマグネトロンスパッタリング法を用いて蒸着するZrN硬質皮膜の生成とその特性

　（芝浦工大院，松山技研^＊，都産技研^＊＊，都産労局商工部^＊＊＊，芝浦工大^＊＊＊＊）○土山正和，野村博郎^＊，森河和雄^＊＊，三尾　淳^＊＊＊，大塚正久^＊＊＊＊

11:00　14C-8　固体潤滑積層膜のモルフォロジー

　（日本工大）○野城淳一，鈴木　学，渡部修一，三宅正二郎

11:15　14C-9　Ti-N-O薄膜の高真空中におけるトライボロジー特性

　　（工学院大工）○佐々木道子，鷹野一朗，沢田芳夫

11:30　14C-10　種々の酸化チタンへの窒素イオン注入効果

　（工学院大工）○有路　巧，関　陽一，鷹野一朗，沢田芳夫

11:45　14C-11　生分解性樹脂に対するイオン照射効果

　（工学院大工）○鷹野一朗，谷山健太郎，河原崎智展，新井善春，沢田芳夫，山田香織，矢ケ崎隆義，木村雄二

 

Ｃ会場：午後

【座長　渡部修一（日本工業大学）】

13:00　14C-依頼講演�G　超高密度ストレージ用極薄磁性膜の極微細組織・界面制御

（東北大院工）高橋　研

13:45　14C-15　スパッタPZT薄膜のクラックとその対策　

　（弘前大理工，茨城大工^＊）○三保拓也，牧野英司，峯田　貴，川村貴之，柴田隆行^＊

 

【座長　蒲生西谷美香（東洋大学）】

14:00　14C-16　スパッタ法によるInN薄膜の作製とEC特性の評価　

　（名大院工，名大エコトピア^＊）○山崎純一，藤原卓矢，井上泰志^＊，高井　治^＊

14:15　14C-17　スパッタリングによる炭素−硫化物系薄膜の形成とその摩擦特性

　（日本工大）○櫻井貴彦，野城淳一，渡部修一，三宅正二郎

14:30　14C-18　反応性RFスパッタリングにより作製したCNx薄膜の電界電子放出特性

　　（千葉工大院・千葉工大*）○安田義延，坂本幸弘*，高谷松文*

14:45　14C-19　反応性ガスフロースパッタリング法による高活性光触媒皮膜の作製とその機能性　

　（宇都宮大院工，宇都宮大工^＊）○安在直人，吉原佐知雄，白樫高史，石井　清^＊

 

15:00　（休憩）

【座長　井上泰志（名古屋大学）】

15:15　14C-21　ダイヤモンド合成におけるSi基板前処理時の光照射の影響

　　（千葉工大）○坂本幸弘，高谷松文

15:30　14C-22　マイクロ波プラズマCVDによるナノクリスタルダイヤモンドの作製とナノ加工

　（凸版印刷，東洋大^＊，物質研^＊＊）○蒲生秀典，蒲生西谷美香^＊，島田健太郎^＊,＊＊，田村　章，安藤寿浩^＊＊

15:45　14C-23　ハイブリッドナノダイヤモンド(HND)膜の成膜とその特性（１）

　　（石川工試，JST^＊，オンワード技研^＊＊，金沢工大^＊＊＊）○粟津　薫，安井治之，池永訓昭^＊，川畠丈志^＊，長谷川祐史^＊＊，作道訓之^＊＊＊

16:00　14C-24　ハイブリッドナノダイヤモンド(HND)膜の成膜とその特性（２）

　（石川工試，JST^＊，オンワード技研^＊＊，金沢工大^＊＊＊）粟津　薫，○安井治之，池永訓昭^＊，川畠丈志^＊，長谷川祐史^＊＊，作道訓之^＊＊＊

16:15　14C-25　気相反応を用いるハイブリッド型フッ素系薄膜の生成

　（クリスタル光学，応用科学研究所*）○桐野宙治，鄭　容宝

16:30　14C-26　CVD法による酸化物薄膜の作製とそのガスセンサ特性

　（東理大理工）○大内聡洋，藤本憲次郎，伊藤　滋

16:45　14C-27　改良型HVOF溶射装置によるWCサーメット皮膜の作製と摩耗特性評価

　（NIMS，フジミインコーポレーテッド^＊，千葉工大^＊＊）○石川泰成，川喜多仁，黒田聖治，大澤　悟^＊，五日市剛^＊，坂本幸弘^＊＊，高谷松文^＊＊

 

 

Ｄ会場：午前

【座長　柴田正実（山梨大学）】

9:15　14D-1　モリブドリン酸をドープしたポリピロール被覆による軟鋼の防食

　　（北大院工）○飯田真豪，上田幹人，大塚俊明

9:30　14D-2　塗膜劣化初期過程のマルチインピーダンスによる解析

　（東理大理工，物材機構*）○小野　哲，板垣昌幸，渡辺邦洋，片山英樹*，野田和彦*

9:45　14D-3　デジタルシミュレーションを用いたメニスカスが存在する電極上での酸素還元反応の解析

　（東理大理工）○藤村保博，板垣昌幸，渡辺邦洋

10:00　14D-4　大気腐食過程における炭素鋼の結露挙動の変化

　　（物材機構）○片山英樹，升田博之

10:15　14D-5　Zn-Al系めっき鋼板の実環境耐食性

　　（JFEスチールスチール研）○藤田　栄，梶山浩志，大居利彦，前田千寿子，加藤千昭

10:30　14D-6　表面処理した温水発熱用銅ヒーターの腐食挙動

　　（芝浦工大院）○斎高　亮，今井八郎

 

【座長　片山英樹（物材研究機構）】

10:45　14D-7　KOH水溶液中におけるPb溶解挙動

　（山梨大院医工，山梨大工^＊）○柴田正実，剣持理恵^＊

11:00　14D-8　耐食性に優れたCr(IV)フリー燃料タンク用鋼板の開発

　　（JFEスチールスチール研）○多田千代子，中丸裕樹，加藤千昭

11:15　14D-9　セリウム化成皮膜の耐食性に及ぼす硫酸イオンの影響

　（阪市工研）○小林靖之，藤原　裕

11:30　14D-10　亜鉛めっき上へのクロムフリー化成皮膜の作製

　（福島県ハイテクプラザ）○宇津木隆宏，大堀俊一，大河原薫

11:45　14D-11　アルミニウムめっき下地処理への金属間化合物選択除去の適用

　　（室蘭工大）○世利修美，二瓶秀史

 

Ｄ会場：午後

【座長　江口美佳（茨城大学）】

13:00　14D-12　泳動電着法を用いたリチウム電池用バインダーフリー電極の作製

（東理大理工）○宇井幸一，府野真也，井手本　康，小浦延幸

13:15　14D-13　スズめっき負極を用いた800mAh級リチウム二次電池の作製

（兵庫工技セ，産総研^＊）○園田　司，小林弘典^＊，栄部比夏里^＊，辰巳国昭^＊

13:30　14D-14　酸化イリジウム系不溶性電極の電解試験における熱分解温度の影響

（同志社大工，九工大院^＊）○盛満正嗣，高橋宏幸^＊，松永守央^＊

13:45　14D-15　海水電解のための酸素発生陽極

　　（東北工大，大機エンジニアリング^＊，東北大金研^＊＊）○加藤善大，熊谷直和^＊，浅見勝彦^＊＊，橋本功二

14:00　（休憩）

【座長　盛満正嗣（同志社大学）】

14:15　14D-17　酢酸を用いない銀合金エッチング液

（関東化学中研）○黒岩健次，高橋秀樹，加藤　勝

14:30　14D-18　高解像度用金エッチング液

（関東化学中研）○高橋秀樹，黒岩健次，加藤　勝

14:45　14D-19　TiNi形状記憶合金の電解エッチング形状への電解液濃度の影響

（弘前大理工）○峯田　貴，牧野英司

15:00　14D-20　CMP法を用いたプリント基板のハーフエッチングプロセス（1）溶液特性

（上村工業中研）有田　了，福井洋一，土家和代，○鈴木祥一郎

15:15　14D-21　CMP法を用いたプリント基板のハーフエッチングプロセス（2）研磨特性

（上村工業中研）有田　了，福井洋一，土家和代，○鈴木祥一郎

15:30　14D-22　圧力透析による酸回収

　（住友金属直江津，日本パーカー^＊）鳴井　強，野上真一，榊原義昭^＊，○小嶋隆司^＊

 

【座長　鈴木祥一郎（上村工業）】

15:45　14D-23　インクジェットプリンティング技術による電子回路の作製（�T）

（茨城大工，森村ケミカル^＊，ビーワイズ研究所^＊＊）金　海峰，菅波敬喜^＊，小口寿彦^＊，山本洋一^＊＊，竹内　学

16:00　14D-24　トリアジンジチオール誘導体の吸着挙動の解明

（神奈川大院工，産総研^＊）○金子信悟，澤口隆博^＊，鹿倉健太，亀山　敦，小早川紘一，佐藤祐一

16:15　14D-25　トンネリングAFMによる超純水中微量金属種のSiウェハ表面析出状態の解析

（早大理工）○中　真人，久保暢宏，本間敬之，逢坂哲彌