◆学術委員会からのお知らせ◆

第122回講演大会 (東北大学) 講演募集について

講演申込締切：平成22年6月7日(月)
第122回講演大会を東北大学川内北キャンパスで開催いたします。ただいま，下記のように講演発表を募集いたしておりますので，奮ってお申込みください。
開催および講演募集要綱
主　　催 (社)表面技術協会
会　　期 平成22年9月6日(月)～7日(火)
会　　場
東北大学 川内北キャンパス(宮城県仙台市青葉区川内41)
交通：JR「仙台駅」より市営バス(9番乗り場又は10番乗り場)
9番乗り場：宮教大・青葉台行，急行-東北大川内キャンパス行き「東北大川内キャンパス・萩ホール前」下車
10番乗り場：広瀬通経由交通公園・川内(営)行「川内郵便局前」下車　約15分
講演申込締切 平成22年6月7日(月)
講演要旨締切 平成22年7月23日(金)
1．講演申込要領
(1) 発表形式
口頭発表（発表10分，討論5分）で，発表時の使用機器は「液晶プロジェクタ」です。なお，講演者はノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。
(2) 講演種別
学術講演(学術的視点に立つ発表)又は技術講演(技術的視点に立つもので，新しい結果を含んでいれば断片的な発表でもよい)のいずれかを選んでください。
(3) 講演分野
7．に示す分類をご参照のうえ，最も適切と思われる分野又は6．に記載のシンポジウムテーマを選んでください。
(4) 発表資格
申込者，登壇者は会員(団体正会員に所属の個人を含む)に限りますので，非会員の方は発表前に入会手続きを完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。
2．講演申込方法
「電子メールによる講演申込にあたって」に記載の講演申込み手順および注意事項をご確認の後，「講演申込」ファイルをご使用のうえ，お申し込みください。
3．講演要旨原稿
学術委員会の審査で講演が認められたのち，講演申込者宛に電子メールにて，「講演要旨の書き方」および「講演要旨の送付方法」につきましてご連絡(6月中旬)いたします。 なお，講演要旨は市販のA4判用紙に出力のうえ，ご送付ください。
4．著作権
講演要旨集に掲載された講演要旨の著作権は，たとえ当該講演がキャンセルされた場合であっても，本会に帰属するものとします。詳細は，本会webサイトにある「著作権規程」をご参照ください。
5．大会参加登録
登壇者を含めて大会の参加者には参加登録が義務づけられています。平成22年7号に掲載予定の会告に従い，事前登録されることをお勧めいたします。
6．シンポジウムテーマ
S1　機能を生み出すナノスケールの表面処理技術
企画：ナノテク部会
(趣旨)　近年，ナノスケールの皮膜や有機分子等を表面に被覆することにより，材料に高い機能を付与する技術が注目されている。例えば，ナノスケールのアモルファスシリカ薄膜は，密着性を高めるために用いられている。また，ナノスケールの光応答性機能分子は，光照射のon-offで磁性，蛍光，電気伝導率，屈折率などの様々な物性を変化させることができる。このような機能は，ナノスケールの皮膜や有機分子の存在により発現されている。さらに，材料に対する機能性への要求は，年々，高まる一方である。このため，機能の創出原理に基づく新しい表面制御概念を構築し，各種材料に展開することが学術的に重要な課題となる。産業応用面では，『表面の機能がどのように利用できるのか』，『どのような処理がどのような機能を創出するのか』という概念を理解し，その技術を積極的に活用していく必要がある。本シンポジウムでは，このような機能を生み出すナノスケールの表面処理技術に携わる第一線の研究者の方々に招待講演を依頼するとともに，当該分野に関する一般講演についても広く公募する。
S2　めっき技術の将来展開
企画：将来めっき技術検討部会
(趣旨)　日本の産業界が衰退していく中で，めっき技術が5-10年先に必要になる「将来めっき技術」を議論することが重要であると考えている。従来のめっき技術に加えて，磁気ヘッドや銅配線などに代表される新しいめっき技術が実用化されているが，産業全体としては，必ずしも発展しているとは言えない。このような状況下で，本シンポジウムでは，「将来めっき技術に関する」学問的な研究も当然歓迎するが，ナノ粒子を使用したもの，また，応用として将来の自動車や医療，さらにそれを支えるエレクトロニクスについても発表を歓迎する。本講演大会には，基礎・応用の両面から「将来のめっき技術」に焦点を絞り，シンポジウムを開催する。
7．講演分野の分類
A．表面の物理的被覆に関わる分野
A11. 物理蒸着(PVD)
A12. 溶射
A13. 溶融めっき
A14. 吸着
A15. 塗布・塗装
A16. 泳動電着(電着塗装→A15)
A17. ライニング
A21. イオン注入
A22. 拡散被覆
A30. その他(新技術を含む)
B．表面の化学的被覆に関わる分野
B11. 化学蒸着(CVD)
B12. 電気めっき・電鋳
B13. 無電解めっき
B14. アノード析出
B15. 熱分解・ゾル－ゲル法
B21. 熱処理(酸化・窒化・炭化)
B22. アノード酸化
B23. 化成処理
B30. その他(新技術を含む)
C．表面からの物質除去に関わる分野
C 1. 機械研磨・研削
C 2. 化学研磨・電解研磨
C 3. 化学エッチング・電解エッチング
C 4. 気相エッチング
C 5. 電解加工
C 6. 洗浄
C 7. その他(新技術を含む)
D．表面処理の実務に関わる分野
D 1. プロセス管理(省力・省エネルギー)
D 2. 検査・品質管理
D 3. 作業環境対策
D 4. 廃ガス・廃水・廃棄物対策
D 5. 資源リサイクル対策
D 6. 工場設備・機器・部品
D 7. その他
E．表面技術に関連する諸分野
E 1. 表面解析・表面分析
E 2. 表面物性
E 3. 表面機能応用(触媒，センサーなど)
E 4. 電析応用(金属微粉・電池など)
E 5. 腐食・防食
E 6. 微細加工プロセス(半導体など)
E 7. その他
8．第12回優秀講演賞
本賞は，秋季講演大会の講演申込み（講演種別 口頭発表）とともに応募していただいた方から，選考により若手研究者（3名以内）に授与するものです。過去，数多くの応募をいただいておりますが，特に企業サイドからの発表を歓迎いたします
  1. 対象：講演申込者からの応募を受け，その中より選考する。
  2. 資格：講演者は，平成22年4月1日現在，40歳以下の会員であること。
  3. 応募件数：1件のみ。複数の応募は出来ません。
  4. 選考：学術委員会にて選考する。
  5. 表彰件数：3名以内
  6. 表彰：会誌に掲載するとともに，次回講演大会において，賞状および副賞を贈呈する。
  7. 応募方法：応募希望者は，「講演申込」ファイルの応募欄に必要事項をご記入のうえ，講演申込締切までに本会宛お申し込みください。
＊参考：過去の授賞者
第7回
  1. 大貝　　猛 (長崎大学工学部)
  2. 邑瀬　邦明 (京都大学(院)工学研究科)
  3. 伊関　　崇 (㈱豊田中央研究所)
第8回
  1. 横島　時彦 ((独)産業技術総合研究所)
  2. 安川　智之 (東北大学(院)環境科学研究科)
  3. 河瀬　康弘 (三菱化学㈱)
第9回
  1. 天岡　俊和(横浜国立大学(院)環境情報学府)
  2. 日高　美樹(信州大学工学部)
  3. 渡辺　純貴(日本カニゼン㈱)
第10回
  1. 石原　正統((独)産業技術総合研究所)
  2. 松村　康史(新日鐵化学㈱)
  3. 村上　浩二(岡山県工業技術センター)
第11回
  1. 徳田　規夫 (金沢大学理工研究域 電子情報学系)
  2. 市毛　康裕 (長岡技術科学大学(院)工学研究科)
  3. 木下　優子 (㈱オートネットワーク技術研究所)
9．注意事項
  1. 「講演申込」ファイルによってプログラムを編成いたしますので，申込後の講演題目および研究者氏名の変更は認めません。また，一般講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことがあります。
  2. 講演の取り消しは，大会運営上，種々の支障をきたしますので，申込の際には十分留意してください。