開催要項

主催	一般社団法人表面技術協会
会期	令和2年（2020年）3月3日（火）～4日（水）
会場	首都大学東京南大沢キャンパス（東京都八王子市南大沢1-1）
	○交通・キャンパス・会場案内（PDF）
	京王線相模原線「南大沢駅」改札口から徒歩約5分

講演要旨締切	2020年01月24日（金）［厳守］
事前参加登録締切	2020年02月25日（火）［必着］

■研究発表　81件: 一般講演〈学術講演・技術講演〉，シンポジウムを含む。

■ポスター発表　75件

■依頼講演　15件

下記のように合計15件の依頼講演を企画しております。

一般講演セッション

企画：学術委員会

3月3日（火）09：30～10：15　　於：B会場

腐食抑制剤研究70年　－その中での一つの話題

慶應義塾大学名誉教授荒牧國次

Ｓ１　エネルギー関連科学技術と表面技術

企画：学術委員会

3月4日（水）09：30～10：15　　於：D会場

高エネルギー密度電池における界面とその最適化

首都大学東京大学院都市環境科学研究科金村聖志

3月4日（水）10：45～11：30　　於：D会場

ガスタービン用遮熱コーティングの特性試験方法の開発と国際標準化

首都大学東京大学院システムデザイン研究科髙橋智

3月4日（水）14：30～15：15　　於：D会場

Pd-Au合金ナノ粒子触媒による高効率水素発生・貯蔵技術

首都大学東京大学院都市環境科学研究科宍戸哲也

Ｓ２　分子膜による表面機能エンジニアリングの最前線

企画：ヘテロ界面制御部会

3月3日（火）14：30～15：15　　於：D会場

新しいナノインプリント技術print and imprintによる極限ナノ造形

東北大学多元物質科学研究所中川勝

Ｓ３　エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開

企画：表協エレクトロニクス部会

3月4日（水）10：30～11：15　　於：A会場

量子化学計算による界面反応解析とその実証計測技術開発

早稲田大学先進理工学部國本雅宏

Ｓ４　将来のめっき技術と世界情勢

企画：将来めっき技術検討部会

3月3日（火）14：30～15：15　　於：A会場

将来めっき技術検討部会の10年と今後の産業の活性化

関東学院大学理工学部小岩一郎

Ｓ５　金属・半導体のアノード酸化の基礎と機能的応用

企画：金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）

3月3日（火）14：30～15：15　　於：C会場

Perfect hexagonal anodizing: What TiO₂ nanotubes learned from Masuda-type alumina

University of Erlangen-NurembergPatrik Schmuki

3月3日（火）15：45～16：30　　於：C会場

ウェットプロセスによる表面濡れ性の制御と応用

北海道大学大学院工学研究院幅崎浩樹

3月4日（水）10：00～10：45　　於：C会場

金属援用エッチングにより形成される多孔質シリコンの構造とその応用

兵庫県立大学大学院工学研究科八重真治

3月4日（水）14：30～15：15　　於：C会場

アルミニウム電解着色の歴史と将来展望

日本軽金属(株)グループ技術センター海老原健

Ｓ６　炭素系材料の国際規格の現状

企画：材料機能ドライプロセス部会

3月3日（火）15：30～16：15　　於：B会場

国際標準（ISO）の近年の変化と金属及び無機コーティング分野の状況

元新日本製鐵(株)伊藤叡

3月3日（火）16：15～17：00　　於：B会場

DLC膜の国際標準化の動向

ナノテック(株)表面分析センター平塚傑工

Ｓ７　産業応用を志向した炭素系硬質材料の評価手法の最先端

企画：高機能トライボ表面プロセス部会

3月4日（水）09：30～10：15　　於：B会場

DLCのはく離に関する規格化について

(国研)産業技術総合研究所製造技術研究部門大花継頼

3月4日（水）10：15～11：00　　於：B会場

AEを用いた潤滑下におけるDLC膜の密着力評価試験方法のISO規格化

宇都宮大学大学院地域創生科学研究科馬渕豊

■特別講演・第91回武井記念講演会

日時：3月3日（火）13：05～14：05　　於：E会場

めっき技術の環境課題と用途展開

元(地独)大阪産業技術研究所藤原裕

■令和2年度協会賞受賞記念講演会

日時：3月4日（水）13：20～14：05　　於：E会場

誘起共析型合金めっきの開発とその実用化に関する研究

オテック(株)技術顧問，元 (地独)大阪府立産業技術総合研究所森河務

■令和2年度論文賞受賞記念講演会

日時：3月3日（火）09：45～10：15　　於：A会場

AFM, QCM-Dおよびエリプソメトリーを用いた銅めっき添加剤吸着状態の解析

三菱マテリアル(株)中央研究所久保田賢治

■懇親会: 日時：3月3日（火）17：30～19：30
場所：学内生協食堂

■「第21回優秀講演賞／第8回学生優秀講演賞」および「第26回学術奨励講演賞」授与式: 日時：3月4日（水）13：00～13：20
場所：E会場